JP4841819B2 - 物体のカラー画像による欠陥検出 - Google Patents
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Description
A.第1実施例:
B.第2実施例:
C.変形例:
図1は、本発明の一実施例としてのプリント基板検査装置100の構成を示す説明図である。このプリント基板検査装置100は、プリント基板PCBを照明するための光源20と、プリント基板PCBの画像を撮影する撮像部30と、装置全体の制御を行うコンピュータ40とを備えている。コンピュータ40には、各種のデータやコンピュータプログラムを格納する外部記憶装置50が接続されている。
図9は、第2実施例におけるプリント基板PCBの欠陥を検出する手順を示すフローチャートである。図9のフローチャートは、ステップS200,S300の間に2つのステップS310,S320が追加されている点で、図3に示すフローチャートと異なっている。他は、図3と同じである。
なお、この発明は上記実施例や実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のような変形も可能である。
上記各実施例では、特別処理領域を穴領域の周囲に設定にしているが、穴領域以外の特定の領域を抽出し、その周囲に特別処理領域を設定することもできる。この場合、特定の領域は、カラー画像IMの領域分割により生成された特定の色の領域の抽出や、CADデータからの特定の領域の位置や形状の取得等により取得することができる。なお、特定領域としては、カラー画像中で所定の色(例えば、黒)を有する領域を選択することが好ましい。
上記各実施例では、隣接領域に特定の色の画素が含まれるか否かによって特別処理領域の要否を決定しているが、一般には、隣接領域の色に応じて特別処理領域の要否を決定できる。具体的には、所定の色空間内での隣接領域中の各画素の色が所定の色分布範囲外の場合に、特別処理領域を設定することも可能である。また、隣接領域が所定の複数の代表色領域のうちの2つ以上の代表色領域に跨る場合に、特別処理領域を設定するものとしても良い。ここで「代表色領域」とは、複数の代表色を用いた領域分割によってカラー画像から生成される個々の代表色に対応する画像上の領域である。この場合、隣接領域が2つ以上の代表色領域に跨るか否かは、予めカラー画像の領域分割を行い、隣接領域に含まれる代表色領域の数が2以上であるか否かで判断できる。
上記各実施例では、図3のステップS500において、特別処理領域検査部250(図1)が、特別処理領域中の欠陥検出処理を行っているが、特別処理領域中の欠陥検出処理を省略しても良い。すなわち、特別処理領域と穴領域とを併せたマスク領域は欠陥検出処理されず、マスク領域外の領域は欠陥検出処理される。
上記各実施例では、各穴領域ごとに決定される特別処理領域の要否に応じてマスク領域(=穴領域+特別処理領域)を設定しているが、一般には、隣接領域の色に応じてマスク領域の大きさを変えることができればよい。この場合、マスク領域は、隣接領域に特定の色の画素が含まれる場合に大きく設定され、隣接領域に特定の色の画素が含まれない場合には小さく設定されることが好ましい。
上記各実施例では、穴領域を用いて特別処理領域を設定しているが、穴領域とは無関係に、所定の条件を満たす領域を特別処理領域に設定するものとしてもよい。所定の条件を満たす領域としては、例えば、プリント基板PCBの金メッキ領域RGPのように、予め定められた位置や形状の領域や、穴領域の周囲の所定の色を有する領域とすることができる。
本発明による特別処理領域の設定と、特別処理領域中の欠陥の検出とは、プリント基板に限らず、検査対象物を撮影したカラー画像上での色の許容範囲が互いに異なる画像領域を有する任意の物体の欠陥検出に対して適用できる。例えば、パターンの形成された半導体ウェハや、複雑な形状を有する機械部品などの検査対象物を撮影したカラー画像を用いたこれらの検査対象物の欠陥検出にも適用することができる。
30…撮像部
40…コンピュータ
50…外部記憶装置
100…プリント基板検査装置
210…画像取得部
220…穴領域取得部
230…隣接領域取得部
240…特別処理領域設定部
250…特別処理領域検査部
260…マスク外領域検査部
PCB…プリント基板
Claims (2)
- 穴を有するプリント基板であって前記穴の周囲に配線パターンが設けられているとともに前記配線パターン上にレジストが塗布されたプリント基板を撮影したカラー画像を用いて、前記プリント基板の欠陥を検出する方法であって、
(a)前記カラー画像の中から、前記プリント基板の穴に相当する特定領域を取得する工程と、
(b)前記特定領域とは別に、前記特定領域の周囲の隣接領域を取得する工程と、
(c)前記隣接領域に所定の色の画素が存在する場合、前記特定領域の周囲を包含する特別処理領域を設定し、前記特定領域と前記特別処理領域とを含むマスク領域を設定する工程と、
(d)前記カラー画像のうち前記マスク領域以外の領域について、所定の欠陥検出処理を行う工程と、
を備え、
前記特定領域は前記プリント基板に設けられた穴を表す穴領域であり、
前記マスク領域の大きさは、前記隣接領域に前記所定の色の画素が含まれている場合に拡大され、
前記特別処理領域について、前記所定の欠陥検出処理よりも色の許容範囲が広い特別の欠陥検出処理を行う、方法。 - 穴を有するプリント基板であって前記穴の周囲に配線パターンが設けられているとともに前記配線パターン上にレジストが塗布されたプリント基板を撮影したカラー画像を用いて、前記プリント基板の欠陥を検出する装置であって、
前記カラー画像の中から、前記プリント基板の穴に相当する特定領域を取得する特定領域取得部と、
前記特定領域とは別に、前記特定領域の周囲の隣接領域を取得する隣接領域取得部と、
前記隣接領域に所定の色の画素が存在する場合、前記特定領域の周囲を包含する特別処理領域を設定し、前記特定領域と前記特別処理領域とを含むマスク領域を設定するマスク領域設定部と、
前記カラー画像のうち前記マスク領域以外の領域について、所定の欠陥検出処理を行うマスク領域外検査部と、
を備え、
前記特定領域は前記プリント基板に設けられた穴を表す穴領域であり、
前記マスク領域設定部は、前記マスク領域の大きさを、前記隣接領域に前記所定の色の画素が含まれている場合に拡大し、
前記マスク領域外検査部は、前記特別処理領域について、前記所定の欠陥検出処理よりも色の許容範囲が広い特別の欠陥処理を行う、装置。
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