JP6134383B2 - 可視パターンを有する透明な又は半透明な容器を検査するための光学的方法 - Google Patents
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Description
前記ビジョンシステムを通過して進む前記容器を照らす工程と、
前記ビジョンシステムを通過して進む各容器の少なくとも1つのイメージを形成する工程であって、各イメージが所定の数の画素を有し、かつ、各画素が個別の明度レベルを有する、工程と、
前記容器の前記イメージにおいて、検査対象の少なくとも1つの可視パターンを含む少なくとも1つの処理ゾーンと、少なくとも1つのマーカー可視パターンが出現する少なくとも1つの探索ゾーンとを決定する工程と、
少なくとも前記イメージの前記処理ゾーンのためのデジタルマスク準備する工程と、
前記容器の前記イメージにおける前記探索ゾーンの前記マーカー可視パターンの位置及び向きを決定する工程と、
前記デジタルマスク又は前記処理ゾーンに対して、前記マスク及び前記処理ゾーンが処理ステップの期間中にそれらが一致する位置に配置されるように、幾何学的な変換であって、前記マーカー可視パターンの位置及び向きの関数である変換を適用する工程と、
前記処理ゾーンの各画素に対して、前記容器における欠陥の存在を検出するために、イメージ処理であって、前記デジタルマスクの一致する画素の明度の値に従属する処理を適用する工程と、
前記デジタルマスクをアップデートする工程であって、
前記容器の少なくとも1つのイメージを考慮すること、及び
前記イメージに応じて前記デジタルマスクを変更すべきか否か決めることによって行われ、前記マスクの前記変更は、
前記イメージの前記処理ゾーンにおける検査対象の前記可視パターンの位置及び向きを決定する工程と、
前記イメージの前記処理ゾーン又は前記マスクに対して、前記マスク及び前記処理ゾーンをそれらが一致する位置に配置できるように幾何学的な変換を適用する工程と、
前記デジタルマスクをアップデートするために少なくとも前記イメージの前記処理ゾーンと前記マスクとを融合する工程と、を備える、工程と、を備える。
容器の少なくとも1つのイメージから、初期化ステップにおいて前記デジタルマスクを準備すること、
前記処理ゾーンの各画素に対して、イメージ処理であって、前記処理ゾーンの各画素が前記デジタルマスクの一致する画素と比較される処理を適用すること、
前記可視パターンにおける欠陥を検出するために前記イメージを解析すること、
前記幾何学的な変換として、平行移動及び/又は回転及び/又はアナモルフォーシス(une anamorphose)を適用すること、及び
前記処理ステップに先立って、前記容器の撮られた前記イメージにフィルタリングするステップを行い、前記マスクをアップデートする工程において、前記フィルタリングするステップが適用された前記イメージを考慮すること。
p(x,y)−m(x,y)
p(x,y)/m(x,y)
a*p(x,y)+b*m(x,y)、ここで、a及びbは係数である。
容器2の少なくとも1つのイメージを考慮すること、
少なくとも前記イメージの探索ゾーンZrにおける可視パターン3(マーカー)の位置及び向きを決定すること、
前記マーカー可視パターン3の位置及び向きの関数である幾何学的な変換を、処理ゾーンZt及びデジタルマスクがこれらが一致する位置に配置されるように、前記イメージの処理ゾーンZt又は前記マスクに適用すること、及び
前記デジタルマスクMiをアップデートするために、少なくとも前記イメージの前記処理ゾーン及びデジタルマスクを融合すること、によって
デジタルマスクMiを調整する工程を備える。
Claims (7)
- 少なくとも1つの可視パターン(3)を含む、透明な又は半透明な材料でできた容器(2)を検査するためのビジョンシステム(1)を用いる光学的な方法であって、
前記ビジョンシステム(1)を通過して進む前記容器(2)を照らす工程と、
前記ビジョンシステム(1)を通過して進む各容器(2)の少なくとも1つのイメージ(Ii)を形成する工程であって、各イメージが所定の数の画素を有し、かつ、各画素が個別の明度レベルを有する、工程と、
前記容器の前記イメージにおいて、検査対象の少なくとも1つの可視パターンを含む少なくとも1つの処理ゾーン(Zt)と、少なくとも1つのマーカー可視パターン(3)が出現する少なくとも1つの探索ゾーン(Zr)とを決定する工程と、
少なくとも前記イメージの前記処理ゾーン(Zt)のためのデジタルマスク(Mi)を準備する工程と、
前記容器の前記イメージの前記探索ゾーン(Zr)における前記マーカー可視パターン(3)の位置及び向きを決定する工程と、
前記デジタルマスク(Mi)又は前記処理ゾーン(Zt)に対して、前記マスク(Mi)及び前記処理ゾーン(Zt)が処理ステップの期間中にそれらが一致する位置に配置されるように、幾何学的な変換であって、前記マーカー可視パターン(3)の位置及び向きの関数である変換を適用する工程と、
前記処理ゾーン(Zt)の各画素に対して、前記容器における欠陥の存在を検出するために、イメージ処理であって、前記デジタルマスク(Mi)の一致する画素の明度の値に従属する処理を適用する工程と、
前記デジタルマスク(Mi)をアップデートする工程であって、
前記容器(2)の少なくとも1つのイメージ(Ii)を考慮すること、及び
前記イメージに応じて前記デジタルマスクを変更すべきか否か決めることによって行われ、前記マスクの前記変更は、
前記イメージの前記処理ゾーン(Zt)における検査対象の前記可視パターン(3)の位置及び向きを決定する工程と、
前記イメージの前記処理ゾーン(Zt)又は前記マスクに対して、前記マスク(Mi)及び前記処理ゾーン(Zt)をそれらが一致する位置に配置できるように幾何学的な変換を適用する工程と、
前記デジタルマスク(Mi)をアップデートするために少なくとも前記イメージの前記処理ゾーン(Zt)と前記マスクとを融合する工程と、を備える、工程と、を備える、
方法。 - 容器の少なくとも1つのイメージから、初期化ステップにおいて前記デジタルマスクを準備する工程を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記処理ゾーン(Zt)の各画素に対して、イメージ処理であって、前記処理ゾーン(Zt)の各画素を前記デジタルマスクの前記一致する画素と対比する処理を適用する工程を備える、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記可視パターンにおいて欠陥を検出するために前記イメージを解析する工程を備える、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記幾何学的な変換として、平行移動及び/又は回転を適用する工程を備える、請求項1及び2に記載の方法。
- 前記幾何学的な変換として、アナモルフォーシスを適用する工程を備える、請求項1及び2に記載の方法。
- 前記処理ステップに先立って、前記容器の撮られた前記イメージに対してフィルタリングするステップを行う工程と、前記マスクをアップデートする工程において前記フィルタリングするステップが適用された前記イメージを考慮する工程と、を備える、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
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