JP2015522064A - 化粧料組成物 - Google Patents
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- GUNGQVJAKLIYDG-JXMROGBWSA-N COc(cc1)cc(O)c1C(/C=C/c1ccccc1)=O Chemical compound COc(cc1)cc(O)c1C(/C=C/c1ccccc1)=O GUNGQVJAKLIYDG-JXMROGBWSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
(i)平均粒径が100nm超1μm未満、好ましくは600nm未満、より好ましくは400nm未満の少なくとも1種の小型粒子を含み、小型粒子の表面が、少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター及び場合により少なくとも1種の着色顔料を含む少なくとも1つの被覆層、好ましくは少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター、より好ましくは少なくとも1種の固体無機UVフィルターを含む少なくとも1つの被覆層によって少なくとも部分的に覆われている、少なくとも1種の複合顔料と、
(ii)組成物の全質量に対して1質量%を超える量の、屈折率が1.6超2.2未満の少なくとも1種の板状フィラーと
を含む化粧料組成物によって実現できる。
大型粒子は、少なくとも1種のポリ(メタ)アクリレート、好ましくはメチルメタクリレートポリマーを含んでよく、
小型粒子及び大型粒子は、金属酸化物、好ましくは酸化チタンを含む少なくとも1つの被覆層によって少なくとも部分的に覆われていてよい。
平均粒径が100nm超1μm未満、好ましくは600nm未満、より好ましくは400nm未満の少なくとも1種の小型粒子、
少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター、並びに
場合により少なくとも1種の着色顔料及び/又は少なくとも1種の追加のUVフィルターを、
機械化学的融合プロセスにかける工程によって得ることができる。
平均粒径が100nm超1μm未満、好ましくは600nm未満、より好ましくは400nm未満の少なくとも1種の小型粒子、
平均粒径が2μm以上、好ましくは3μm以上、より好ましくは4μm以上、更により好ましくは5μm以上の少なくとも1種の大型粒子、
少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター、並びに
場合により少なくとも1種の着色顔料及び/又は少なくとも1種の追加のUVフィルターを、
機械化学的融合プロセスにかける工程によって得ることができる。
(i)平均粒径が100nm超1μm未満、好ましくは600nm未満、より好ましくは400nm未満の少なくとも1種の小型粒子を含み、小型粒子の表面が、少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター及び場合により少なくとも1種の着色剤を含む少なくとも1つの被覆層、好ましくは少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター、より好ましくは少なくとも1種の固体無機UVフィルターを含む少なくとも1つの被覆層によって少なくとも部分的に覆われている、少なくとも1種の複合顔料と、
(ii)屈折率が1.6超2.2未満の、組成物の全質量に対して1質量%を超える量の少なくとも1種の板状フィラーと
を含む。
本発明による化粧料組成物は、少なくとも1種の小型粒子を少なくとも含む少なくとも1種の特定の複合顔料を含み、小型粒子の表面は、少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルターを含む少なくとも1つの被覆層によって少なくとも部分的に覆われている。
本発明に使用する複合顔料の小型コア粒子は、小型コア粒子が100nm超1μm未満、好ましくは600nm未満、より好ましくは400nm未満の平均粒径又は平均粒子直径を有する限り、限定されない。小型コア粒子は、固体又は中空粒子、好ましくは中空粒子の形態であってよい。
小型コア粒子は、少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター、好ましくは少なくとも1種の固体無機UVフィルターを含む少なくとも1つの層によって少なくとも部分的に覆われている。前記層を被覆層と呼ぶ場合もある。小型コア粒子の表面の10%以上が被覆層によって覆われ得ることが好ましい。小型コア粒子の表面の50%以上が被覆層によって覆われ得ることがより好ましい。小型コア粒子の80%以上が被覆層によって覆われ得ることがより好ましい。小型コア粒子の全表面が被覆層によって覆われ得ることが最も好ましい。
上記の通り、小型コア粒子上の被覆層は、少なくとも1種の固体無機UVフィルターを含んでもよい。2種以上の固体無機UVフィルターを使用する場合、それらは同じものでも異なってもよく、同じものであることが好ましい。
池田物産株式会社の「Sunveil」という製品等の、シリカで被覆された酸化チタン;
池田物産株式会社の「Sunveil F」という製品等の、シリカ及び酸化鉄で被覆された酸化チタン;
テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT 500 SA」、Tioxideの製品「Tioveil」、及びRhodiaの製品「Mirasun TiW 60」等の、シリカ及びアルミナで被覆された酸化チタン;
石原産業株式会社の製品「Tipaque TTO-55 (B)」及び「Tipaque TTO-55 (A)」、並びにKemiraの製品「UVT 14/4」等の、アルミナで被覆された酸化チタン;
テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT 100 T、MT 100 TX、MT 100 Z又はMT-01」、Uniqemaの製品「Solaveil CT-10 W」及び「Solaveil CT 100」並びにMerckの製品「Eusolex T-AVO」等の、アルミナやステアリン酸アルミニウムで被覆された酸化チタン;
テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT 100 S」等の、アルミナやラウリン酸アルミニウムで被覆された酸化チタン;
テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT 100 F」等の、酸化鉄やステアリン酸鉄で被覆された酸化チタン;
テイカ株式会社の製品「BR351」等の、酸化亜鉛やステアリン酸亜鉛で被覆された酸化チタン;
テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT 600 SAS」、「Microtitanium Dioxide MT 500 SAS」、及び「Microtitanium Dioxide MT 100 SAS」等の、シリカやアルミナで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
チタン工業株式会社の製品「STT-30-DS」等の、シリカ、アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
Kemiraの製品「UV-Titan X 195」等の、シリカで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
石原産業株式会社の製品「Tipaque TTO-55 (S)」又はKemiraの製品「UV Titan M 262」等の、アルミナで被覆され、シリコーンで処理された酸化チタン;
チタン工業株式会社の製品「STT-65-S」等の、トリエタノールアミンで被覆された酸化チタン;
石原産業株式会社の製品「Tipaque TTO-55 (C)」等の、ステアリン酸で被覆された酸化チタン;或いは
テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT 150 W」等の、ヘキサメタリン酸ナトリウムで被覆された酸化チタンであってよい。
平均一次粒子直径が15nmの、テイカ株式会社の製品「MT-100 TV」等のステアリン酸(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2、
平均一次粒子直径が15nmの、三好化成株式会社の製品「SA-TTO-S4」等のジメチコン(及び)ステアリン酸(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2、
平均一次粒子直径が15nmの、テイカ株式会社の製品「MT-100 WP」等のシリカ(及び)TiO2、
平均一次粒子直径が10nmの、テイカ株式会社の製品「MT-Y02」及び「MT-Y-110 M3S」等のジメチコン(及び)シリカ(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2、
平均一次粒子直径が15nmの、三好化成株式会社の製品「SA-TTO-S3」等のジメチコン(及び)水酸化アルミニウム(及び)TiO2、
平均一次粒子直径が15nmの、Sachtlebenの製品「UV TITAN M170」等のジメチコン(及び)アルミナ(及び)TiO2、
平均一次粒子直径が15nmの、テイカ株式会社の製品「MT-100 AQ」等のシリカ(及び)水酸化アルミニウム(及び)アルギン酸(及び)TiO2。
Sunsmartにより「Z-cote」の商標で市販されているもの、
Elementisにより「Nanox」の商標で市販されているもの、及び
Nanophase Technologiesにより「Nanogard WCD 2025」の商標で市販されているもの
である。
株式会社東芝により「Oxide Zinc CS-5」の商標で市販されているもの(ポリメチルヒドロシロキサンで被覆されているZnO)、
Nanophase Technologiesにより「Nanogard Zinc Oxide FN」の商標で(C12〜C15安息香酸アルキルであるFinsolv TN中40%分散液として)市販されているもの、
大東化成工業株式会社により「Daitopersion Zn-30」及び「Daitopersion Zn-50」の商標で市販されているもの(シリカ及びポリメチルヒドロシロキサンで被覆されている亜鉛ナノオキシドを30%又は50%含む、オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン/シクロポリメチルシロキサン分散液)、
ダイキン工業株式会社により「NFD Ultrafine ZnO」の商標で市販されているもの(シクロペンタシロキサン分散液としての、ペルフルオロアルキルのリン酸エステル及びペルフルオロアルキルエチルをベースとしたコポリマーで被覆されているZnO)、
信越化学工業株式会社により「SPD-Z1」の商標で市販されているもの(シリコーングラフトアクリルポリマーで被覆されているZnOをシクロジメチルシロキサンに分散させたもの)、
ISPにより「Escalol Z100」の商標で市販されているもの(メトキシケイ皮酸エチルヘキシル/PVP-ヘキサデセンコポリマー/メチコーン混合物に分散させたアルミナ処理ZnO)、及び
冨士色素株式会社により「Fuji ZnO-SMS-10」の商標で市販されているもの(シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンで被覆されているZnO)、Elementisにより「Nanox Gel TN」の商標で市販されているもの(ヒドロキシステアリン酸重縮合物を含有するC12〜C15安息香酸アルキルに55%で分散させたZnO)
である。
上記の通り、小型コア粒子上の被覆層は、少なくとも1種の粒子状固体有機UVフィルターを含んでよい。2種以上の粒子状固体有機UVフィルターを使用する場合、それらは同じものでも異なってもよく、同じものであることが好ましい。用語「UVフィルター」は、「UV遮蔽剤」に言い換えることができる。
- 2,4,6-トリス(ジエチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
- 2,4,6-トリス(ジイソプロピル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
- 2,4,6-トリス(ジメチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
- 2,4,6-トリス(エチルα-シアノ-4-アミノケイ皮酸)-s-トリアジン。
- 2,4,6-トリス[(3'-(ベンゾトリアゾール-2-イル)-2'-ヒドロキシ-5'-メチル)フェニルアミノ]-s-トリアジン、
- 2,4,6-トリス[(3'-(ベンゾトリアゾール-2-イル)-2'-ヒドロキシ-5'-tert-オクチル)フェニルアミノ]-s-トリアジン。
ジフェニルメタン(Fairmount Chemical社よりMixxim PB30の名称で販売され、以下の構造を持つ)を挙げることができる:
R9-(Y)m-CO-C(R10)=C(R11)-N(R12)(R13) (34)
[式中、R9は、C1〜C18アルキル、好ましくはC1〜C5アルキル、又はOH、C1〜C18アルキル、C1〜C18アルコキシ、若しくはR6がその先述の意味を有するCO-OR6から選択される1、2若しくは3個の置換基で場合により置換されているフェニルであり;R10、R11、R12及びR13は、同じものであるか又は異なり、それぞれ、C1〜C18アルキル、好ましくはC1〜C5アルキル、又は水素であり;YはN又はOであり;mは、その先述の意味を有する]。
各Z記号は、独立に、窒素原子又はCH基を表し、
各R1記号は、独立に、OH基、ハロゲン原子、場合によりケイ素原子を含む直鎖状若しくは分枝状C1〜8アルキル基、又は直鎖状若しくは分枝状C1〜8アルコキシ基を表し、
各数値mは、独立に、0、1又は2の値を有し、
nは、両端を含む1〜4の整数を表し、
pは0又は1に等しく、
各数値qは、独立に、0又は1に等しく、
各R2記号は、独立に、水素原子又はベンジル基、又は場合によりケイ素原子を含む直鎖状若しくは分枝状C1〜8アルキル基を表し、
Aは、次式のものから選択される原子価nを有する基を表す]:
R4は、水素原子又は直鎖状若しくは分枝状C1〜4アルキル基を表し、c=0〜4、d=0〜3、e=0又は1、及びf=0〜2である]。
n'=1又は2であり、
Bは、n'=1の場合の式(10)で、若しくは式(11)で、次式(a')〜(d')から選択されるアリール基である、又はn'=2の場合の式(10)で、次式(e')〜(h')から選択される基である]:
各R8記号は、独立に、OH基、ハロゲン原子、場合によりケイ素原子を含む直鎖状若しくは分枝状C1〜6アルキル基、場合によりケイ素原子を含む直鎖状若しくは分枝状C1〜6アルコキシ基、直鎖状若しくは分枝状C1〜5アルコキシカルボニル基、又は場合によりケイ素原子若しくはアミノ酸官能基を含む直鎖状若しくは分枝状C1〜6アルキルスルホンアミド基を表し、
p'は、両端を含む0〜4の整数を表し、
q'は、0又は1を表し、
R5は、水素又はOH基を表し、
R6は、水素、場合によりケイ素原子を含む直鎖状若しくは分枝状C1〜6アルキル基、シアノ基、C1〜6アルキルスルホニル基、又はフェニルスルホニル基を表し、
R7は、場合によりケイ素原子又は二環を形成可能なフェニル基を含み、場合により1個又は2個のR4基で置換される直鎖状又は分枝状C1〜6アルキル基を表す、
或いはR6及びR7は共同して、一環、二環又は三環のC2〜10炭化水素性残基を形成し、これは、場合により1個以上の窒素原子、硫黄原子及び酸素原子によって遮断され、別のカルボニルを含むことができ、場合により直鎖状又は分枝状C1〜C8アルキルスルホンアミド基で置換され、場合によりケイ素原子又はアミノ酸官能基を含むが、但しn'=1の場合、R6及びR7はショウノウ環(camphor nucleus)を形成しない]。
- 出願JP04134042に開示されているスチリルケトンタイプの化合物、例えば1-(3,4-ジメトキシフェニル)-4,4-ジメチルペンタ-1-エン-3-オン:
- ビス(ベンジリデン)シクロアルカノンタイプの化合物、例えば2,5-ジ(ベンジリデン)シクロペンタノン:
各R9記号は、独立に、OH基、ハロゲン原子、場合によりケイ素原子を含む直鎖状若しくは分枝状C1〜6アルキル基、場合によりケイ素原子を含む直鎖状若しくは分枝状C1〜6アルコキシ基、直鎖状若しくは分枝状C1〜5アルコキシカルボニル基、又は場合によりケイ素原子若しくはアミノ酸官能基を含む直鎖状若しくは分枝状C1〜6アルキルスルホンアミド基を表し、
p''は、両端を含む0〜4の整数を表し、
q''は、0又は1を表す]。
- 2,2'-p-フェニレンビス(3,1-ベンゾオキサジン-4-オン)(Cytec社製の市販製品Cyasorb UV-3638)、
- 2,2'-(4,4'-ビフェニレン)ビス(3,1-ベンゾオキサジン-4-オン)、
- 2,2'-(2,6-ナフチレン)ビス(3,1-ベンゾオキサジン-4-オン)。
R10は、直鎖状又は分枝状のC1〜8アルキル基を表し、
n'''は、0、1又は2の値を有し、
X2は、式-(C=O)-R11-(C=O)-、-SO2-R11-SO2-又は-(C=O)-O-R11-O-(C=O)-の二価の基を表し、
Yは、a-(C=O)-R12基又は-SO2R13基を表し、
R11は、単結合、又は1個以上のヒドロキシル置換基を保有することができ、炭素系鎖の中に、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を含むことができる、直鎖状若しくは分枝状の二価のC1〜C30アルキレン基若しくはC3〜C30アルケニレン基を表し、
R12は、-OR14基又は-NHR14基を表し、
R13は、非置換又はC1〜C4アルキル基若しくはアルコキシ基で置換される、直鎖状若しくは分枝状C1〜C30アルキル基又はフェニル環を表し、
R14は、1個以上のヒドロキシル置換基を保有することができ、炭素系鎖の中に、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選択される1個以上のヘテロ原子を含むことができる、直鎖状又は分枝状のC1〜C30アルキル基又はC3〜C30アルケニレン基を表す。
上記の通り、小型コア粒子上の被覆層は、少なくとも1種の着色顔料を含んでもよい。
上記の通り、小型コア粒子上の被覆層は、少なくとも1種の追加のUVフィルターを更に含んでもよい。2種以上の追加のUVフィルターを使用する場合、それらは同じものでも異なってもよく、同じものであることが好ましい。
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、ホモサレート、サリチル酸エチルヘキシル、オクトクリレン、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、ベンゾフェノン-3、ベンゾフェノン-4、ベンゾフェノン-5、n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、4-メチルベンジリデンカンフル、テレフタリリデンジカンフルスルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、エチルヘキシルトリアゾン、ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ポリシリコーン-15、4'-メトキシベンザルマロン酸ジネオペンチル、1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、及び、これらの混合物。より好ましい液体有機UVフィルターは、ブチルメトキシジベンゾイルメタン(アボベンゾン)である。
- ケイ皮酸誘導体:特にHoffmann-La Roche社により「Parsol MCX」の商標で市販されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル;メトキシケイ皮酸イソプロピル;メトキシケイ皮酸イソプロポキシ;Haarmann and Reimer社により「Neo Heliopan E 1000」の商標で市販されているメトキシケイ皮酸イソアミル;シノキサート(4-メトキシケイ皮酸-2-エトキシエチル);メトキシケイ皮酸DEA;メチルケイ皮酸ジイソプロピル;及びジメトキシケイ皮酸エチルヘキサン酸グリセリル。
- サリチル酸誘導体:Rona/EM Industries社により「Eusolex HMS」の商標で市販されているホモサラート(サリチル酸ホモメンチル);Haarmann and Reimer社により「Neo Heliopan OS」の商標で市販されているサリチル酸エチルヘキシル;サリチル酸グリコール;サリチル酸ブチルオクチル;サリチル酸フェニル;Scher社により「Dipsal」の商標で市販されているサリチル酸ジプロピレングリコール;及びHaarmann and Reimer社により「Neo Heliopan TS」の商標で市販されているサリチル酸TEA。
- β,β-ジフェニルアクリレート誘導体:特にBASF社により「Uvinul N539」の商標で市販されているオクトクリレン;及び特にBASF社により「Uvinul N35」の商標で市販されているエトクリレン。
- ベンザルマロネート官能基を含むポリオルガノシロキサン、例えば、Hoffmann-LaRoche社により「Parsol SLX」の商標で市販されているポリシリコーン-15。
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、ホモサラート、サリチル酸エチルヘキシル、オクトクリレン、ポリシリコーン-15から選択してよい。
本発明で使用する複合顔料は、少なくとも1種の大型コア粒子を更に含んでもよい。複合顔料は、少なくとも1種の大型コア粒子を含むことが好ましい。
小型粒子は、少なくとも1種のコポリスチレン、好ましくはスチレン/アクリレートコポリマー、及び/又は架橋スチレン/メチルメタクリレートコポリマーを含み、
大型粒子は、少なくとも1種のポリ(メタ)アクリレート、好ましくはメチルメタクリレートポリマーを含み、
小型粒子及び大型粒子は、酸化チタン等の金属酸化物から選択される固体無機UVフィルターを含む少なくとも1つの被覆層によって少なくとも部分的に覆われている。
本発明で使用する複合顔料の一実施形態は、
平均粒径が100nm超1μm未満、好ましくは600nm未満、より好ましくは400nm未満の少なくとも1種の小型粒子、
少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター、並びに
場合により少なくとも1種の着色顔料及び/又は少なくとも1種の追加のUVフィルターを、
機械化学的融合プロセスにかける工程によって準備することができる。
平均粒径が100nm超1μm未満、好ましくは600nm未満、より好ましくは400nm未満の少なくとも1種の小型粒子、
平均粒径が2μm以上、好ましくは3μm以上、より好ましくは4μm以上、更により好ましくは5μm以上の少なくとも1種の大型粒子、
少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター、並びに
場合により少なくとも1種の着色顔料及び/又は少なくとも1種の追加のUVフィルターを、
機械化学的融合プロセスにかける工程によって得ることができ、これにより準備できる。
本発明による化粧料組成物は、屈折率が1.6超2.2未満の、組成物の全質量に対して1質量%を超える量の少なくとも1種の板状フィラーを含む。
本発明による化粧料組成物は、少なくとも1種の追加のフィラー及び/又は少なくとも1種の油を更に含んでもよい。
本発明の別の態様は、上記の本発明による化粧料組成物を使用する化粧方法である。
日本の株式会社奈良機械製作所により市販されている、乾燥条件にあるチャンバー中に複数の刃を有する高速ローターを備えたハイブリダイザーを使用して、表1に示す成分をハイブリダイザープロセスにかけて、複合顔料を得た。
顔料実施例1〜4及び対照による各複合顔料の紫外波の吸光度は、V-550型紫外可視分光光度計(日本分光株式会社、日本)を使用して以下の通りに測定した。
化粧ベースは、表2及び表3に示す成分を混合して調製した。別段言及しない限り、表2及び表3における値は、組成物の全質量に対する質量%として表される。
実施例1及び2並びに比較例1〜5による各化粧ベース0.1gを6名の評価者の皮膚に適用し、それぞれの化粧ベースの美容的効果(即ち、皮膚の美白効果及び色の均質性)を専門家によって評価し、比較した。
実施例1及び2並びに比較例1〜5による各化粧ベースを、供給業者の勧告に従ってBiofuge Stratos(ヘレウス株式会社)を使用して遠心分離にかけた。各化粧ベース1gを、内部体積が15mlの管に詰め、25℃の温度で、900g(2743rpm)の相対遠心力で60分間遠心分離にかけた。化粧ベースの相分離(管の底に粒子が沈殿する)が専門家によって評価された。6名の評価者による評価を平均した。結果を表4に示す。
TWCファンデーションは、表5に示す成分を混合して調製した。別段言及しない限り、表5における値は、組成物の全質量に対する質量%として表される。
エアゾールフォームは、表6に示す成分を混合して調製した。別段言及しない限り、表6における値は、組成物の全質量に対する質量%として表される。
ルースパウダーは、表7に示す成分を混合して調製した。別段言及しない限り、表7における値は、組成物の全質量に対する質量%として表される。
Claims (17)
- (i)平均粒径が100nm超1μm未満、好ましくは600nm未満、より好ましくは400nm未満の少なくとも1種の小型粒子を含み、小型粒子の表面が、少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター及び場合により少なくとも1種の着色剤を含む少なくとも1つの被覆層、好ましくは少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター、より好ましくは少なくとも1種の固体無機UVフィルターを含む少なくとも1つの被覆層によって少なくとも部分的に覆われている、少なくとも1種の複合顔料と、
(ii)組成物の全質量に対して1質量%を超える量の、屈折率が1.6超2.2未満の少なくとも1種の板状フィラーと
を含む、化粧料組成物。 - 前記小型粒子が小型中空粒子である、請求項1に記載の化粧料組成物。
- 前記複合顔料が、平均粒径が2μm以上、好ましくは3μm以上、より好ましくは4μm以上、更により好ましくは5μm以上の少なくとも1種の大型粒子を更に含み、大型粒子の表面が、場合により、少なくとも1種の粒子状固体無機若しくは有機UVフィルター及び/又は少なくとも1種の着色顔料を含む少なくとも1つの被覆層によって少なくとも部分的に覆われている、請求項1又は2に記載の化粧料組成物。
- 前記小型粒子及び/又は前記大型粒子上の被覆層が、1nm〜50nm、好ましくは5nm〜40nm、より好ましくは10nm〜30nmの厚さを有する、請求項1から3のいずれか一項に記載の化粧料組成物。
- 前記固体無機UVフィルターが、炭化ケイ素、金属酸化物、及び、これらの混合物からなる群から選択される、請求項1から4のいずれか一項に記載の化粧料組成物。
- 前記固体無機UVフィルターが二酸化チタンである、請求項1から5のいずれか一項に記載の化粧料組成物。
- 前記固体無機UVフィルターが、1nm〜50nm、好ましくは5nm〜40nm、より好ましくは10nm〜30nmの平均粒径を有する、請求項1から6のいずれか一項に記載の化粧料組成物。
- 前記小型粒子又は前記大型粒子が、ポリ(メタ)アクリレート、ポリアミド、シリコーン、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、コポリスチレン、ポリヒドロキシアルカノエート、ポリカプロラクタム、ポリ(ブチレン)スクシネート、多糖、ポリペプチド、ポリビニルアルコール、ポリビニル樹脂、フルオロポリマー、蝋、アミドスルホン酸多価金属塩、アシル化アミノ酸、及び、これらの混合物からなる群から有利に選択される少なくとも1種の無機材料及び/又は少なくとも1種の有機材料、好ましくは少なくとも1種の有機材料を含む、請求項3から7のいずれか一項に記載の化粧料組成物。
- 前記小型粒子が、少なくとも1種の有機ポリマー、特に少なくとも1種のコポリスチレン、好ましくはスチレン/アクリレートコポリマー及び/又は架橋スチレン/メチルメタクリレートコポリマーを含む、請求項1から8のいずれか一項に記載の化粧料組成物。
- 前記小型粒子が、少なくとも1種のコポリスチレン、好ましくはスチレン/アクリレートコポリマー、及び/又は架橋スチレン/メチルメタクリレートコポリマーを含み、
大型粒子が、少なくとも1種のポリ(メタ)アクリレート、好ましくはメチルメタクリレートポリマーを含み、
小型粒子及び大型粒子が、金属酸化物、好ましくは酸化チタンを含む少なくとも1つの被覆層によって少なくとも部分的に覆われている、
請求項3から9のいずれか一項に記載の化粧料組成物。 - 前記複合顔料が、
平均粒径が100nm超1μm未満、好ましくは600nm未満、より好ましくは400nm未満の少なくとも1種の小型粒子、
少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター、並びに
場合により少なくとも1種の着色顔料及び/又は少なくとも1種の追加のUVフィルターを、
機械化学的融合プロセスにかける工程によって得られる、請求項1、2及び4から10のいずれか一項に記載の化粧料組成物。 - 前記複合顔料が、
平均粒径が100nm超1μm未満、好ましくは600nm未満、より好ましくは400nm未満の少なくとも1種の小型粒子、
平均粒径が2μm以上、好ましくは3μm以上、より好ましくは4μm以上、更により好ましくは5μm以上の少なくとも1種の大型粒子、
少なくとも1種の粒子状固体無機又は有機UVフィルター、並びに
場合により少なくとも1種の着色顔料及び/又は少なくとも1種の追加のUVフィルターを、
機械化学的融合プロセスにかける工程によって得られる、請求項3から10のいずれか一項に記載の化粧料組成物。 - 屈折率1.6超2.2未満の前記板状フィラーが、組成物の1質量%〜20質量%、好ましくは組成物の全質量に対して2質量%〜10質量%の範囲の量で組成物中に存在する、請求項1から12のいずれか一項に記載の化粧料組成物。
- 屈折率1.6超2.2未満の前記板状フィラーが、窒化ホウ素、硫酸バリウム、オキシ塩化ビスマス、アルミナ、並びに、酸化チタンと、タルク、マイカ、硫酸バリウム、窒化ホウ素、オキシ塩化ビスマス、アルミナ及びこれらの混合物等の基材とをベースとする複合粉末からなる群から選択される、請求項1から13のいずれか一項に記載の化粧料組成物。
- 屈折率1.6超2.2未満の前記板状フィラーが、1〜15μm、好ましくは1〜10μmの粒径を有する、請求項1から14のいずれか一項に記載の化粧料組成物。
- 液体、粉末又はエアゾールフォームの形態である、請求項1から15のいずれか一項に記載の化粧料組成物。
- 請求項1から16のいずれか一項に記載の化粧料組成物の少なくとも1つの層の皮膚上への適用を含む、光学的明るさ及び/又は皮膚の均質性を改善する化粧方法。
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