JP2015511980A - 赤外輻射吸収物品及び製造方法 - Google Patents
赤外輻射吸収物品及び製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015511980A JP2015511980A JP2014559950A JP2014559950A JP2015511980A JP 2015511980 A JP2015511980 A JP 2015511980A JP 2014559950 A JP2014559950 A JP 2014559950A JP 2014559950 A JP2014559950 A JP 2014559950A JP 2015511980 A JP2015511980 A JP 2015511980A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- ito
- mixture
- radical
- colloidal silica
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 238
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 228
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 214
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 114
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims abstract description 106
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- -1 C1-3 alkyl radical Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 238000013019 agitation Methods 0.000 claims abstract description 11
- ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N vinyl radical Chemical group C=[CH] ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 56
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 46
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 claims description 33
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 22
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 21
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 19
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 17
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 13
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 claims description 10
- MCZDHTKJGDCTAE-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC MCZDHTKJGDCTAE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 6
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 5
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 5
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 claims description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 4
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 4
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 claims description 4
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 4
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N caproic acid ethyl ester Natural products CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 abstract 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 abstract 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 24
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 23
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 23
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 15
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 9
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 9
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 5
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 4
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- SYJPAKDNFZLSMV-HYXAFXHYSA-N (Z)-2-methylpropanal oxime Chemical compound CC(C)\C=N/O SYJPAKDNFZLSMV-HYXAFXHYSA-N 0.000 description 2
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920004142 LEXAN™ Polymers 0.000 description 2
- 239000004418 Lexan Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- QFGCFKJIPBRJGM-UHFFFAOYSA-N 12-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-12-oxododecanoic acid Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)CCCCCCCCCCC(O)=O QFGCFKJIPBRJGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQVKTHRQIXSMGY-UHFFFAOYSA-N 4-Ethylbenzoic acid Chemical compound CCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZQVKTHRQIXSMGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2H-benzotriazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2NN=NC2=C1C1=CC=CC=C1 ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical compound OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 229920000443 Xenoy Polymers 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229920000402 bisphenol A polycarbonate polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000004815 dispersion polymer Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/32—Radiation-absorbing paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/66—Additives characterised by particle size
- C09D7/67—Particle size smaller than 100 nm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/24—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2231—Oxides; Hydroxides of metals of tin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/02—Ingredients treated with inorganic substances
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/254—Polymeric or resinous material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Description
IR吸収材料の種々の組み合わせがTts及びTvisに及ぼす影響がシミュレーションされた。各IR吸収剤の吸収係数が、波長域300〜2,500nmに渡って個別に測定された。表1の各量(物品の総重量に対するmg/cm2)の添加剤の混合物について、透過スペクトルがランベルト・ベールの法則から決定された。Tvisは、透過スペクトルから、ISO9050:2003の式1及び表1を用いて決定された。日射直接透過率は、透過スペクトルから、ISO13837:2008の表2を用いて決定された。反射スペクトルは、4mmの厚さ及びシリコーンハードコートを有するポリカーボネート参照試料(即ち、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社から市販されているAS4010)について測定された。日射直接反射率は、ISO13837:2008の表2を用いて日射直接透過率と同様の方法で決定され、表1の全ての実施例に共通である。Ttsは、日射直接透過率及び日射直接反射率から、ISO13837:2008の附属書Bの式を用いて「静止した乗用車」の風速を用いて決定された。
1添加剤量は、試料表面の単位面積を、当該表面に対する垂直方向に試料中を平行移動させることによって掃引される体積中の、添加剤の総質量である。
2TtsはISO13837:2008のA法に準拠。
3TvisはISO13837:2008のA法に準拠。
4ルモゲンIR765はクアテリレン系色素である(BASF社から市販されている)。
プライマー溶液が、4.01gのポリメチルメタクリレート(PMMA)を29.36gのジアセトンアルコール及び166.53gの1‐メトキシ‐2‐プロパノールに撹拌によって溶解することによって調製された。プライマー溶液はポリカーボネート基板の両面に塗布され、室温で15分間蒸発させられ、オーブン中において125℃で0.5時間焼成された。得られたヘイズは、ASTM‐D1003‐11のA法に従ってCIE標準イルミナントCを用い、3〜5マイクロメートル(μm)の厚さにおいて測定された場合に、0.38%であった。ITOコーティング混合物が、6.37gのn‐ブタノールと9.95gのITO分散液(30wt%、イソプロピルアルコール中)とを組み合わせることによって調製された。この混合物に対して、7.3gの脱イオン水、0.4gの酢酸、及び18.3gのメチルトリメトキシシランが添加されて撹拌された。ITOコーティング混合物は、撹拌によって室温(20℃)で所与のエージング時間連続してエージングされた。エージング後のITOコーティング混合物は、同体積のコロイダルシリカコーティング混合物(例えばAS4700)と組み合わされた。組み合わされた混合物は30秒間撹拌され、室温でさらなる撹拌無しに保存された。組み合わされた混合物は、プライマーを有するポリカーボネート基板の片面に塗布され、15分間室温で放置され、オーブン中において125℃で1時間硬化された。表2に示されるように、ITOコーティング混合物の室温における撹拌によるエージング時間は、例えば得られる硬化したコーティングのヘイズが1%未満となるためには、24時間以上とすべきである。従って、室温の場合には、ITOコーティング混合物を24時間以上、具体的には48時間以上、より具体的には1週間以上、撹拌(例えば撹拌)しながらエージングすることが望ましい。
プライマーはPC基板の両面にあり、コーティングは片面にある。
プライマーを有するPC基板上のヘイズは、コーティングの塗布前には0.38%であった。
プライマーを有するポリカーボネート基板が、実施例4と同様に調製された。ITOコーティング混合物は実施例4と同様に調製された。コロイダルシリカ(CS)コーティング混合物は、表3の実施例7及び9については、クラークの米国特許第3,986,997号明細書の実施例1に従って、酸で安定化されたコロイダルシリカ(ナルコ社から市販されているナルコ1034A)をコロイダルシリカコーティング混合物として用いて調製され、エージングは2週間に変更された。コロイダルシリカ(CS)コーティング混合物は、表3の実施例8及び10については、クラークの米国特許第3,986,997号明細書の実施例2に従って、アンモニウムで安定化されたコロイダルシリカ(ナルコ社から市販されているナルコ2327)をコロイダルシリカコーティング混合物として用いて調製され、エージングは2週間に変更された。実施例4と同様に混合物が作られ、コーティングが塗布され、硬化された。
**ASTM‐D1003‐11のA法、CIE標準イルミナントC使用。
プライマーはPC基板の両面にあり、コーティングは片面にある。
プライマーを有するPC基板のヘイズは、コーティングの塗布前には0.38%であった。
シリコーンハードコートへのITO添加によって遭遇される問題の1つは、ITOを含まない同じシリコーンハードコートと比較した場合の、テーバーのΔヘイズの増大である。
**コロイダルシリカコーティング混合物(正確にはAS4700)と組み合わされる前の、ITOコーティング混合物の処理。元のITO分散液が十分に純粋である場合には、必要だとは考えられない。
***テーバー試験プロトコール:ASTM‐D1044‐08、CF‐10Fの円盤、500gの荷重、500サイクル。
Claims (21)
- 赤外輻射吸収コーティングを作るための方法であって、
ITOと第1のコーティング基剤とを含むITOコーティング混合物を作ることを含み、
前記第1のコーティング基剤は、式RnSi(OH)4−nのシラノールの部分縮合物(式中、nは1又は2に等しく、RはC1−3アルキルラジカル、ビニルラジカル、3,3,3‐トリフルオロプロピルラジカル、γ‐グリシドキシプロピルラジカル、及びγ‐メタクリルオキシプロピルラジカルから選択される)を含み、前記ITOコーティング混合物はコロイダルシリカを含まず、
コロイダルシリカと第2のコーティング基剤とを含むコロイダルシリカコーティング混合物を作ることを含み、
前記第2のコーティング基剤は、式RnSi(OH)4−nのシラノールの部分縮合物(式中、nは1又は2に等しく、Rは1〜3個の炭素原子のアルキルラジカル、ビニルラジカル、3,3,3‐トリフルオロプロピルラジカル、γ‐グリシドキシプロピルラジカル、及びγ‐メタクリルオキシプロピルラジカルから選択される)を含み、
前記ITOコーティング混合物と前記コロイダルシリカコーティング混合物とを混合して、組み合わされた混合物を作ることを含み、
前記組み合わされた混合物は、撹拌無しの2週間の後にも裸眼にとって可視の沈殿物を含まない、
ことを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記ITOコーティング混合物を作ることが、前記ITOコーティング混合物をエージングすることをさらに含むことを特徴とする、方法。 - 請求項1又は2に記載の方法であって、
ポリマー系分散剤が、前記ITOコーティング混合物、コロイダルシリカコーティング混合物、又は組み合わされた混合物に添加されないことを特徴とする、方法。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法であって、
前記第1のコーティング基剤と前記第2のコーティング基剤とが同一であることを特徴とする、方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法であって、
前記組み合わされた混合物が特定の量のポリマー系分散剤を含んでおり、前記ITOが仮に前記コロイダルシリカコーティング混合物とそのまま混合されて、前記組み合わされた混合物と同量のポリマー系分散剤を有する標本混合物を作った場合には、可視の沈殿が前記標本混合物中において撹拌無しの1週間以内に起こる、ことを特徴とする方法。 - シリコーンコーティング組成物であって、
式RnSi(OH)4−nのシラノールの部分縮合物を含むコーティング基剤(式中、nは1又は2に等しく、RはC1−3アルキルラジカル、ビニルラジカル、3,3,3‐トリフルオロプロピルラジカル、γ‐グリシドキシプロピルラジカル、及びγ‐メタクリルオキシプロピルラジカルから選択される)を含み、
コロイダルシリカを含み、
動的光散乱法で測定された場合に60nm以下の平均粒径を有するITOを含む、
ことを特徴とする組成物。 - シリコーンコーティング組成物であって、
式RnSi(OH)4−nのシラノールの部分縮合物を含むコーティング基剤(式中、nは1又は2に等しく、RはC1−3アルキルラジカル、ビニルラジカル、3,3,3‐トリフルオロプロピルラジカル、γ‐グリシドキシプロピルラジカル、及びγ‐メタクリルオキシプロピルラジカルから選択される)を含み、
動的光散乱法で測定された場合に60nm以下の平均粒径を有するITOを含み、
前記シリコーンコーティング組成物がコロイダルシリカを含まない、
ことを特徴とする組成物。 - 請求項6又は7に記載のシリコーンコーティング組成物であって、
前記コーティング組成物が、1質量部のITOに対して0.05質量部以下のポリマー系分散剤を含むことを特徴とする、組成物。 - 請求項6〜8のいずれか1項に記載のシリコーンコーティング組成物であって、
前記コーティング組成物が0質量部のポリマー系分散剤を含むことを特徴とする、組成物。 - 請求項6〜9のいずれか1項に記載のシリコーンコーティング組成物であって、
ITO粒子の90%以上が61nm未満の直径を有することを特徴とする、組成物。 - 請求項6〜10のいずれか1項に記載のシリコーンコーティング組成物であって、
UV吸収添加剤をさらに含むことを特徴とする、組成物。 - 請求項6〜11のいずれか1項に記載のシリコーンコーティング組成物であって、
カルボン酸の第四級アンモニウム塩をさらに含むことを特徴とする、組成物。 - 請求項6〜12のいずれか1項に記載のシリコーンコーティング組成物であって、
酢酸テトラ‐n‐ブチルアンモニウム(TBAA)、ギ酸テトラ‐n‐ブチルアンモニウム、安息香酸テトラ‐n‐ブチルアンモニウム、2‐エチルヘキサン酸テトラ‐n‐ブチルアンモニウム、p‐エチル安息香酸テトラ‐n‐ブチルアンモニウム、プロピオン酸テトラ‐n‐ブチルアンモニウム、及び前記の少なくとも1つを含む組み合わせ、から選択される硬化触媒をさらに含むことを特徴とする、組成物。 - 請求項6〜13のいずれか1項に記載のシリコーンコーティング組成物であって、
コーティング組成物が、コーティングされた窓板の形態であって、前記コーティングされた窓板が、ASTM‐D1003‐11のA法に従ってCIE標準イルミナントCを用いて測定された場合に3%以下のヘイズを有することを特徴とする、組成物。 - コーティングされた窓板であって、
プラスチック基板を含み、
基板上の硬化したシリコーンコーティングを含み、
前記硬化したシリコーンコーティングが、請求項6〜14のいずれか1項に記載のシリコーンコーティング組成物からなり、
前記コーティングされた窓板が、ASTM‐D1003‐11のA法に従ってCIE標準イルミナントCを用いて測定された場合に3%以下のヘイズを有する、
ことを特徴とする窓板。 - 請求項15に記載のコーティングされた窓板であって、
前記コーティングされた窓板が、70%以上のTvis及び60%以下のTtsを有することを特徴とする、窓板。 - 請求項15又は16に記載のコーティングされた窓板であって、
前記プラスチック基板が、ポリカーボネート樹脂、アクリル系ポリマー、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリスルホン樹脂、及び前記の少なくとも1つを含む組み合わせ、から選択される材料を含むことを特徴とする、窓板。 - 請求項15〜17のいずれか1項に記載のコーティングされた窓板であって、
前記ヘイズが1%以下であることを特徴とする、窓板。 - 請求項15〜18のいずれか1項に記載のコーティングされた窓板であって、
プラスチック基板の両面にUV防御コーティングをさらに含むことを特徴とする、窓板。 - 請求項15〜19のいずれか1項に記載のコーティングされた窓板であって、
UV防御コーティングをプラスチック基板の片面に、IRコーティングをプラスチック基板の反対側の面にさらに含むことを特徴とする、窓板。 - コーティングされた窓板であって、
プラスチック基板を含み、
硬化したシリコーンコーティングを前記基板上に含み、
前記硬化したシリコーンコーティングが、
式RnSi(OH)4−nのシラノールの部分縮合物を含むコーティング基剤(式中、nは1又は2に等しく、Rは1〜3個の炭素原子のアルキルラジカル、ビニルラジカル、3,3,3‐トリフルオロプロピルラジカル、γ‐グリシドキシプロピルラジカル、及びγ‐メタクリルオキシプロピルラジカルから選択される)と、
コロイダルシリカと、
動的光散乱法で測定された場合に60nm以下の平均粒径を有するITOと、
任意選択で、UV吸収剤、界面活性剤、可塑剤、IR吸収剤、硬化触媒、着色剤、帯電防止剤、抗菌剤、流動性調整剤、抗酸化剤、分散剤、相容化剤、及び前記添加剤の少なくとも1つを含む組み合わせ、からなる群から選択される添加剤と、
から本質的になる組成物からなり、
前記コーティングされた窓板は、ASTM‐D1003‐11のA法に従ってCIE標準イルミナントCを用いて測定された場合に3%以下のヘイズを有する、
ことを特徴とする窓板。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261604939P | 2012-02-29 | 2012-02-29 | |
US61/604,939 | 2012-02-29 | ||
US13/681,791 US9862842B2 (en) | 2012-02-29 | 2012-11-20 | Infrared radiation absorbing articles and method of manufacture |
US13/681,791 | 2012-11-20 | ||
PCT/US2013/027840 WO2013130489A1 (en) | 2012-02-29 | 2013-02-27 | Infrared radiation absorbing articles and method of manufacture |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018002851A Division JP6474501B2 (ja) | 2012-02-29 | 2018-01-11 | 赤外輻射吸収物品及び製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015511980A true JP2015511980A (ja) | 2015-04-23 |
JP2015511980A5 JP2015511980A5 (ja) | 2015-06-11 |
JP6313228B2 JP6313228B2 (ja) | 2018-04-18 |
Family
ID=49003178
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014559950A Active JP6313228B2 (ja) | 2012-02-29 | 2013-02-27 | 赤外輻射吸収物品及び製造方法 |
JP2018002851A Active JP6474501B2 (ja) | 2012-02-29 | 2018-01-11 | 赤外輻射吸収物品及び製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018002851A Active JP6474501B2 (ja) | 2012-02-29 | 2018-01-11 | 赤外輻射吸収物品及び製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US9862842B2 (ja) |
EP (1) | EP2820092A4 (ja) |
JP (2) | JP6313228B2 (ja) |
KR (1) | KR101896411B1 (ja) |
CN (1) | CN104144991B (ja) |
WO (1) | WO2013130489A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9862842B2 (en) | 2012-02-29 | 2018-01-09 | Sabic Global Technologies B.V. | Infrared radiation absorbing articles and method of manufacture |
KR20160026891A (ko) * | 2013-06-27 | 2016-03-09 | 코베스트로 도이칠란트 아게 | 금속화가능한 내스크래치성 및 내용매성 필름 |
WO2017151769A1 (en) | 2016-03-01 | 2017-09-08 | Beach Joseph | Electrically enhanced haber-bosch (eehb) anhydrous ammonia synthesis |
US11027312B2 (en) * | 2016-12-15 | 2021-06-08 | Covestro Deutschland Ag | Transparently coated polycarbonate component, its production and use |
US11209580B2 (en) | 2016-12-23 | 2021-12-28 | Sabic Global Technologies B.V. | Articles comprising an infrared blocking layer and methods of making the same |
WO2018166869A1 (en) * | 2017-03-17 | 2018-09-20 | K&F Industrial Coating Ivs | A heat transmission system |
CN111182966B (zh) | 2017-05-15 | 2023-05-30 | 星火能源 | 用于nh3催化的金属修饰的钡钙铝氧化物及相关材料 |
US10787367B2 (en) | 2017-05-26 | 2020-09-29 | Starfire Energy | Removal of gaseous NH3 from an NH3 reactor product stream |
WO2019104204A1 (en) | 2017-11-25 | 2019-05-31 | Starfire Energy | Chemical reactor with integrated heat exchanger |
CN108641456B (zh) * | 2018-06-04 | 2020-09-11 | 丹阳市银海镍铬化工有限公司 | 海陆伪装涂料及其制备方法 |
JP2022524299A (ja) | 2019-01-31 | 2022-05-02 | スターファイアー エナジー | Nh3合成・クラッキング用金属被覆バリウム・カルシウム・アルミニウム酸化物触媒およびその形成方法 |
CN116420097A (zh) | 2020-11-19 | 2023-07-11 | Sabic环球技术有限责任公司 | 具有加热面板外表面的车用面板 |
CN112745711A (zh) * | 2020-12-30 | 2021-05-04 | 京能源深(苏州)能源科技有限公司 | 一种可红外吸收和疏水涂层的光伏组件及其制备方法 |
CN114314685A (zh) * | 2022-01-06 | 2022-04-12 | 西南石油大学 | 一种高发射率复合金属材料的制备方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4990376A (en) * | 1988-04-25 | 1991-02-05 | General Electric Company | Flexible silicone coatings for plastic substrates and methods for making thermoformable, abrasion-resistant thermoplastic articles |
JPH1143646A (ja) * | 1997-05-05 | 1999-02-16 | General Electric Co <Ge> | プラスチック基材用のプライマーレスシリコーンハードコート組成物並びに関連製品 |
JP2008030015A (ja) * | 2005-11-15 | 2008-02-14 | Central Glass Co Ltd | 熱線遮蔽膜形成基材の製法 |
JP2010030792A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Asahi Glass Co Ltd | 紫外線遮蔽膜付きガラス板およびその製造方法 |
WO2010104146A1 (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-16 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | コーティング組成物、塗膜、積層体、及び積層体の製造方法 |
WO2010131744A1 (ja) * | 2009-05-15 | 2010-11-18 | 旭硝子株式会社 | 紫外線吸収膜形成用塗布液および紫外線吸収ガラス物品 |
JP2011037948A (ja) * | 2009-08-07 | 2011-02-24 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 耐摩耗性シリコーンコーティング組成物並びに被覆物品及びその製造方法 |
WO2011056615A1 (en) * | 2009-10-28 | 2011-05-12 | Momentive Performance Materials Inc. | Surface protective coating and methods of use thereof |
JP2011183758A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-22 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ポリカーボネート樹脂積層体 |
Family Cites Families (78)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3986997A (en) | 1974-06-25 | 1976-10-19 | Dow Corning Corporation | Pigment-free coating compositions |
US4321400A (en) | 1980-05-30 | 1982-03-23 | General Electric Company | Ultraviolet light absorbing agents and compositions and articles containing same |
US4863520A (en) | 1988-07-05 | 1989-09-05 | General Electric Company | Method for curing silicone coatings on plastic substrates, and curable compositions related thereto |
US6180043B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-01-30 | Dai Nippon Toryo Co., Ltd. | Method of in-mold coating |
JP4096278B2 (ja) | 1998-12-10 | 2008-06-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜 |
US6261694B1 (en) | 1999-03-17 | 2001-07-17 | General Electric Company | Infrared reflecting coatings |
US6538092B1 (en) * | 1999-04-23 | 2003-03-25 | Sdc Coatings, Inc. | Composition for providing an abrasion resistant coating on a substrate with a matched refractive index:2 |
US6822058B1 (en) | 2000-07-14 | 2004-11-23 | The Sherwin-Williams Company | Low-temperature in-mold coating composition |
US6911254B2 (en) | 2000-11-14 | 2005-06-28 | Solutia, Inc. | Infrared absorbing compositions and laminates |
ES2223038T3 (es) | 2001-03-23 | 2005-02-16 | Solutia Inc. | Regulacion de la radiacion solar en los laminados de vidrio de seguridad. |
JP2002309157A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-23 | Nippon Paint Co Ltd | 透明基材用赤外線遮蔽塗料並びに塗膜形成方法及び透明基材 |
JP3648183B2 (ja) | 2001-08-29 | 2005-05-18 | 聡 澤村 | 透明シリコーン系被膜形成組成物及びその硬化方法。 |
AU2002341608A1 (en) * | 2001-09-06 | 2003-09-29 | Exatec, Llc. | Polycarbonate automotive window panels with coating system blocking uv and ir radiation and providing abrasion resistant surface |
US7045213B2 (en) | 2001-10-22 | 2006-05-16 | Omnova Solutions Inc. | In-mold coating injection inlet flow control |
DE10160356A1 (de) | 2001-12-08 | 2003-06-26 | Nanogate Technologies Gmbh | IR-Schutz |
DE10214937A1 (de) | 2002-04-04 | 2003-10-16 | Basf Ag | Cyclische Verbindungen und ihre Verwendung als Lichtabsorber, Lichtemitter oder Komplexliganden |
JP4187999B2 (ja) | 2002-05-13 | 2008-11-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽樹脂シート材及びその製造方法 |
US6997981B1 (en) | 2002-05-20 | 2006-02-14 | Jds Uniphase Corporation | Thermal control interface coatings and pigments |
KR100669636B1 (ko) | 2002-07-24 | 2007-01-16 | 티디케이가부시기가이샤 | 기능성층을 갖는 전사용 기능성 필름, 그 기능성층이부여된 물체 및 그 제조방법 |
CN100475481C (zh) | 2002-11-25 | 2009-04-08 | 宇部兴产机械株式会社 | 模内涂覆方法 |
JP2004323661A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Toyo Riken Kk | 光線遮蔽用コーティング剤及び被膜 |
WO2005007592A2 (en) | 2003-07-11 | 2005-01-27 | Pilkington Plc | Solar control glazing |
US20060257760A1 (en) | 2003-08-11 | 2006-11-16 | Kenichi Mori | Near-infrared absorbing film, and process for production the same, near-infrared absorbing film roll, process for producing the same and near-infrared absorbing filter |
CN1894314A (zh) | 2003-12-15 | 2007-01-10 | 纳幕尔杜邦公司 | 用于制备可用于阻断近红外光透射的聚合物薄膜的方法 |
US7927706B2 (en) | 2003-12-17 | 2011-04-19 | Solutia Inc. | Multiple layer glass panels having adjustable tint |
US20050165148A1 (en) | 2004-01-28 | 2005-07-28 | Bogerd Jos V.D. | Infra-red radiation absorption articles and method of manufacture thereof |
US20060281846A1 (en) | 2004-03-04 | 2006-12-14 | Degussa Ag | Laser-weldable which are transparently, translucently, or opaquely dyed by means of colorants |
GB0407114D0 (en) | 2004-03-30 | 2004-05-05 | Colormatrix Europe Ltd | Polymer additives and methods of use thereof |
US20050266208A1 (en) * | 2004-05-25 | 2005-12-01 | Yazaki Corporation | Abrasion-resistant, antistatic, antireflective transparent coating and method for making it |
KR100562748B1 (ko) * | 2004-11-06 | 2006-03-20 | 티오켐 주식회사 | 표면처리제 조성물 |
US7666494B2 (en) | 2005-05-04 | 2010-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Microporous article having metallic nanoparticle coating |
JP2008544936A (ja) | 2005-05-12 | 2008-12-11 | ジョージア テック リサーチ コーポレイション | コーティングされた金属酸化物ナノ粒子およびその製造方法 |
AU2006249383A1 (en) | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Performance Materials Na, Inc. | Multilayer laminates comprising twisted nematic liquid crystals |
AU2006249382A1 (en) | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Performance Materials Na, Inc. | High strength multilayer laminates comprising twisted nematic liquid crystals |
US7759414B2 (en) | 2005-07-14 | 2010-07-20 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Nanoparticulate solar control compositions |
US8029891B2 (en) | 2005-05-31 | 2011-10-04 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Nanoparticulate solar control concentrates |
DE102005038774A1 (de) | 2005-08-15 | 2007-02-22 | Merck Patent Gmbh | Polymere mit hoher IR-Absorption |
US8871335B2 (en) | 2005-08-31 | 2014-10-28 | Kuraray America Inc. | Solar control laminate |
US7892647B2 (en) | 2005-12-14 | 2011-02-22 | Solutia Incorporated | Interlayers comprising stabilized infrared absorbing agents |
US7585436B2 (en) | 2005-12-14 | 2009-09-08 | Solutia Incorporated | Polymer films comprising stabilized infrared absorbing agents |
US20070210287A1 (en) | 2006-03-08 | 2007-09-13 | Spartech Corporation | Transparent plastic articles having controlled solar energy transmittance properties and methods of making |
US7883777B2 (en) | 2006-03-23 | 2011-02-08 | Garware Polyester Ltd. | Solar energy shielding window film laminates |
JP5102969B2 (ja) | 2006-04-14 | 2012-12-19 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形板 |
US20070248809A1 (en) | 2006-04-19 | 2007-10-25 | Steven Vincent Haldeman | Interlayers Comprising Stable Infrared Absorbing Agents |
US7550193B2 (en) | 2006-05-05 | 2009-06-23 | Nanofilm Ltd | Infrared radiation blocking laminate |
US7952805B2 (en) | 2006-08-22 | 2011-05-31 | 3M Innovative Properties Company | Solar control film |
US7727633B2 (en) | 2006-08-22 | 2010-06-01 | 3M Innovative Properties Company | Solar control glazing laminates |
KR101085311B1 (ko) * | 2006-09-08 | 2011-11-22 | 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 | 차량용 열선 차폐 유리 및 그의 제조방법 |
DK2089743T3 (en) | 2006-12-14 | 2016-06-13 | Saint-Gobain Performance Plastics Chaineux S A | SOLAR PROTECT FILM |
CN101622262B (zh) | 2007-01-11 | 2013-04-24 | 西巴控股有限公司 | 近红外吸收性酞菁及其用途 |
GB2447414B (en) | 2007-03-14 | 2010-02-24 | Rainbow Package Ind Co Ltd | Sunlight control film |
EP2139660B1 (en) | 2007-04-27 | 2013-12-25 | Exatec, LLC. | Abrasion resistant plastic glazing with in-mold coating |
US7968186B2 (en) | 2007-07-03 | 2011-06-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Glass laminates comprising acoustic interlayers and solar control films |
CN101784385A (zh) | 2007-07-09 | 2010-07-21 | 纳幕尔杜邦公司 | 装饰性聚乙烯醇缩丁醛阳光控制层压板 |
CA2699583C (en) | 2007-09-27 | 2016-04-19 | Francesca Peri | Isolable and redispersable transition metal nanoparticles their preparation and use as ir absorbers |
EP2048116A1 (en) * | 2007-10-09 | 2009-04-15 | ChemIP B.V. | Dispersion of nanoparticles in organic solvents |
ES2324586B1 (es) | 2007-10-22 | 2010-05-31 | Novogenio S.L. | Cubierta polimerica con propiedades protectoras frente a la radiacion solar. |
EP2684691A1 (en) | 2007-11-05 | 2014-01-15 | Basf Se | Tungsten oxides as ir absorbers for nir curing, laser welding etc. |
TWI454382B (zh) | 2008-05-26 | 2014-10-01 | Ind Tech Res Inst | 透明隔熱多層結構 |
JP5746022B2 (ja) | 2008-06-17 | 2015-07-08 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 断熱シートおよび断熱ラミネート |
US20110059321A1 (en) * | 2008-06-23 | 2011-03-10 | General Electric Company | Method of repairing a thermal barrier coating and repaired coating formed thereby |
JP5219664B2 (ja) | 2008-07-14 | 2013-06-26 | キヤノン株式会社 | 表示装置及び画像形成装置、並びに表示方法及びプログラム |
US20100068532A1 (en) | 2008-09-15 | 2010-03-18 | William Keith Fisher | Interlayer with nonuniform solar absorber |
US7988881B2 (en) | 2008-09-30 | 2011-08-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Multilayer laminates comprising chiral nematic liquid crystals |
US8298659B2 (en) * | 2008-09-30 | 2012-10-30 | E I Du Pont De Nemours And Company | Polysiloxane coatings doped with aminosilanes |
KR101691898B1 (ko) | 2008-10-23 | 2017-01-02 | 데이터레이즈 리미티드 | 열 흡수 첨가제 |
US20110212318A1 (en) | 2008-10-28 | 2011-09-01 | Basf Se | Nanoscale ir absorbers in multilayer moldings |
CN101481218A (zh) * | 2009-01-19 | 2009-07-15 | 江苏柏鹤涂料有限公司 | 红外阻隔浆料及其钢化玻璃用红外阻隔涂料 |
EP2393658B1 (en) | 2009-02-09 | 2016-03-30 | Trinseo Europe GmbH | Transparent multilayered carbonate articles and method to manufacture thereof |
EP2396367A1 (de) | 2009-02-12 | 2011-12-21 | Basf Se | Polymerzusammensetzungen enthaltend nanopartikuläre ir-absorber |
RU2542238C2 (ru) | 2009-03-24 | 2015-02-20 | Басф Се | Получение формованных металлических частиц и их применения |
US8864897B2 (en) * | 2009-04-30 | 2014-10-21 | Enki Technology, Inc. | Anti-reflective and anti-soiling coatings with self-cleaning properties |
EP2269816A1 (en) | 2009-06-17 | 2011-01-05 | Kuraray Europe GmbH | Interlayer film for laminated glass having IR-absorbing properties and low haze |
EP2451746B1 (en) | 2009-07-07 | 2019-02-27 | Basf Se | Composition comprising potassium cesium tungsten bronze particles and use of these particles |
DE102009058200A1 (de) | 2009-12-15 | 2011-06-16 | Bayer Materialscience Ag | Polymer-Zusammensetzung mit Wärme-absorbierenden Eigenschaften und hoher Stabilität |
CN102892851A (zh) * | 2010-05-14 | 2013-01-23 | 旭硝子株式会社 | 紫外线吸收膜形成用涂布液和紫外线吸收玻璃物品 |
CN102153948B (zh) * | 2010-12-07 | 2013-08-21 | 李海洋 | 一种汽车玻璃纳米隔热材料及其制作方法 |
US9862842B2 (en) | 2012-02-29 | 2018-01-09 | Sabic Global Technologies B.V. | Infrared radiation absorbing articles and method of manufacture |
-
2012
- 2012-11-20 US US13/681,791 patent/US9862842B2/en active Active
-
2013
- 2013-02-27 CN CN201380010025.3A patent/CN104144991B/zh active Active
- 2013-02-27 WO PCT/US2013/027840 patent/WO2013130489A1/en active Application Filing
- 2013-02-27 JP JP2014559950A patent/JP6313228B2/ja active Active
- 2013-02-27 KR KR1020147022701A patent/KR101896411B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-27 EP EP13754915.0A patent/EP2820092A4/en not_active Withdrawn
-
2015
- 2015-11-11 US US14/938,034 patent/US20160060469A1/en not_active Abandoned
- 2015-11-11 US US14/938,023 patent/US20160060485A1/en not_active Abandoned
-
2018
- 2018-01-11 JP JP2018002851A patent/JP6474501B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4990376A (en) * | 1988-04-25 | 1991-02-05 | General Electric Company | Flexible silicone coatings for plastic substrates and methods for making thermoformable, abrasion-resistant thermoplastic articles |
JPH1143646A (ja) * | 1997-05-05 | 1999-02-16 | General Electric Co <Ge> | プラスチック基材用のプライマーレスシリコーンハードコート組成物並びに関連製品 |
JP2008030015A (ja) * | 2005-11-15 | 2008-02-14 | Central Glass Co Ltd | 熱線遮蔽膜形成基材の製法 |
JP2010030792A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Asahi Glass Co Ltd | 紫外線遮蔽膜付きガラス板およびその製造方法 |
WO2010104146A1 (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-16 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | コーティング組成物、塗膜、積層体、及び積層体の製造方法 |
WO2010131744A1 (ja) * | 2009-05-15 | 2010-11-18 | 旭硝子株式会社 | 紫外線吸収膜形成用塗布液および紫外線吸収ガラス物品 |
JP2011037948A (ja) * | 2009-08-07 | 2011-02-24 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 耐摩耗性シリコーンコーティング組成物並びに被覆物品及びその製造方法 |
WO2011056615A1 (en) * | 2009-10-28 | 2011-05-12 | Momentive Performance Materials Inc. | Surface protective coating and methods of use thereof |
JP2011183758A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-22 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ポリカーボネート樹脂積層体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2820092A4 (en) | 2015-10-07 |
US20160060469A1 (en) | 2016-03-03 |
CN104144991A (zh) | 2014-11-12 |
EP2820092A1 (en) | 2015-01-07 |
KR101896411B1 (ko) | 2018-09-07 |
JP2018090811A (ja) | 2018-06-14 |
US20130224476A1 (en) | 2013-08-29 |
US20160060485A1 (en) | 2016-03-03 |
CN104144991B (zh) | 2016-12-14 |
JP6313228B2 (ja) | 2018-04-18 |
US9862842B2 (en) | 2018-01-09 |
JP6474501B2 (ja) | 2019-02-27 |
WO2013130489A1 (en) | 2013-09-06 |
KR20140131513A (ko) | 2014-11-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6474501B2 (ja) | 赤外輻射吸収物品及び製造方法 | |
US7922803B2 (en) | Coating composition and resin multilayer body | |
JP5283076B2 (ja) | 積層体 | |
CN103443224B (zh) | 液状组合物及其制造方法以及玻璃物品 | |
TWI462979B (zh) | A coating liquid, a hardened film and a resin laminate, and a method for producing the hardened film and the resin laminate | |
JP5805656B2 (ja) | 基層、プライマー層および耐引掻性層を有する多層系 | |
US20090011256A1 (en) | Coating composition, hardened film and resin laminate | |
JP2016515084A (ja) | 赤外減衰コーティングを含む板ガラス配置 | |
JP2002254560A (ja) | 紫外線遮蔽性積層体および紫外線遮蔽層形成用樹脂組成物 | |
JP2001240769A (ja) | 表面改質された無機系微粒子およびその用途と無機系微粒子の表面改質方法 | |
JP2011225660A (ja) | 酸化亜鉛分散液とその製造方法およびプライマー層形成用塗布液と高耐久性uvカットプラスチック基材 | |
JP5337360B2 (ja) | コーティング組成物、硬化膜及び樹脂積層体 | |
TWI482829B (zh) | 具有優異表面平滑性之黏著聚酯薄膜用被覆組成物以及使用相同組成物之聚酯薄膜 | |
JP6155600B2 (ja) | 透明樹脂積層体とその製造方法、ならびに熱線遮蔽機能を有するプライマー層形成用のプライマー液 | |
JP2004035609A (ja) | ハードコート層を有するポリカーボネート樹脂成形体 | |
JP2004035610A (ja) | ハードコート層を有するポリカーボネート樹脂成形体 | |
JP2006044170A (ja) | 合成樹脂製積層体及びその製造方法 | |
JP4901397B2 (ja) | フィラー分散アクリル系樹脂組成物の製造方法、該組成物で表面を被覆された透明樹脂成形体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150415 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150415 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160223 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160523 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160906 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170106 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20170113 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20170203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180111 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180322 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6313228 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |