JP2015509899A - ガラスフリット、これを含む導電性ペースト組成物および太陽電池 - Google Patents

ガラスフリット、これを含む導電性ペースト組成物および太陽電池 Download PDF

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Abstract

本発明は、ガラスフリット、これを含む導電性ペースト組成物およびこれを用いて製造される太陽電池に関するものである。本発明のガラスフリットは、Al2O3、ZrO2、ZnO、およびLi2Oからなる群より選択される1種以上と、SiO2およびPbOを含む。また、本発明の導電性ペースト組成物は、銀(Ag)粉末、リチウムチタン酸化物(Lithium titanium oxide)、ガラスフリット、バインダー、および溶媒を含む。本発明のペースト組成物を用いることにより、低い接触抵抗を提供し、光発電効率を増加可能にする太陽電池を提供することができる。

Description

本発明は、ガラスフリット、これを含む導電性ペースト組成物および太陽電池に関するものである。より詳細には、低い接触抵抗および高効率を示すガラスフリット、これを含む導電性ペースト組成物および太陽電池に関するものである。
本出願は、2012年1月13日付で韓国特許庁に提出された韓国特許出願第10−2012−0004387号の出願日の利益を主張し、その内容のすべては本明細書に組み込まれる。
最近、石油や石炭のような既存のエネルギー資源の枯渇が予想されるにつれ、これらを代替する代替エネレギーに対する関心が高まっている。その中でも、太陽電池は、太陽光エネルギーを直接電気エネルギーに変化させる半導体素子を用いた次世代電池として注目されている。太陽電池は、大別して、シリコン太陽電池(silicon solar cell)、化合物半導体太陽電池(compound semiconductor solar cell)、および積層型太陽電池(tandem solar cell)に区分される。そのうち、シリコン太陽電池が主流となっている。
一方、シリコン太陽電池の高効率化のために、浅いエミッタ(shallow emitter)および選択的エミッタ(selective emitter)などの多様な方法が開発されている。浅いエミッタは、60〜120Ω/sqの高い面抵抗のエミッタ層をいうが、再結合率が低く、短波長の太陽光を利用できる利点がある。
結晶質シリコン太陽電池において、基板上に形成されたエミッタ層は、基板をベースとしてpn接合(pn junction)をなすものであるが、High Rs cellは、面抵抗(Sheet Resistance)が60〜120Ω/sqで、従来の結晶質太陽電池のエミッタ層の面抵抗が40〜50Ω/sqであるのに比べて高いため、光電変換効率に優れている。つまり、高効率の太陽電池は、太陽電池の基板の前面に形成されたエミッタ層のうちの表面層にdead layer(生成された電子が余分の半導体不純物濃度によって電流の形成に妨げられる領域)が生じる部分を小さくするため、太陽電池の効率を高める。
このような高効率の太陽電池のエミッタ層は、厚さは100nm〜500nmであり、エミッタ層の半導体不純物の濃度は、1×1016〜1×1021atom/cmであってよい。従来の太陽電池の製造工程において、エミッタの厚さを超薄型に前記のように薄く形成し、エミッタをなす半導体不純物のドーピング濃度を低くドーピングすることによって製造することができる。
しかし、一般的な太陽電池セルのエミッタ層の厚さは600nm以上であるのに対し、高効率の太陽電池のエミッタ層は、厚さは100nm〜500nmと非常に超薄型であるため、高効率の太陽電池に電極を形成する時、薄い厚さのエミッタ層を経てベース基板に電極が接触して短絡しやすい問題がある。つまり、薄い厚さを有するエミッタ層を含む高効率の太陽電池を商業的に利用するためには、薄くなったエミッタ層の接触を容易にしながらも、ベースのシリコン基板に電極が接触して短絡する状態を防止する工程が要求される。
浅いエミッタの前面電極を形成するために銀(Ag)ペーストが使用されているが、銀ペーストは、銀粉末、有機バインダー、ガラスフリット(glass frits)などを含有している。しかし、銀ペーストのガラスフリットによって抵抗接点(Ohmic contact)性が悪く、深刻な場合、短絡が生じる欠点がある。特に、前面電極の接触部を形成するには、短絡期間の間、略800℃の高温工程が必要である。この高温工程が正確に調整されなければ、高い直列抵抗(high serial resistance)および、または低いシャント抵抗(lower shunt resistance)が起こるようになる。
前記銀ペーストとしては、従来は、ガラスフリット粉末と銀粉末とを単に混合して製造したり、これに、無機添加剤として金属酸化物を添加して使用したが、形成された電極と基板との間の抵抗の抑制効果に限界があった。したがって、依然として、電極への適用時、高効率を達成するに困難があった。
例えば、前面電極を形成するために、無機添加剤として亜鉛酸化物を含むペースト組成物が、US20080223446に開示されている。前記米国公開特許は、SiO21−29重量%、Al0.1−8重量%、PbO50−62重量%、B7−10重量%、ZnO0−4重量%、LiO0−0.1重量%と、TiO2−7重量%の組成を有するガラスフリットと、無機添加剤として7〜100nmのZnOを含む導電性ペーストを開示している。しかし、前記文献に開示されたペースト組成物を用いた前面電極は、太陽電池の反射防止膜として主に使用されているSiN膜との貫通焼成(fire through)が不十分であり、高い直列抵抗(high serial resistance)によって高効率の太陽電池を達成しにくい問題があった。
US20080223446
上記の従来技術の問題を解決すべく、本発明は、新規な組成を有するガラスフリットを提供することを目的とする。
また、本発明は、前記ガラスフリットを含み、低い接触抵抗を有する導電性ペースト組成物を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、前記導電性ペースト組成物を用いて製造される太陽電池を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明は、Al、ZrO、ZnO、およびLiOからなる群より選択される1種以上と、SiOおよびPbOを含む、ガラスフリット(glass frits)を提供する。
また、本発明は、銀(Ag)粉末、リチウムチタン酸化物(Lithium titanium oxide)、ガラスフリット、バインダー、および溶媒を含む、導電性ペースト組成物を提供する。
さらに、本発明は、第1導電性タイプの基板と、前記基板上に形成された第2導電性タイプのエミッタ層と、前記エミッタ層上に形成された反射防止膜と、前記反射防止膜を貫通して前記エミッタ層に接続され、前記導電性ペースト組成物を用いて製造される前面電極と、前記基板の背面に形成された後面電極とを含む、太陽電池を提供する。
本発明によれば、低い接触抵抗を提供し、光発電効率を増加可能にする太陽電池を提供することができる。
本発明の一実施形態にかかる太陽電池の構造を示した断面図である。 本発明の製造実施例2−1によるリチウムチタン酸化物粒子を、走査顕微鏡(SEM)を用いて5万倍に拡大した写真である。
本発明の一実施形態にかかるガラスフリットは、Al、ZrO、ZnO、およびLiOからなる群より選択される1種以上と、SiOおよびPbOを含む。
また、本発明の一実施形態にかかる導電性ペースト組成物は、銀(Ag)粉末、リチウムチタン酸化物(Lithium titanium oxide)、前記ガラスフリット(glass frits)、バインダー、および溶媒を含む。
さらに、本発明の一実施形態にかかる太陽電池は、第1導電性タイプの基板と、前記基板上に形成された第2導電性タイプのエミッタ層と、前記エミッタ層上に形成された反射防止膜と、前記反射防止膜を貫通して前記エミッタ層に接続され、前記導電性ペースト組成物を用いて製造される前面電極と、前記基板の背面に形成された後面電極とを含む。
本発明において、第1、第2などの用語は、多様な構成要素を説明するのに使用され、前記用語は、1つの構成要素を他の構成要素から区別する目的にのみ使用される。
また、本発明において、各層または要素が各層または要素の「上に」または「の上に」形成されると言及される場合には、各層または要素が直接各層または要素の上に形成されることを意味したり、他の層または要素が各層の間、対象体、基材上に追加的に形成され得ることを意味する。
本発明は、多様な変更を加えることができ、様々な形態を有することができるが、特定の実施形態を例示し、下記に詳細に説明する。しかし、これは、本発明を特定の開示形態に対して限定しようとするものではなく、本発明の思想および技術範囲に含まれるすべての変更、均等物または代替物を含むと理解されなければならない。
以下、図面を参照して、本発明のガラスフリット、これを含む導電性ペースト組成物および太陽電池を詳細に説明する。
ガラスフリット
本発明のガラスフリット(glass frits)は、SiOおよびPbOと共に、Al、ZrO、ZnO、およびLiOからなる群より選択される1種以上を含む。
前記ガラスフリットは、電極をピンホールのない焼成パターンに効果的に作るために使用するもので、本発明のガラスフリットは、金属酸化物として、SiOおよびPbOと共に、Al、ZrO、ZnO、およびLiOからなる群より選択される1種以上を含む。
より具体的には、本発明の一実施形態によれば、前記ガラスフリットは、SiO5〜30重量%、PbO50〜90重量%、Al0.1〜10重量%、およびZrO0.1〜10重量%を含むことができる。
本発明の他の実施形態によれば、前記ガラスフリットは、SiO5〜30重量%、PbO50〜90重量%、Al0.1〜10重量%、ZrO0.1〜10重量%、ZnO0.1〜10重量%、およびLiO0.1〜10重量%を含むことができる。
本発明の導電性ペースト組成物において、前記ガラスフリットに含まれるAl、ZrO、ZnO、およびLiOは、界面反応時、安定したガラス相を形成させるだけでなく、底粘度を維持させる。界面反応時、ガラス成分が底粘度であれば、PbOと反射防止膜との間の接触確率を高めるため、より多くの領域でエッチングが起こり得る。このようにエッチングが相対的により多く起こると、銀の再結晶で形成される前面電極の領域もより広くなるため、基板と前面電極との間の接触抵抗も従来よりさらに低下させ、太陽電池の性能を優れたものとし、基板と前面電極との間の接触強度もさらに改善させる。
また、本発明の一実施形態によれば、前記ガラスフリットの平均粒径(D50)は、約0.5〜約10μm、好ましくは約0.8〜約5μmの範囲であってよい。前記ガラスフリットの平均粒度が前記範囲の時、電極をピンホールのない焼成パターンに効果的に作ることができる。
前述した成分のほか、通常、ガラスフリットに使用される他の成分がさらに含まれるとよい。例えば、NaOをさらに含むことができるが、これに限定されるものではない。
前記のような本発明のガラスフリットの構成成分が用意されると、用意された構成成分を共に溶融させる。本発明の一実施形態にかかるガラスフリットの構成成分を大気圧下で共に溶融させる工程により、各構成成分は分子間の結合が切れてしまい、金属酸化物としての性質は失われ、溶融状態で各成分が均一に混合され、後の冷却過程により全体的にガラス質の性質を有するようになる。この時、溶融工程において、溶融温度は、各構成成分がすべて十分に溶融する温度であれば特別な制限なく選択できる。例えば、約900〜約1,500℃であってよいが、これに限定されるものではない。また、溶融時間も、前述した溶融温度を維持してすべての成分が十分に溶融する時間であれば特別な制限がなく、構成成分および溶融温度に応じて適切に選択することができる。例えば、約10分〜約1時間であってよいが、これに制限されるものではない。
次に、前記溶融した混合物を冷却させることにより、固体状のガラスフリットを得ることができる。冷却工程により前記溶融した各成分が固まって固体状のガラスフリットを形成する。冷却速度は、前記ガラスフリットの構成成分の種類に応じて適切に選択することができるが、一般に急速に冷却させることが好ましい。具体的な冷却条件は、各成分に応じた状態図を参照して決定することができる。冷却速度が遅すぎる場合、冷却途中に結晶化が起こり、ガラス相を形成しないことがある。例えば、前記溶融した混合物を、大気圧下、約1〜約5分間、約25〜約50℃まで冷却させることができるが、これに限定されるものではない。前述した速い冷却速度を得るための方法としては、当分野における通常の方法が制限なく使用可能であり、例えば、溶融した混合物を板状に押出して表面積を拡大させたり、水に沈殿する方法を採用することができるが、これに限定されるものではない。
次に、前記固体状のガラスフリットを粉砕して粉末状を製造する。前述した固体状のガラスフリットは、金属ペーストに混合されるには体積が非常に大きいため、粉末状に粉砕することが好ましい。粉砕後の粉末状の平均粒径は、例えば、約1〜約10μmであってよいが、これに限定されるものではない。前記粒径の範囲の時、金属ペースト上に比較的均一に分散して界面反応を非常に効率よく起こすことができる。冷却させて得られた固体状のガラスフリットを粉末状に粉砕する方法は、当分野における通常の粉砕方法が制限なく使用できる。効率的な粉砕のために、粉砕工程が2つの段階に分けて行われてよい。この場合、1次および2次粉砕が同一の工程が繰り返されてもよく、1次粉砕は粗粉砕、2次粉砕は微粉砕で行われてもよい。ここで、粗粉砕は、一定の平均粒径に制限されるものではなく、微粉砕の方法によって微粉砕が容易な適当な大きさに前述した固体状のガラスフリットを粉砕することを意味する。微粉砕は、粗粉砕されたガラスフリットを、所望の平均粒径を有するガラスフリット粉末に粉砕する工程である。また、各粉砕工程は、必要によって、乾式粉砕または湿式粉砕を選択的に行うことができ、湿式粉砕には、当分野で通常知られているように、水またはエタノールなどが添加できるが、これに限定されるものではない。
導電性ペースト組成物
本発明の導電性ペースト組成物は、銀(Ag)粉末、リチウムチタン酸化物(Lithium titanium oxide)、ガラスフリット(glass frits)、バインダー、および溶媒を含む。
以下、本発明の導電性ペースト組成物に含まれるそれぞれの成分についてより詳細に説明する。
本発明の導電性ペースト組成物において、電気的特性を付与する導電性粉末として、銀(Ag)粉末を含む。本発明において、前記銀粉末には、純粋な銀(Ag)粉末だけでなく、酸化銀、銀合金、銀化合物、またはその他の焼成によって銀粉末の析出が可能な物質も含む。これらは、単独または2種以上を混合して使用できる。
前記銀粉末は、商業的に入手可能な球状の粉末またはフレーク(flake)状の粉末を使用することができる。あるいは、フレーク状を用いて、公知の方法によって銀粉末に作って使用することができる。
前記銀粉末の粒径は、所望の焼結速度と電極を形成する工程における影響などを考慮して、適切な範囲に調節することができる。本発明の一実施形態によれば、前記銀粉末の平均粒径(d50)は、約0.5〜約4μmの大きさを有することができる。
また、前記銀粉末の純度は、電極として通常要求される条件を満足させるための純度であれば特に限定しないが、本発明に使用される銀粉末の場合は、純度が90%以上の銀粉末を使用することができ、好ましくは95%以上の銀粉末を使用することができる。
本発明の導電性ペースト組成物に含まれる前記銀粉末は、ペースト組成物全体100重量部に対して、約60〜約95重量部、好ましくは約70〜約85重量部で含まれるとよい。前記銀粉末が60重量部未満の場合は、相分離されたり、粘度が低くなって、印刷性の問題があり、95重量部を超える場合には、粘度が高くて印刷が難しくなり、価格が上昇する問題があり得る。また、前記ペースト組成物中において有機溶媒を除いた固形分中には、固形分重量全体に対して、前記銀粉末が92〜99重量%で含まれるとよい。
本発明の一実施形態によれば、前記銀粉末は、銀粉末の表面に界面活性剤でコーティング処理して使用できる。コーティングに使用可能な前記界面活性剤の例としては、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸、オレイン酸、カプリル酸、ミリスチン酸、リノレン酸、およびこれらの塩または混合物などが挙げられるが、これらにのみ限定するものではない。
本発明の導電性ペースト組成物は、リチウムチタン酸化物(Lithium titanium oxide、LTO)を含む。
前記リチウムチタン酸化物は、下記の化学式1で表されてよい。
LiTi5−x12 (化学式1)
この時、xは、各成分のモル比を示すもので、0≦x≦0.25を満足し、Mは、Nb、Zn、Mn、Mg、Fe、Ni、Mg、Ca、Bi、Al、Zr、V、Fe、Cu、Na、K、およびPからなる群より選択される金属である。
前記リチウムチタン酸化物は、金属がドーピングされたり、ドーピングされなくてもよい。例えば、前記化学式1において、xが0<X≦0.25の場合は、金属Mを用いてドーピング(doping)して得られる化合物である。
本発明の一実施形態によれば、前記リチウムチタン酸化物は、平均粒径が約10〜約500nm、好ましくは約30〜約200nmの大きさを有することができる。
前記リチウムチタン酸化物は、相(phase)によって、気相法、液相法、または固相法によって製造して得ることができ、製造方法は特に制限されない。
このうち、気相法は、金属または金属前駆体を気化させた後、酸素などと反応する方法を意味するが、前記気相法は、再び火炎燃焼分解法(flame combustion pyrolysis)、レーザ気化法、プラズマ気化法、またはスプレー熱分解法などに分けられる。
また、前記固相法は、焼成法(firing)および機械化学的合成法(mechanochemical synthesis)などがある。前記焼成法は、伝統的な無機粒子製造法であるが、金属前駆体を高温の炉(furnace)で長時間熱分解、酸化させて金属酸化物を製造した後、結晶化させた後、再び微細粒子に破砕させる方法である。前記機械化学的合成法は、高速ボールミリング(ball milling)のような高速高エネルギーの機械的刺激によって金属前駆体の表面を活性化させて反応が起こるようにする方法である。
前記液相法としては、水熱法(hydrothermal synthesis)およびゾルゲル法などがある。前記液相法の中で最も幅広く利用されている水熱法は、水を反応媒体または反応物として用いて加熱合成する方法により、リチウムチタン酸化物を製造することができる。
また、亜臨界または超臨界の条件下、水と2種以上の金属塩水溶液を連続反応させ、焼成工程を要することなく金属酸化物が固溶したナノサイズの超微粒子金属酸化物を製造する方法により、前記リチウムチタン酸化物を製造することができる。
本発明の導電性ペースト組成物は、ガラスフリットを含む。
前記ガラスフリットは、電極をピンホールのない焼成パターンに効果的に作るために使用する。
本発明の一実施形態によれば、ペースト組成物全体100重量部に対して、前記ガラスフリットを約0.1〜約10重量部で含む。前記含有量範囲で界面反応時、十分な低粘度を維持し、基板と前面電極との間の接触抵抗を非常に低くし、非常に優れた接触強度を維持することができる。
前記ガラスフリットは、SiOおよびPbOと共に、Al、ZrO、ZnO、およびLiOからなる群より選択される1種以上を含む。
本発明の導電性ペースト組成物において、前記ガラスフリットに含まれるAl、ZrO、ZnO、およびLiOは、界面反応時、安定したガラス相を形成させるだけでなく、底粘度を維持させる。界面反応時、ガラス成分が底粘度であれば、PbOと反射防止膜との間の接触確率を高めるため、より多くの領域でエッチングが起こり得る。このようにエッチングが相対的により多く起こると、銀の再結晶で形成される前面電極の領域もより広くなるため、基板と前面電極との間の接触抵抗も従来よりさらに低下させ、太陽電池の性能を優れたものとし、基板と前面電極との間の接触強度もさらに改善させる。
前記ガラスフリットに関するより詳細な説明は、前記で説明した通りである。
本発明の導電性ペースト組成物は、無機添加剤として、金属酸化物をさらに含むことができる。前記金属酸化物は、ペースト組成物と結晶質ウエハとの付着力を向上させるために追加することができ、前記無機添加剤に追加される金属酸化物としては、亜鉛酸化物(Zinc oxide、ZnO)、ジルコニウム酸化物(Zirconium oxide、ZrO)、またはこれらの混合物から選択することができる。
前記金属酸化物は、組成物全体100重量部に対して、約0.1〜約10重量部、好ましくは約1〜約5重量部で含むことができる。また、平均粒径(d50)は、約500〜約1,000nmであってよい。
本発明の導電性ペースト組成物は、バインダーを含む。
前記バインダーは、電極パターンの焼成前における各成分の結合材として機能するもので、均一性のために懸濁重合によって製造することが好ましい。
前記バインダーとしては、カルボキシル基を含む樹脂、例えば、エチレン性不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有感光性樹脂、およびエチレン性不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂を含むことができる。より具体的には、不飽和カルボン酸化合物および不飽和二重結合を有する化合物の共重合体であるカルボキシル基含有感光性樹脂、不飽和カルボン酸化合物および不飽和二重結合を有する化合物の共重合体にエチレン性不飽和基をペンダント基として付加したカルボキシル基含有感光性樹脂、または不飽和二重結合を有する酸無水物および不飽和二重結合を有する化合物の共重合体と水酸基と不飽和二重結合を有する化合物の反応によって得られるカルボキシル基含有感光性樹脂を含むことができ、これに限定されるものではない。
前記バインダーは、ペースト組成物全体100重量部に対して、約1〜約20重量部で含まれるとよい。前記バインダーの含有量が1重量部未満の場合は、形成される電極パターン中のバインダーの分布が不均一になり得、選択的露光、現像によるパターニングが困難になることがある。反面、20重量部を超える場合は、電極の焼成時にパターンの崩壊を起こしやすく、焼成後の有機物残炭(carbon ash)によって電極の抵抗が上昇することがある。
本発明の導電性ペースト組成物は、溶媒を含む。
前記溶媒は、前記バインダーを溶解させることができ、その他の添加剤とよく混合されるものとして使用することができる。前記のような溶媒の例には、a−テルピノール(a−Terpinol)、ブチルカルビトールアセテート(butyl carbitol acetate)、テキサノール(Texanol)、ブチルカルビトール(butyl carbitol)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(Di−propylene glycol monomethyl ether)などがあるが、これらに限定されない。
前記溶媒は、ペースト組成物全体100重量部に対して、約1〜約20重量部で含まれるとよい。前記溶媒の含有量が1重量部未満の場合は、ペーストが均一に塗布されにくいことがあり、反面、20重量部より多く含まれる場合は、電極パターンの十分な導電性が得られず、基材との密着性が低下することがある。
本発明の導電性ペースト組成物は、前記構成成分のほか、分散剤、増粘剤、搖変剤、レベリング剤などの添加剤をさらに含むことができる。このような添加剤の添加量は、必要によって、ペースト組成物全体100重量部に対して、約1〜約20重量部とすることができる。
前記分散剤の例としては、BYK社のDISPERBYK−180、110、996、および997などが挙げられるが、これらに限定されない。
前記増粘剤の例としては、BYK社のBYK−410、411、420などが挙げられるが、これらに限定されない。
前記搖変剤の例としては、BYK社のANTI−TERRA−203、204、205などが挙げられるが、これらに限定されない。
前記レベリング剤の例としては、BYK社のBYK−3932P、BYK−378、BYK−306、BYK−3440などが挙げられるが、これらに限定されない。
太陽電池
本発明の一実施形態にかかる太陽電池は、第1導電性タイプの基板と、前記基板上に形成された第2導電性タイプのエミッタ層と、前記エミッタ層上に形成された反射防止膜と、前記反射防止膜を貫通して前記エミッタ層に接続され、前記導電性ペースト組成物を用いて形成される前面電極と、前記基板の背面に形成された後面電極とを含む。
図1は、本発明の一実施形態にかかる太陽電池の構造を示した断面図である。
図1を参照すれば、本発明にかかる太陽電池は、第1導電性タイプの基板1と、基板1上に形成された第2導電性タイプのエミッタ層2と、エミッタ層2上に形成された反射防止膜3と、反射防止膜3を貫通してエミッタ層2に接続され、本発明の導電性ペースト組成物を用いて製造される前面電極4と、基板1の背面に形成された後面電極5とを含む。
本発明の一実施形態によれば、基板1は、第1導電性タイプのシリコン半導体基板であり、例えば、P型不純物として、ホウ素(B)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)などのような3価元素の不純物でドーピングされてよい。前記シリコンは、単結晶質シリコンまたは多結晶シリコンのような結晶質シリコンや、非晶質シリコンであってよい。
エミッタ層2は、基板1と反対のタイプの第2導電性タイプであり、N型不純物として、5族元素であるリン(P)、砒素(As)、アンチモン(Sb)などが不純物としてドーピングされてよい。
このように、基板1とエミッタ層2に反対の導電型の不純物がドーピングされると、基板1とエミッタ層2との界面にはP−N接合(junction)が形成される。
本発明の一実施形態によれば、エミッタ層2は、光電変換効率が高効率の高い面抵抗を有することができる。例えば、本発明の太陽電池は、約60〜約120Ω/sqの高い面抵抗のエミッタ層2を含むことができる。
本発明の一実施形態によれば、エミッタ層2の厚さは、約100〜約500nmであってよい。
反射防止膜3は、エミッタ層2の表面またはバルク内に存在する欠陥を不動化し、基板1の前面に入射する太陽光の反射率を減少させる。エミッタ層2に存在する欠陥が不動化されると、少数キャリアの再結合サイトが除去され、太陽電池の開放電圧(Voc)が増加する。そして、太陽光の反射率が減少すると、P−N接合まで到達する光の量が増大し、太陽電池の短絡電流(Isc)が増加する。このように、反射防止膜3によって太陽電池の開放電圧と短絡電流が増加すると、その分、太陽電池の変換効率が向上する。
反射防止膜3は、例えば、シリコン窒化膜、水素を含むシリコン窒化膜、シリコン酸化膜、シリコン酸化窒化膜、MgF、ZnS、TiO、およびCeOからなる群より選択されたいずれか1つの単一膜、または2つ以上の膜が組み合わされた多層膜構造を有することができるが、これに限定されるものではない。そして、反射防止膜3は、真空蒸着法、化学気相蒸着法、スピンコーティング、スクリーン印刷、またはスプレーコーティングによって形成されてよい。また、反射防止膜3の厚さは、約30〜約100nmであってよいが、これに限定されるものではない。
前面電極4は、本発明の導電性ペースト組成物を用いて形成することができる。
前記導電性ペースト組成物は、銀(Ag)粉末、リチウムチタン酸化物(Lithium titanium oxide)、ガラスフリット(glass frits)、バインダー、および溶媒を含み、これに関する詳細な説明は、前記ガラスフリットおよび導電性ペースト組成物で説明した通りである。
本発明の一実施形態によれば、前記導電性ペースト組成物をスクリーンプリントした後、熱処理することにより、前面電極4を形成することができる。より具体的には、スクリーンプリンタを用いてプリンティングした後、赤外線乾燥炉(infrared firing furnace)を用いて、約250〜約350℃で約0.5〜約5分間乾燥する。次に、赤外線乾燥炉を用いて、約600〜約900℃で約1〜約5分間焼成過程を進行させることにより、前面電極4が形成できる。この時、焼成過程により、前記ペーストに含まれている銀が高温で液状になってから再び固状に再結晶されるにつれ、ガラスフリットおよびリチウムチタン酸化物を介して反射防止膜3を貫通するパンチスルー(punch through)現象によってエミッタ層2と接続する。
後面電極5は、基板1の背面に形成され、アルミニウムを含むことができる。例えば、アルミニウムペーストを基板1の背面にプリンティングした後、熱処理し、後面電極5を形成することができる。
後面電極5に含まれているアルミニウムが基板1の背面を通して拡散することにより、後面電極5と基板1との境界面に後面電界(Back Surface field)層が形成できる。後面電界層が形成されると、キャリアが基板1の背面に移動して再結合されるのを防止することができ、キャリアの再結合が防止されると、開放電圧が上昇し、太陽電池の効率が向上できる。
本発明にかかる太陽電池は、最適な組成を有する導電性ペースト組成物を用いて製造された前面電極を含むことにより、低い接触抵抗を提供し、太陽電池の効率が向上できる。
以下、本発明にかかる実施例を参照して、本発明をより詳細に説明する。ただし、このような実施例は、発明の例として提示されたに過ぎず、これによって発明の権利範囲が定められるのではない。
ガラスフリットの製造
製造実施例1−1
SiO17.0重量%、Al8.7重量%、PbO66.0重量%、ZnO6.0重量%、LiO1.7重量%、ZrO0.6重量%を、ボールミル(ball mill)を用いて混合し、80℃で乾燥した。1,000℃で溶融させた後、常温でクエンチング(quenching)した。これをディスクミル方法を用いて粗粉砕した後、プラネタリーミル(planetary mill)を用いて微粉砕し、平均粒径の大きさが5umのガラスフリット(以下、G/F−1と表示)を製造した。
製造実施例1−2
SiO9.3重量%、Al2.4重量%、PbO84.5重量%、ZnO6.0重量%、ZrO3.8重量%を混合したことを除いては、製造実施例1−1と同様の方法でガラスフリット(以下、G/F−2と表示)を製造した。
前記製造実施例1−1および1−2によるガラスフリットの組成を、下記の表1に示した。
Figure 2015509899
リチウムチタン酸化物の製造
製造実施例2−1
水熱合成法を用いて、平均粒径が150nmのリチウムチタン酸化物(以下、LiTi12−150と表示)を製造した。
具体的には、LiCOとTiO(OH)(Sigma Aldrich.Ltd、99.9%)を出発物質とした。LiCOおよびTiO(OH)を、重量比がLiCO:TiO(OH)=1.05:1となるように、100gの超純水(DI water)に投入し、回転ミリング装置(rotary mill)の回転数(rpm)を100として、原料を2時間混合し、スラリーを製造した。
製造されたスラリーを回収し、100℃で噴霧乾燥機を用いて乾燥した。乾燥したパウダーを、高温炉を用いて、750℃で5時間か焼(calcinations)した。次に、回転ミリング装置(rotary mill)に入れて、24時間混合して粉砕した。粉砕されたパウダーを高温焼成炉に入れて、1,050℃で5時間焼結し、結晶性のリチウムチタン酸化物を製造した。
前記製造実施例2−1で得られたリチウムチタン酸化物粒子を、走査顕微鏡(SEM)を用いて5万倍に拡大して粒径を測定し、その結果を図2に示した。図2を参照すれば、平均粒径が150nmのリチウムチタン酸化物粒子が形成されることを確認することができる。
製造実施例2−2
製造実施例2−1と同様に行うものの、回転ミリング装置の回転数を500rpmとし、4時間粉砕し、平均粒径が100nmのリチウムチタン酸化物(以下、LiTi12−100と表示)を製造した。
製造実施例2−3
製造実施例2−1と同様に行うものの、回転ミリング装置の回転数を1,000rpmとし、48時間粉砕し、平均粒径が30nmのリチウムチタン酸化物(以下、LiTi12−30と表示)を製造した。
製造実施例2−4
製造実施例2−1と同様に行うものの、Nb(OH)の0.1gを添加し、平均粒径が150nmであり、Nbがドーピングされたリチウムチタン酸化物(以下、LiTi4.75Nb0.2512−150と表示)を製造した。
製造実施例2−5
製造実施例2−1と同様に行うものの、NaOHの1.0gを添加し、平均粒径が150nmであり、Naがドーピングされたリチウムチタン酸化物(以下、LiTi4.75Na0.2512−150と表示)を製造した。
導電性ペースト組成物の製造
実施例1
銀(Ag)粉末は、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を32.0重量%として用いた。
リチウムチタン酸化物は、製造実施例2−1のLiTi12−150を1.0重量%として用いた。
ガラスフリットは、製造実施例1−2のG/F−2を5.0重量%使用した。
バインダーとしては、エチルセルロース(ethyl cellulose、Dow社Std10)2.0重量%、溶媒としては、BCA(butyl carbitol acetate)4.0重量%、添加剤として、搖変剤(BYK社のAnti−terra204)1.0重量%を混合し、導電性ペースト組成物を製造した。
実施例2
銀(Ag)粉末として、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を31.0重量%として用い、リチウムチタン酸化物は、LiTi12−150を2.0重量%として用いたことを除いては、実施例1と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例3
銀(Ag)粉末として、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を30.0重量%として用い、リチウムチタン酸化物は、LiTi12−150を3.0重量%として用いたことを除いては、実施例1と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例4
銀(Ag)粉末として、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を29.0重量%として用い、リチウムチタン酸化物は、LiTi12−150を4.0重量%として用いたことを除いては、実施例1と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例5
銀(Ag)粉末として、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を28.0重量%として用い、リチウムチタン酸化物は、LiTi12−150を5.0重量%として用いたことを除いては、実施例1と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
比較例1
銀(Ag)粉末は、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を33.0重量%として用いた。
ガラスフリットは、製造実施例1−2のG/F−2を5.0重量%使用した。
バインダーとしては、エチルセルロース(ethyl cellulose、Dow社Std10)2.0重量%、溶媒としては、BCA(butyl carbitol acetate)4.0重量%、添加剤として、搖変剤(BYK社のAnti−terra204)1.0重量%を混合し、導電性ペースト組成物を製造した。
実施例1〜5および比較例1のペースト組成物の構成成分および組成を、下記の表2にまとめた。
Figure 2015509899
実施例6
銀(Ag)粉末は、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を32.0重量%として用いた。
リチウムチタン酸化物は、製造実施例2−1のLiTi12−150を1.0重量%として用いた。
ガラスフリットは、製造実施例1−1のG/F−1を5.0重量%として用いた。
バインダーとしては、エチルセルロース(ethyl cellulose、Dow社Std10)2.0重量%、溶媒としては、BCA(butyl carbitol acetate)4.0重量%、添加剤として、搖変剤(BYK社のAnti−terra204)1.0重量%を混合し、導電性ペースト組成物を製造した。
実施例7
銀(Ag)粉末として、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を31.0重量%として用い、リチウムチタン酸化物は、LiTi12−150を2.0重量%として用いたことを除いては、実施例6と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例8
銀(Ag)粉末として、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を30.0重量%として用い、リチウムチタン酸化物は、LiTi12−150を3.0重量%として用いたことを除いては、実施例6と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例9
銀(Ag)粉末として、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を29.0重量%として用い、リチウムチタン酸化物は、LiTi12−150を4.0重量%として用いたことを除いては、実施例6と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例10
銀(Ag)粉末として、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を28.0重量%として用い、リチウムチタン酸化物は、LiTi12−150を5.0重量%として用いたことを除いては、実施例6と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例6〜10のペースト組成物の構成成分および組成を、下記の表3にまとめた。
Figure 2015509899
実施例11
銀(Ag)粉末は、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を30.0重量%として用いた。
リチウムチタン酸化物としては、製造実施例2−1のLiTi12−150 2.0重量%、および製造実施例2−3のLiTi12−30 1.0重量%を使用した。
ガラスフリットは、製造実施例1−1のG/F−1を5.0重量%として用いた。
バインダーとしては、エチルセルロース(ethyl cellulose、Dow社Std10)2.0重量%、溶媒としては、BCA(butyl carbitol acetate)4.0重量%、添加剤として、搖変剤(BYK社のAnti−terra204)1.0重量%を混合し、導電性ペースト組成物を製造した。
実施例12
(Ag)粉末として、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を31.0重量%として用い、リチウムチタン酸化物は、製造実施例2−2のLiTi12−100を2.0重量%として用いたことを除いては、実施例11と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例13
銀(Ag)粉末として、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を31.0重量%として用い、リチウムチタン酸化物は、製造実施例2−3のLiTi12−30を2.0重量%として用いたことを除いては、実施例11と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例11〜13のペースト組成物の構成成分および組成を、下記の表4にまとめた。
Figure 2015509899
実施例14
銀(Ag)粉末は、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を28.0重量%として用いた。
リチウムチタン酸化物は、製造実施例2−1のリチウムチタン酸化物(LiTi12−150)を2.0重量%、および製造実施例2−3のリチウムチタン酸化物(LiTi12−30)を1.0重量%として用いた。
ガラスフリットは、製造実施例1−1のG/F−1を5.0重量%使用した。
無機添加剤として、ZnO2.0重量%を使用した。
バインダーとしては、エチルセルロース(ethyl cellulose、Dow社Std10)2.0重量%、溶媒としては、BCA(butyl carbitol acetate)4.0重量%、添加剤として、搖変剤(BYK社のAnti−terra204)1.0重量%を混合し、導電性ペースト組成物を製造した。
実施例15
無機添加剤として、ZrO2.0重量%を使用したことを除いては、実施例14と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例16
無機添加剤として、ZnO1.0重量%、およびZrO1.0重量%を使用したことを除いては、実施例14と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例14〜16のペースト組成物の構成成分および組成を、下記の表5にまとめた。
Figure 2015509899
実施例17
銀(Ag)粉末は、Dowa社の平均粒径(d50)2.0μmの銀粒子(商品名4−8F)を55.0重量%、平均粒径(d50)0.8μmの銀粒子(商品名2−1C)を29.0重量%として用いた。
リチウムチタン酸化物は、製造実施例2−4のLiTi4.75Nb0.2512−150を2.0重量%として用いた。
ガラスフリットは、製造実施例1−1のG/F−1を5.0重量%使用した。
無機添加剤としては、ZnO1.0重量%、およびZrO1.0重量%を使用した。
バインダーとしては、エチルセルロース(ethyl cellulose、Dow社Std10)2.0重量%、溶媒としては、BCA(butyl carbitol acetate)4.0重量%、添加剤として、搖変剤(BYK社のAnti−terra204)1.0重量%を混合し、導電性ペースト組成物を製造した。
実施例18
リチウムチタン酸化物として、製造実施例2−5のLiTi4.75Na0.2512−150を2.0重量%として用いたことを除いては、実施例17と同様の方法で導電性ペースト組成物を製造した。
実施例17および18のペースト組成物の構成成分および組成を、下記の表6にまとめた。
Figure 2015509899
太陽電池の製造
実施例19
156mmの多結晶シリコンウエハを用いて、管状炉(tube furnace)で900℃でPOCLを使用する拡散工程によってリン(P)をドーピングし、100Ω/sqの面抵抗を有するエミッタ層を形成した。
前記エミッタ層上にPECVD方法でシリコン窒化膜を蒸着し、80nmの厚さに形成して反射防止膜を形成した。
アルミニウムペースト(Toyo Aluminium K.K社ALSOLAR)を用いて、後面にスクリーンプリンティングした。以降、300℃のベルト焼成炉(belt firing)で60秒間乾燥した後、900℃のベルト焼成炉で60秒間焼結し、後面電極を形成した。焼結後に形成された後面電極の厚さは、約30umに形成された。
反射防止膜の表面に、実施例1で得られた導電性ペースト組成物を、スクリーンプリンタを用いてスクリーン印刷した後、赤外線乾燥炉(infrared firing furnace)を用いて、180℃で1分間乾燥した。次に、赤外線乾燥炉を用いて、600℃から900℃の間で1分〜5分間焼成過程を進行させ、前面電極を形成した。
実施例20〜36
それぞれ実施例2〜18で得られた導電性ペースト組成物を用いて前面電極を形成したことを除いては、実施例19と同様の方法で太陽電池を製造した。
比較例2
比較例1で得られた導電性ペースト組成物を用いて前面電極を形成したことを除いては、実施例19と同様の方法で太陽電池を製造した。
電気的性能の評価
実施例19〜36および比較例2から製造した太陽電池の電気的性能を、ASTM G−173−03により、AM1.5太陽の条件下、米国、NJ、ジュモント(Dumont)所在のNPC Incorporatedのsolar tester、Model NCT−M−180Aを用いて測定した。
その結果を、下記の表7に示した。ここで、Jscは、ゼロ出力電圧で測定された短絡回路の電流密度を意味し、Vocは、ゼロ出力電流で測定された開放回路の電圧を意味し、FF(%)は充填率(fill factor)を、Eta(%)は効率を意味する。
Figure 2015509899
前記表7に示しているように、本発明の導電性ペースト組成物を用いた実施例19〜36の太陽電池は、比較例1に比べて、効率および充填率が顕著に増加することを確認することができた。
1:基板
2:エミッタ層
3:反射防止膜
4:前面電極
5:後面電極

Claims (18)

  1. Al、ZrO、ZnO、およびLiOからなる群より選択される1種以上と、SiOおよびPbOを含むことを特徴とする、ガラスフリット(glass frits)。
  2. 前記ガラスフリットは、SiO5〜30重量%、PbO50〜90重量%、Al0.1〜10重量%、およびZrO0.1〜10重量%を含むことを特徴とする、請求項1に記載のガラスフリット。
  3. 前記ガラスフリットは、SiO5〜30重量%、PbO50〜90重量%、Al0.1〜10重量%、ZrO0.1〜10重量%、ZnO0.1〜10重量%、およびLiO0.1〜10重量%を含むことを特徴とする、請求項1に記載のガラスフリット。
  4. 平均粒径が0.5〜10μmであることを特徴とする、請求項1に記載のガラスフリット。
  5. 銀(Ag)粉末、リチウムチタン酸化物(Lithium titanium oxide)、請求項1〜4のいずれか1項に記載のガラスフリット、バインダー、および溶媒を含むことを特徴とする、導電性ペースト組成物。
  6. 前記ペースト組成物全体100重量部に対して、前記銀粉末は60〜95重量部、前記ガラスフリットは0.1〜10重量部、前記リチウムチタン酸化物は0.1〜5重量部、前記バインダーは1〜20重量部、および前記溶媒は1〜20重量部で含むことを特徴とする、請求項5に記載の導電性ペースト組成物。
  7. 前記リチウムチタン酸化物は、下記の化学式1で表される化合物であることを特徴とする、請求項5に記載の導電性ペースト組成物:
    LiTi5−x12 (化学式1)
    前記化学式1において、xは、各成分のモル比を示すもので、0≦x≦0.25を満足し、Mは、Nb、Zn、Mn、Mg、Fe、Ni、Ca、Bi、Al、Zr、V、Cu、Na、K、およびPからなる群より選択される金属である。
  8. 前記リチウムチタン酸化物は、平均粒径が10〜500nmであることを特徴とする、請求項5に記載の導電性ペースト組成物。
  9. ZnO、ZrO、およびこれらの混合物からなる群より選択された1種以上の金属酸化物をさらに含むことを特徴とする、請求項5に記載の導電性ペースト組成物。
  10. ZnO、ZrO、またはこれらの混合物からなる群より選択された1種以上の金属酸化物を0.1〜10重量部でさらに含むことを特徴とする、請求項6に記載の導電性ペースト組成物。
  11. 前記銀粉末は、平均粒径が0.5〜4μmの球状またはフレーク状の粉末であることを特徴とする、請求項5に記載の導電性ペースト組成物。
  12. 前記バインダーは、不飽和カルボン酸化合物および不飽和二重結合を有する化合物の共重合体であるカルボキシル基含有感光性樹脂、不飽和カルボン酸化合物および不飽和二重結合を有する化合物の共重合体にエチレン性不飽和基をペンダント基として付加したカルボキシル基含有感光性樹脂、並びに不飽和二重結合を有する酸無水物および不飽和二重結合を有する化合物の共重合体と水酸基と不飽和二重結合を有する化合物の反応によって得られるカルボキシル基含有感光性樹脂からなる群より選択された1種以上であるカルボキシル基含有感光性樹脂であることを特徴とする、請求項5に記載の導電性ペースト組成物。
  13. 前記溶媒は、α−テルピノール(a−Terpinol)、ブチルカルビトールアセテート(butyl carbitol acetate)、テキサノール(Texanol)、ブチルカルビトール(butyl carbitol)、およびジプロピレングリコールモノメチルエーテル(Di−propylene glycol monomethyl ether)からなる群より選択される1種以上であることを特徴とする、請求項5に記載の導電性ペースト組成物。
  14. 分散剤、増粘剤、搖変剤、およびレベリング剤からなる群より選択される1種以上の添加剤を0.1〜10重量部でさらに含むことを特徴とする、請求項6に記載の導電性ペースト組成物。
  15. 第1導電性タイプの基板と、
    前記基板上に形成された第2導電性タイプのエミッタ層と、
    前記エミッタ層上に形成された反射防止膜と、
    前記反射防止膜を貫通して前記エミッタ層に接続され、請求項5〜14のいずれか1項に記載の導電性ペースト組成物を用いて形成される前面電極と、
    前記基板の背面に形成された後面電極とを含むことを特徴とする、太陽電池。
  16. 前記基板は、P型不純物でドーピングされ、前記エミッタ層は、N型不純物でドーピングされていることを特徴とする、請求項15に記載の太陽電池。
  17. 前記エミッタ層は、60〜120Ω/sqの面抵抗を有することを特徴とする、請求項15に記載の太陽電池。
  18. 前記反射防止膜は、シリコン窒化膜、水素を含むシリコン窒化膜、シリコン酸化膜、シリコン酸化窒化膜、MgF膜、ZnS膜、TiO膜、CeO膜からなる群より選択されるいずれか1つの単一膜、または前記単一膜の中から選択される2つ以上の膜が組み合わされた多層膜であることを特徴とする、請求項15に記載の太陽電池。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105428073A (zh) * 2015-11-24 2016-03-23 青岛能迅新能源科技有限公司 一种太阳能电池光阳极散射层浆料及其制备方法
JP2018129511A (ja) * 2017-02-07 2018-08-16 エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド 太陽電池
WO2022097839A1 (ko) * 2020-11-06 2022-05-12 엘에스니꼬동제련 주식회사 태양전지 전극용 도전성 페이스트 및 이를 사용하여 제조된 태양전지

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104751937B (zh) * 2013-12-27 2017-05-31 比亚迪股份有限公司 一种太阳能电池用铝导电浆料及其制备方法
KR101650658B1 (ko) * 2015-07-08 2016-08-24 고려대학교 산학협력단 저온 분사 방식을 이용한 태양 전지 전극의 형성 방법
US20170291846A1 (en) 2016-04-07 2017-10-12 Heraeus Precious Metals North America Conshohocken Llc Halogenide containing glasses in metallization pastes for silicon solar cells
US10134925B2 (en) 2016-04-13 2018-11-20 E I Du Pont De Nemours And Company Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith
CN105810289B (zh) * 2016-05-20 2017-10-24 浙江光隆能源科技股份有限公司 背抛光多晶太阳电池使用的铝浆及其制备方法
CN107767985A (zh) * 2016-08-18 2018-03-06 江苏正能电子科技有限公司 一种背钝化太阳能电池铝浆
KR101981127B1 (ko) * 2016-12-28 2019-05-22 한국세라믹기술원 스크린 프린팅이 가능한 반사방지 코팅 조성물 및 이를 이용한 반사방지막의 제조방법
KR101961946B1 (ko) * 2017-07-17 2019-03-25 한화큐셀앤드첨단소재 주식회사 유리프릿, 이를 포함하는 perc 태양전지 전극 형성용 페이스트, 및 perc 태양전지 전극
KR102007860B1 (ko) 2017-11-06 2019-08-06 엘에스니꼬동제련 주식회사 태양전지 전극용 도전성 페이스트 및 이를 사용하여 제조된 태양전지
KR102152840B1 (ko) 2018-11-30 2020-09-07 엘에스니꼬동제련 주식회사 태양전지 전극용 도전성 페이스트 및 이를 사용하여 제조된 태양전지
KR20200068499A (ko) * 2018-12-05 2020-06-15 삼성에스디아이 주식회사 태양전지 전극 형성용 조성물 및 이로부터 제조된 태양전지 전극
CN114883027B (zh) * 2022-05-05 2023-09-01 潮州三环(集团)股份有限公司 一种厚膜电阻浆料

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000169178A (ja) * 1998-10-01 2000-06-20 Nippon Electric Glass Co Ltd プラズマディスプレ―パネル用材料
JP2010228980A (ja) * 2009-03-27 2010-10-14 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 結晶性チタン酸リチウムの製造方法および結晶性チタン酸リチウム
WO2011052336A1 (ja) * 2009-10-29 2011-05-05 日本山村硝子株式会社 ガラス組成物及びそれを用いた導体形成用組成物
JP2011525887A (ja) * 2008-06-26 2011-09-29 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 光起電力電池用導体に用いるガラス組成物

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3772043A (en) * 1970-09-04 1973-11-13 Rockwell International Corp Cermet protective coating glass frit
JPH06239646A (ja) * 1993-02-17 1994-08-30 Asahi Glass Co Ltd 被覆用ガラス組成物及びそれを使用したペースト
JP4219039B2 (ja) * 1999-03-23 2009-02-04 株式会社オハラ 光ファイバー用ガラス
US7018760B2 (en) * 2002-01-08 2006-03-28 Schott Glas Ceramic toner for electro-photographic printing
US6770321B2 (en) * 2002-01-25 2004-08-03 Afg Industries, Inc. Method of making transparent articles utilizing protective layers for optical coatings
DE10354346A1 (de) * 2003-11-20 2005-07-14 Schott Ag Nicht magnetischer, keramischer Einkomponenten-Toner
US7556748B2 (en) * 2005-04-14 2009-07-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method of manufacture of semiconductor device and conductive compositions used therein
CN101223477B (zh) * 2005-07-13 2011-08-31 太阳控股株式会社 银糊剂组合物及使用其的导电性图案的形成方法、以及该导电性图案
WO2007102287A1 (ja) * 2006-03-07 2007-09-13 Murata Manufacturing Co., Ltd. 導電性ペースト及び太陽電池
TWI370552B (en) * 2007-06-08 2012-08-11 Gigastorage Corp Solar cell
US7833439B2 (en) * 2007-07-24 2010-11-16 Ferro Corporation Ultra low-emissivity (ultra low E) silver coating
WO2009052141A1 (en) * 2007-10-18 2009-04-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices
EP2260493A1 (en) * 2008-04-09 2010-12-15 E. I. du Pont de Nemours and Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices
EP2294586B1 (en) * 2008-05-30 2013-07-17 E. I. du Pont de Nemours and Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices
US8158504B2 (en) * 2008-05-30 2012-04-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices—organic medium components
US8076777B2 (en) * 2008-06-26 2011-12-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Glass compositions used in conductors for photovoltaic cells
CN101820002B (zh) * 2009-02-27 2013-05-29 比亚迪股份有限公司 太阳能电池用导电浆料及其制备方法
EP2417608A1 (en) * 2009-03-30 2012-02-15 E. I. du Pont de Nemours and Company Metal pastes and use thereof in the production of silicon solar cells
TW201115592A (en) * 2009-06-19 2011-05-01 Du Pont Glass compositions used in conductors for photovoltaic cells
US20110048527A1 (en) * 2009-08-25 2011-03-03 E.I. Du Pont De Nemours And Company Silver thick film paste compositions and their use in conductors for photovoltaic cells
KR101611456B1 (ko) * 2009-09-02 2016-04-11 엘지이노텍 주식회사 인계 분산제를 포함하는 전극 형성용 페이스트 조성물
WO2011075703A2 (en) * 2009-12-18 2011-06-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Glass compositions used in conductors for photovoltaic cells
KR101683882B1 (ko) * 2009-12-24 2016-12-21 엘지이노텍 주식회사 고효율 실리콘 태양전지 전면전극 형성용 페이스트 조성물 및 이를 포함하는 실리콘 태양전지
KR101135577B1 (ko) * 2010-01-14 2012-04-17 한국과학기술연구원 저온소성용 마이크로파 유전체 세라믹 조성물
US8497420B2 (en) * 2010-05-04 2013-07-30 E I Du Pont De Nemours And Company Thick-film pastes containing lead- and tellurium-oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices
JP6043291B2 (ja) * 2010-10-28 2016-12-14 ヘレウス プレシャス メタルズ ノース アメリカ コンショホーケン エルエルシー 金属添加剤を含有する太陽電池メタライゼーション材料
US8808581B2 (en) * 2011-08-15 2014-08-19 E I Du Pont De Nemours And Company Conductive compositions containing Li2RuO3 and ion-exchanged Li2RuO3 and their use in the manufacture of semiconductor devices
US20130056060A1 (en) * 2011-09-07 2013-03-07 E I Du Pont De Nemours And Company Process for the production of lfc-perc silicon solar cells

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000169178A (ja) * 1998-10-01 2000-06-20 Nippon Electric Glass Co Ltd プラズマディスプレ―パネル用材料
JP2011525887A (ja) * 2008-06-26 2011-09-29 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 光起電力電池用導体に用いるガラス組成物
JP2011526238A (ja) * 2008-06-26 2011-10-06 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 光起電力電池用導体に用いるガラス組成物
JP2010228980A (ja) * 2009-03-27 2010-10-14 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 結晶性チタン酸リチウムの製造方法および結晶性チタン酸リチウム
WO2011052336A1 (ja) * 2009-10-29 2011-05-05 日本山村硝子株式会社 ガラス組成物及びそれを用いた導体形成用組成物

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105428073A (zh) * 2015-11-24 2016-03-23 青岛能迅新能源科技有限公司 一种太阳能电池光阳极散射层浆料及其制备方法
JP2018129511A (ja) * 2017-02-07 2018-08-16 エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド 太陽電池
US11211504B2 (en) 2017-02-07 2021-12-28 Lg Electronics Inc. Solar cell
US11581442B2 (en) 2017-02-07 2023-02-14 Shangrao Jinko Solar Technology Development Co Ltd Solar cell
WO2022097839A1 (ko) * 2020-11-06 2022-05-12 엘에스니꼬동제련 주식회사 태양전지 전극용 도전성 페이스트 및 이를 사용하여 제조된 태양전지

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