JP2015213107A - 半導体光デバイスを製造する方法 - Google Patents
半導体光デバイスを製造する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015213107A JP2015213107A JP2014094652A JP2014094652A JP2015213107A JP 2015213107 A JP2015213107 A JP 2015213107A JP 2014094652 A JP2014094652 A JP 2014094652A JP 2014094652 A JP2014094652 A JP 2014094652A JP 2015213107 A JP2015213107 A JP 2015213107A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- temperature
- substrate
- etching
- optical device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
【解決手段】半導体光デバイスを製造する方法M1では、III族構成元素としてインジウムを含むIII−V族化合物半導体を含む回折格子形成層12を形成し、回折格子形成のためのマスク13を回折格子形成層12の上に形成する。この後に、ICP−RIE装置30の温度設定可能な基板支持台33の面上に回折格子形成層12を有する基板10を配置する。ICP−RIE装置30において、放電により生成された希ガスプラズマに回折格子形成層12を晒して、回折格子形成層12の温度を高める。希ガスプラズマの生成を停止するとともに、ICP−RIE装置30にハロゲンガスを供給して、回折格子の形成のために、ハロゲンガスから生成されたエッチャントに回折格子形成層12を晒す。
【選択図】図4
Description
図1は、第1実施形態に係る半導体光デバイスを製造する方法を示す流れ図である。図2及び図3は、図1に示す方法の各工程により作製される生産物を示す断面図である。図2及び図3には、XYZ座標系が描かれており、XYZ座標系によって生産物の向きが示される。第1実施形態では、半導体光デバイスとして、実屈折率結合型の分布帰還型量子カスケードレーザが製造される。
SiCl4ガスの流量:1〜100sccm。
プロセス圧力:1〜10Pa。
ICPパワー:20〜300W。
Biasパワー:10〜200W。
回折格子12Gが形成された後は、プロセスチャンバ32内に残留するエッチングガスなどが、ガス排出口34bを介して外部に排出される。ガスの排出後、基板10は、プロセスチャンバ32から取り出される。工程S5までの工程により、回折格子形成層12に回折格子12Gが形成され、回折格子層12Aが得られる。
図6は、回折格子形成層のエッチング時における基板温度と経過時間との関係を示す図である。方法M1では、希ガスプラズマによる加熱が行われる一方で、プラズマ加熱が停止された後に、回折格子形成層のエッチングが行われる。このため、エッチングが行われている間に、基板の温度は下降する。図6は、基板温度の下降の様子を調べるための実験を行った結果である。基板はInPを含む。図6に示す実験では、図4に示されるICP−RIE装置において、基板が図5と同様のプラズマ加熱を受けて、基板温度が約200℃に達した時刻が0秒である。また、図6に示す実験では、ICP−RIE装置内の基板支持台の温度は80℃に設定されている。基板支持台の温度調整は、基板支持台に基板が保持された時から開始される。90秒間の希ガスプラズマによる加熱を行う。この加熱が停止された後に、基板温度は、約200℃から下降し始め、60秒後には約180℃にまで下降する。さらに時間が経過すると、基板支持台33に保持された基板の温度は、基板支持台の設定温度に近い約80℃にまで下降し、その後には、ほぼ80℃を維持することが示された。
エッチングガス:SiCl4ガス。
希釈ガス:Arガス。
SiCl4ガスの流量:2 sccm。
Arガスの流量:97sccm。
プロセス圧力:2.5Pa。
ICPパワー:25W。
Biasパワー:15W。
図11は、第2実施形態に係る半導体光デバイスを製造する方法を示す流れ図である。図12及び図13は、図11に示す方法の各工程により作製される生産物を示す断面図である。図12及び図13には、XYZ座標系が描かれており、XYZ座標系によって生産物の向きが示される。第2実施形態では、半導体光デバイスとして、複素屈折率結合型の分布帰還型量子カスケードレーザが製造される。
Claims (7)
- 半導体光デバイスを製造する方法であって、
III族構成元素としてインジウムを含むIII−V族化合物半導体を含む回折格子形成層を基板の上に形成する工程と、
回折格子のためのパターンを有するマスクを前記回折格子形成層の上に形成する工程と、
前記マスクを形成した後に、エッチング装置において、温度設定可能な基板支持台の上に前記基板を配置する工程と、
前記エッチング装置において、放電により生成された希ガスプラズマに前記回折格子形成層を晒して、前記回折格子形成層の温度を高める工程と、
前記希ガスプラズマの生成を停止するとともに、前記エッチング装置にハロゲンガスを供給して、前記回折格子の形成のために、前記ハロゲンガスから生成されたエッチャントに前記回折格子形成層を晒す工程と、
を備え、
前記希ガスプラズマに前記回折格子形成層を晒すことにより、前記回折格子形成層の温度は、前記ハロゲンガスを用いて前記回折格子形成層をエッチング可能な第1温度より高くなり、
前記基板支持台の温度は、前記第1温度より低い第2温度に設定されている、半導体光デバイスを製造する方法。 - 前記III−V族化合物半導体がInGaAs又はInGaAsPであり、
前記ハロゲンガスが塩素又はヨウ素を含む化合物である、請求項1に記載の半導体光デバイスを製造する方法。 - 前記第1温度が200℃以上であり、
前記第2温度が180℃以下である、請求項1又は請求項2に記載の半導体光デバイスを製造する方法。 - 前記希ガスプラズマとしてアルゴンプラズマを備える、請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の半導体光デバイスを製造する方法。
- 前記基板支持台が、ヘリウムガスを用いて前記基板の温度を調整する、請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の半導体光デバイスを製造する方法。
- 前記エッチング装置が、誘導性結合プラズマ―反応性イオンエッチング法を適用可能である、請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の半導体光デバイスを製造する方法。
- 当該半導体光デバイスが量子カスケードレーザである、請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の半導体光デバイスを製造する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014094652A JP6364933B2 (ja) | 2014-05-01 | 2014-05-01 | 半導体光デバイスを製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014094652A JP6364933B2 (ja) | 2014-05-01 | 2014-05-01 | 半導体光デバイスを製造する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015213107A true JP2015213107A (ja) | 2015-11-26 |
JP6364933B2 JP6364933B2 (ja) | 2018-08-01 |
Family
ID=54697230
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014094652A Active JP6364933B2 (ja) | 2014-05-01 | 2014-05-01 | 半導体光デバイスを製造する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6364933B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018200970A (ja) * | 2017-05-29 | 2018-12-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
CN117192668A (zh) * | 2023-11-06 | 2023-12-08 | 杭州拓致光电科技有限公司 | 一种体布拉格光栅的衍射效率补偿方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04100226A (ja) * | 1990-08-20 | 1992-04-02 | Toshiba Corp | ドライエッチング方法 |
US20050189315A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-09-01 | Knight D. G. | Method for manufacturing gratings in semiconductor materials |
JP2006073605A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Tokyo Electron Ltd | マイクロレンズの形成方法 |
JP2007281414A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-10-25 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理方法、プラズマ処理装置、記憶媒体 |
JP2008181996A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Tokyo Electron Ltd | 半導体装置の製造方法、半導体装置の製造装置、制御プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP2010040777A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法およびプラズマエッチング装置 |
JP2010040766A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Ulvac Japan Ltd | 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 |
WO2012125560A2 (en) * | 2011-03-14 | 2012-09-20 | Plasma-Therm, Llc | Method and apparatus for plasma dicing a semi-conductor wafer |
JP2014060212A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-04-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体量子カスケードレーザを作製する方法 |
-
2014
- 2014-05-01 JP JP2014094652A patent/JP6364933B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04100226A (ja) * | 1990-08-20 | 1992-04-02 | Toshiba Corp | ドライエッチング方法 |
US20050189315A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-09-01 | Knight D. G. | Method for manufacturing gratings in semiconductor materials |
JP2006073605A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Tokyo Electron Ltd | マイクロレンズの形成方法 |
JP2007281414A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-10-25 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理方法、プラズマ処理装置、記憶媒体 |
JP2008181996A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Tokyo Electron Ltd | 半導体装置の製造方法、半導体装置の製造装置、制御プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP2010040777A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法およびプラズマエッチング装置 |
JP2010040766A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Ulvac Japan Ltd | 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 |
WO2012125560A2 (en) * | 2011-03-14 | 2012-09-20 | Plasma-Therm, Llc | Method and apparatus for plasma dicing a semi-conductor wafer |
JP2014060212A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-04-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体量子カスケードレーザを作製する方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018200970A (ja) * | 2017-05-29 | 2018-12-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
CN117192668A (zh) * | 2023-11-06 | 2023-12-08 | 杭州拓致光电科技有限公司 | 一种体布拉格光栅的衍射效率补偿方法 |
CN117192668B (zh) * | 2023-11-06 | 2024-02-23 | 杭州拓致光电科技有限公司 | 一种体布拉格光栅的衍射效率补偿方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6364933B2 (ja) | 2018-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5300452A (en) | Method of manufacturing an optoelectronic semiconductor device | |
CN112567503A (zh) | 半导体蚀刻方法 | |
US20120058582A1 (en) | Method for etching insulating film and method for manufacturing semiconductor optical device | |
JP6364933B2 (ja) | 半導体光デバイスを製造する方法 | |
JP2010199573A (ja) | 半導体光デバイスの製造方法 | |
JP3994362B2 (ja) | 化合物半導体装置の製造方法 | |
US7553774B2 (en) | Method of fabricating semiconductor optical device | |
JP2007042759A (ja) | 半導体発光素子を作製する方法 | |
US10186832B2 (en) | Method for fabricating surface emitting laser | |
TW200528576A (en) | Buried heterostructure device fabricated by single step MOCVD | |
JP7195431B2 (ja) | 光半導体装置の製造方法 | |
JP4520777B2 (ja) | 半導体光素子の製造方法 | |
JP2013165262A (ja) | 光半導体素子の製造方法 | |
JP4985411B2 (ja) | 半導体光素子を作製する方法 | |
JP2010267674A (ja) | Iii−v化合物半導体光素子を作製する方法 | |
JP2018101752A (ja) | 半導体光素子およびその製造方法 | |
JP2009117616A (ja) | 半導体光素子を作製する方法 | |
JP2008041688A (ja) | 半導体レーザ素子の製造方法 | |
JP2004281815A (ja) | エッチング方法 | |
GB2618997A (en) | Method of etching indium-based semiconductor materials | |
JP2016027658A (ja) | エッチング方法 | |
JP5239543B2 (ja) | 半導体光素子を作製する方法 | |
JP5076713B2 (ja) | 化合物半導体光デバイスを作製する方法 | |
JP4877146B2 (ja) | 半導体レーザ素子の製造方法 | |
US7955880B2 (en) | Method of producing semiconductor optical device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170420 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180411 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180605 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180618 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6364933 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |