JP2015210336A - 光ファイバの製造方法、光ファイバ、通信機器及び照明 - Google Patents

Abstract

【課題】機械的強度を維持しつつ、熱収縮の低減効果に優れる、光ファイバの製造方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ１０を、延伸工程の前ローラー２０と延伸工程の後ローラー２２との間の延伸工程の加熱炉２１で加熱延伸し、前ローラー３０と後ローラー３２との間の加熱炉３１で前後のローラーの周速度比（後ローラー周速度／前ローラー周速度）を０．９９〜１．０１としてアニールする工程Ａを行い、前ローラー４０と後ローラー４２との間の加熱炉４１で前後のローラーの周速度比を０．５０〜０．９８５としてアニールする工程Ｂを行う。
【選択図】図１

Description

本発明は、光ファイバの製造方法、光ファイバ、通信機器及び照明に関する。

現在、光ファイバは、ガラス等を原料とする石英系光ファイバとアクリル樹脂等を原料とするプラスチック光ファイバが主に用いられている。
プラスチック光ファイバは、石英系光ファイバに対して、大口径で、取り扱い性に優れる等の長所があり、ローカル・エリア・ネットワーク（ＬＡＮ）、ファクトリー・オートメーション（ＦＡ）、オフィス・オートメーション（ＯＡ）等の分野で使用されている。

現在実用化されているプラスチック光ファイバの大部分は、ポリメチルメタクリレートを芯材とした芯鞘構造のプラスチック光ファイバである。その工業的製造プロセスは、複合ノズルを用いて芯材と鞘材を同心円状に配置し、溶融紡糸することでファイバ状に賦形し、次いで機械特性の向上を目的として加熱延伸を行うものが一般的である。

しかしながら、ポリメチルメタクリレートのガラス転移温度は、１００〜１１５℃程度と高くないため、耐熱性の観点から用途が限られてしまう。
プラスチック光ファイバの耐熱性を高めるため、例えば、特許文献１には、鞘層の周囲に保護層を設ける方法が提案されている。また、例えば、特許文献２には、加熱延伸後に前後のローラーの周速度比を１とする定長アニールを行う方法が提案されている。

特開昭５８−１８６０８号公報 国際公開第０１／０２０３７６号パンフレット

しかしながら、特許文献１で提案されている方法では、保護層の材料の耐熱性を向上させても、芯材として用いられるポリメチルメタクリレートのガラス転移温度付近に達すると、芯材が熱収縮を起こしてしまう。
また、特許文献２で提案されている方法では、定長アニールにより、プラスチック光ファイバの軸方向の高分子鎖の配向が維持され、芯材の熱収縮を抑制するものの、その効果は十分とは言えない。

そこで、本発明の目的は、機械特性を維持しつつ、熱収縮の低減効果に優れる、光ファイバの製造方法を提供することにある。

本発明は、加熱延伸した後に、以下の工程Ａ及び工程Ｂを含む、光ファイバの製造方法に関する。
工程Ａ：前後のローラーの周速度比（後ローラー周速度／前ローラー周速度）を０．９９〜１．０１としてアニールする工程
工程Ｂ：前後のローラーの周速度比を０．５０〜０．９８５としてアニールする工程

また、本発明は、前記光ファイバの製造方法により得られる光ファイバに関する。
また、本発明は、前記光ファイバを含む通信機器に関する。
更に、本発明は、前記光ファイバを含む照明に関する。

本発明の光ファイバの製造方法により、機械特性を維持しつつ、熱収縮の低減効果に優れる光ファイバが得られる。
また、本発明の光ファイバは、機械特性を維持しつつ、熱収縮の低減効果に優れる。

図１は本発明の光ファイバの製造方法で用いられる製造装置の一例を示す図である。

以下、本発明の実施の形態について図面を用いながら説明するが、本発明はこれらの図面に限定されるものではない。

（光ファイバ）
本発明の製造方法に用いる光ファイバは、光ファイバとしての機能を有するものであれば特に限定されないが、本発明の効果がより顕著に現れることから、プラスチック光ファイバが好ましく、アクリル樹脂を芯材としたプラスチック光ファイバがより好ましい。

光ファイバの種類としては、例えば、中心から外周に向かって芯の屈折率が段階的に低下する多層光ファイバ、複数の芯を鞘で取り囲んで一纏めにした多芯光ファイバ、中心から外周に向かって連続的に芯の屈折率が低下する屈折率分布型光ファイバ等が挙げられる。これらの光ファイバの種類の中でも、耐熱性に優れることから、多層光ファイバ、多芯光ファイバが好ましく、より長距離の通信を可能とすることから、多層光ファイバがより好ましい。

多層光ファイバは、芯と鞘との界面で光を全反射させ、芯内で光を伝播させる。
多層光ファイバとしては、例えば、芯と芯の外周に１層の鞘を有する多層光ファイバ、芯と芯の外周に２層以上の鞘を有する多層光ファイバ等が挙げられる。

（芯）
芯を構成する材料（芯材）は、透明性の高い材料であれば特に限定されず、使用目的等に応じて適宜選択することができる。

透明性の高い材料としては、例えば、ガラス；アクリル樹脂、スチレン樹脂、カーボネート樹脂等の樹脂等が挙げられる。これらの透明性の高い材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの透明性の高い材料の中でも、耐熱収縮に劣り、本発明の製造方法を行う必要性が高いことから、樹脂が好ましく、より長距離の通信を可能とすることから、アクリル樹脂がより好ましい。

アクリル樹脂としては、例えば、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレート単位を５０質量％以上含む共重合体等が挙げられる。これらのアクリル樹脂は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのアクリル系樹脂の中でも、光学特性、機械特性、耐熱性、透明性に優れることから、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレート単位を５０質量％以上含む共重合体が好ましく、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレート単位を６０質量％以上含む共重合体がより好ましく、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレート単位を７０質量％以上含む共重合体が更に好ましく、メチルメタクリレート単独重合体が特に好ましい。

芯材に用いる樹脂の製造方法としては、例えば、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法等が挙げられる。これらの芯材の製造方法の中でも、異物の混入を抑制できることから、塊状重合法、溶液重合法が好ましい。

（鞘）
鞘は、芯の外周に形成される。鞘は、１層でもよく、２層以上でもよい。
鞘が２層以上ある場合、最外層に耐溶剤性や耐衝撃性等の機能を付与することが好ましい。
鞘を構成する材料（鞘材）は、芯材の屈折率より小さければ特に限定されず、使用目的等に応じて適宜選択することができる。

芯材としてアクリル系樹脂を用いる場合、伝送損失を低減させることができることから、鞘材としてフッ素系樹脂を用いることが好ましい。特に、芯材としてメチルメタクリレート単独重合体やメチルメタクリレート単位を５０質量％以上含む共重合体を用いる場合、伝送損失を低減させることができることから、鞘材としてフッ素系樹脂を用いることが好ましい。

フッ素系樹脂としては、例えば、フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）単独重合体、ＶＤＦ−トリフルオロエチレン共重合体、ＶＤＦ−テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）共重合体、ＶＤＦ−ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）共重合体、ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ−（パーフルオロ）アルキルビニルエーテル共重合体、ＶＤＦ−ヘキサフルオロアセトン共重合体、ＶＤＦ−ＨＦＰ共重合体、ＶＤＦ−ＴＦＥ−ヘキサフルオロアセトン共重合体、エチレン−ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、エチレン−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、フルオロアルキル（メタ）アクリレート重合体、フルオロアルキル（メタ）アクリレート−アルキル（メタ）アクリレート共重合体等が挙げられる。これらのフッ素系樹脂は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
尚、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートをいう。

これらのフッ素系樹脂の中でも、柔軟性、耐衝撃性、透明性、耐薬品性に優れ、低価格であることから、ＶＤＦ−ＴＦＥ共重合体、ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、エチレン−ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、エチレン−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、フルオロアルキル（メタ）アクリレート重合体、フルオロアルキル（メタ）アクリレート−アルキル（メタ）アクリレート共重合体が好ましい。
特に、鞘が１層の場合、耐薬品性に優れることから、ＶＤＦ−ＴＦＥ共重合体、ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、エチレン−ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、エチレン−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、フルオロアルキル（メタ）アクリレート重合体、フルオロアルキル（メタ）アクリレート−アルキル（メタ）アクリレート共重合体が好ましく、機械特性に優れることから、ＶＤＦ−ＴＦＥ共重合体、ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、エチレン−ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、エチレン−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体がより好ましい。
また、鞘が２層の場合、光ファイバを曲げた際に漏光を抑制できることから、内側の層はフルオロアルキル（メタ）アクリレート重合体、フルオロアルキル（メタ）アクリレート−アルキル（メタ）アクリレート共重合体が好ましく、外側の層はＶＤＦ−ＴＦＥ共重合体、ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、エチレン−ＶＤＦ−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体、エチレン−ＴＦＥ−ＨＦＰ共重合体が好ましい。

フルオロアルキル（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート（１３ＦＭ）、２−（パーフルオロオクチル）エチルメタクリレート（１７ＦＭ）等の下記式（１）に示す長鎖フルオロアルキル（メタ）アクリレート；２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート（３ＦＭ）等の下記式（２）に示す短鎖フルオロアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（式中、ｍは１又は２、ｎは５〜１３のいずれかの整数、Ｒは水素原子又はメチル基、Ｘは水素原子又はフッ素原子を示す。）

（式中、ｍは１又は２、ｎは１〜４のいずれかの整数、Ｒは水素原子又はメチル基、Ｘは水素原子又はフッ素原子を示す。）

フルオロアルキル（メタ）アクリレート重合体やフルオロアルキル（メタ）アクリレート−アルキル（メタ）アクリレート共重合体は、伝送損失を低減させることができることから、上記式（１）に示す長鎖フルオロアルキル（メタ）アクリレートの単位１０〜５０質量％、上記式（２）に示す短鎖フルオロアルキル（メタ）アクリレートの単位２０〜９０質量％及び他の共重合可能な単量体単位０〜５０質量％からなる共重合体が好ましい。具体的には、前記含有率の１７ＦＭ−３ＦＭ−メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、前記含有率の１３ＦＭ−３ＦＭ−メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体が好ましい。

（屈折率）
芯材と鞘材の屈折率は、芯材の屈折率より鞘材の屈折率が低ければ特に限定されないが、光が伝播できる最大角度に対する開口数を大きくできることから、芯材の屈折率が１．４５〜１．５５、鞘材の屈折率が１．３５〜１．５１が好ましく、芯材の屈折率が１．４６〜１．５３、鞘材の屈折率が１．３７〜１．４９がより好ましく、芯材の屈折率が１．４７〜１．５１、鞘材の屈折率が１．３９〜１．４７が更に好ましい。
尚、本明細書において、屈折率は、２５℃でナトリウムＤ線を用いて測定した値とする。

（直径・厚さ）
光ファイバの直径は、光ファイバの取り扱い性に優れ、光素子との結合効率や光軸ずれに対する許容度の観点から、０．１ｍｍ〜５ｍｍが好ましく、０．２ｍｍ〜４．５ｍｍがより好ましく、０．３ｍｍ〜４ｍｍが更に好ましい。

芯の直径は、光素子との結合効率や光軸ずれに対する許容度の観点から、光ファイバの直径に対して８５％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９５％以上が更に好ましい。

鞘の厚さは、光素子との結合効率や光軸ずれに対する許容度の観点から、光ファイバの直径に対して７．５％以下が好ましく、５％以下がより好ましく、２．５％以下が更に好ましい。

（紡糸）
光ファイバの紡糸方法としては、例えば、溶融紡糸法等が挙げられる。これらの光ファイバの紡糸方法の中でも、簡便な工程で成形できることから、溶融紡糸が好ましい。
溶融紡糸法による光ファイバの紡糸方法は、例えば、芯材及び鞘材をそれぞれ溶融し、複合紡糸を行う方法が挙げられる。
通常、光ファイバの紡糸は、加熱延伸前に行う。

（加熱延伸）
本発明の光ファイバの製造方法は、後述する工程Ａ及び工程Ｂの前に、加熱延伸を行う。
光ファイバを加熱延伸することで、光ファイバの構成成分の分子鎖が延伸方向に分子配向するため、光ファイバの機械特性を向上させることができる。加熱延伸直後の光ファイバは、残留応力歪みを有するため、光ファイバがガラス転移温度以上の温度に加熱されると、残留応力歪みが解放され、光ファイバが大きく収縮を起こし、機械特性の低下に繋がる。

加熱延伸方法としては、例えば、紡糸後の光ファイバを加熱炉で加熱しながら延伸する方法等が挙げられる。
加熱延伸の装置としては、例えば、前後の２個のローラーの間に加熱炉を配置した装置等が挙げられる。

加熱延伸の加熱温度は、光ファイバの材料、特に、光ファイバの芯材に応じて適宜選択することができるが、［芯材のＴｇ＋５℃］〜［芯材のＴｇ＋６５℃］が好ましく、［芯材のＴｇ＋１０℃］〜［芯材のＴｇ＋６０℃］がより好ましい。
加熱延伸の加熱温度が［芯材のＴｇ＋５℃］以上であると、加熱延伸中に光ファイバが切れることを抑制できる。また、加熱延伸の加熱温度が［芯材のＴｇ＋６５℃］以下であると、光ファイバへの機械特性の付与を十分に行うことができる。
尚、本明細書において、「ガラス転移温度」を「Ｔｇ」と略す場合がある。また、本明細書において、ガラス転移温度は、示差走査熱量測定で得られた温度とする。

加熱延伸の加熱時間は、１秒〜６００秒が好ましく、３秒〜３００秒がより好ましい。加熱延伸の加熱時間が１秒以上であると、光ファイバが適正な温度まで達して延伸されるため、光ファイバの直径の変動を抑制できる。また、加熱延伸の加熱時間が６００秒以下であると、光ファイバへの熱履歴による伝送損失の低下を抑制できる。

加熱延伸の延伸倍率は、１．１倍〜３．５倍が好ましく、１．５倍〜３．０倍がより好ましい。加熱延伸の延伸倍率が１．１倍以上であると、光ファイバへの機械特性の付与を十分に行うことができる。加熱延伸の延伸倍率が３．５倍以下であると、光ファイバに対し均一な延伸を行うことができる。
加熱延伸の延伸倍率は、前後のローラーの周速度比（後ローラー周速度／前ローラー周速度）を調整することで設定することができる。例えば、加熱延伸倍の延伸倍率を２．０倍としたい場合には、前後のローラーの周速度比を２．０に設定すればよい。
尚、本明細書において、「前後のローラーの周速度比」は、「後ローラー周速度／前ローラー周速度」とする。

（アニール）
本発明の光ファイバの製造方法は、以下の工程Ａ及び工程Ｂを含む。
工程Ａ：前後のローラーの周速度比（後ローラー周速度／前ローラー周速度）を０．９９〜１．０１としてアニールする工程
工程Ｂ：前後のローラーの周速度比を０．５０〜０．９８５としてアニールする工程

工程Ａ及び工程Ｂは、いずれもアニールを行う工程である。
アニールとは、歪みの除去を目的として加熱処理を行うことである。
光ファイバをアニールすることで、加熱延伸後に光ファイバに生じた残留応力歪みが緩和され、光ファイバを高温の環境下で用いる場合にピストニングを抑制できる。ピストニングとは、光ファイバに被覆層を設けて光ファイバケーブルとした際に、光ファイバと被覆層との熱収縮の差から、被覆層に対して光ファイバが膨張して突出したり、収縮して引っ込んだりする現象のことである。
工程Ａ及び工程Ｂは、いずれも加熱延伸した後に行う。

アニール方法としては、例えば、加熱延伸後の光ファイバを加熱炉で加熱する方法等が挙げられる。
アニールの装置としては、例えば、前後の２個のローラーの間に加熱炉を配置した装置等が挙げられる。
アニールの加熱方式としては、例えば、乾熱熱風式、真空加熱式、湿熱加熱式等が挙げられる。これらのアニールの加熱方式は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのアニールの加熱方式の中でも、光ファイバの損傷を抑制できることから、乾熱熱風式が好ましい。

工程Ａ及び工程Ｂは、連続でもよく、バッチでもよい。
工程Ａ及び工程Ｂをバッチで行う場合、例えば、加熱延伸後の光ファイバをボビンに巻き取った後に工程Ａを行い、工程Ａ後の光ファイバをボビンに巻き取った後に工程Ｂを行えばよい。

（工程Ａ）
工程Ａは、前後のローラーの周速度比を０．９９〜１．０１としてアニールする工程（いわゆる定長アニール）である。
工程Ａを行うことで、光ファイバの残留応力歪みが緩和されるという効果を有する。工程Ａは、工程Ｂと比較して、加熱延伸で付与した配向の維持に優れる。

工程Ａにおける周速度比は、光ファイバの機械特性に優れることから、０．９９５〜１．００５が好ましい。

工程Ａにおける加熱温度は、光ファイバの材料、特に、光ファイバの芯材に応じて適宜選択することができるが、［芯材のＴｇ−１０℃］〜［芯材のＴｇ＋３０℃］が好ましく、［芯材のＴｇ−５℃］〜［芯材のＴｇ＋２０℃］がより好ましい。工程Ａにおける加熱温度が［芯材のＴｇ−５℃］以上であると、工程Ａがもたらす効果が十分に発現する。また、工程Ａにおける加熱温度が［芯材のＴｇ＋３０℃］以下であると、加熱延伸の効果を維持したまま工程Ａがもたらす効果を付与することができる。

工程Ａにおける加熱時間は、５秒〜３００秒が好ましく、１０秒〜１００秒がより好ましい。工程Ａにおける加熱時間が５秒以上であると、アニールの効果が十分に発現する。工程Ａにおける加熱時間が３００秒以下であると、加熱延伸の効果を維持したまま工程Ａがもたらす効果を付与することができる。

（工程Ｂ）
工程Ｂは、前後のローラーの周速度比を０．５０〜０．９８５としてアニールする工程（いわゆる緩和アニール）である。
工程Ｂを行うことで、光ファイバの残留応力歪みが緩和されるという効果を有する。工程Ｂは、工程Ａと比較して、熱収縮率の低減効果に優れる。

工程Ｂにおける周速度比は、０．５０〜０．９８５であり、０．７５〜０．９８が好ましい。工程Ｂにおける周速度比が０．５０以上であると、工程Ｂにおける光ファイバの糸揺れを抑制することができる。また、工程Ｂにおける周速度比が０．９８５以下であると、熱収縮率の低減効果に優れる。

工程Ｂにおける加熱温度は、光ファイバの材料、特に、光ファイバの芯材に応じて適宜選択することができるが、［芯材のＴｇ−３０℃］〜［芯材のＴｇ＋６０℃］が好ましく、［芯材のＴｇ−５℃］〜［芯材のＴｇ＋３０℃］がより好ましい。工程Ｂにおける加熱温度が［芯材のＴｇ−３０℃］以上であると、光ファイバの熱収縮率を抑制できる。また、工程Ｂにおける加熱温度が［芯材のＴｇ＋６０℃］以下であると、加熱延伸の効果を維持したまま工程Ｂがもたらす効果を付与することができる。

工程Ｂにおける加熱時間は、５秒〜３００秒が好ましく、１０秒〜１２０秒がより好ましい。工程Ｂにおける加熱時間が５秒以上であると、工程Ｂがもたらす効果が十分に発現する。工程Ｂにおける加熱時間が３００秒以下であると、加熱延伸の効果を維持したまま工程Ｂがもたらす効果を付与することができる。

（工程Ａ・工程Ｂ）
工程Ａ及び工程Ｂは、それぞれ１回でもよく、一方が１回で他方が複数回でもよく、それぞれ複数回でもよい。
工程Ａ及び工程Ｂの順序は、どちらが先でも、どちらが後でもよいが、延伸工程で付与された機械特性の低下を抑制できることから、工程Ａの後に工程Ｂを行うことが好ましい。

工程Ａ及び工程Ｂにおける加熱温度において、工程Ａがもたらす効果を維持することができることから、工程Ａにおける加熱温度よりも工程Ｂにおける加熱温度の方が、０℃以上低いことが好ましく、５℃以上低いことが好ましい。

本発明の光ファイバの製造方法は、例えば、図１に示す製造装置を用いることができる。
図１に示す装置は、光ファイバ１０を、延伸工程の前ローラー２０と延伸工程の後ローラー２２との間の延伸工程の加熱炉２１で加熱延伸し、工程Ａの前ローラー３０と工程Ａの後ローラー３２との間の工程Ａの加熱炉３１で工程Ａを行い、工程Ｂの前ローラー４０と工程Ｂの後ローラー４２との間の工程Ｂの加熱炉４１で工程Ｂを行うものである。

（被覆層）
本発明の光ファイバの製造方法で得られる光ファイバは、必要に応じて、外周に被覆層を設け、光ファイバケーブルとして用いてもよい。

被覆層を構成する材料としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のオレフィン樹脂；塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂等の塩素樹脂；フッ素樹脂；ウレタン樹脂；スチレン樹脂；ポリアミド樹脂等が挙げられる。これらの被覆層を構成する材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

被覆層は、１層でもよく、２層以上でもよい。

（用途）
本発明の光ファイバの製造方法により得られる光ファイバは、例えば、ローカル・エリア・ネットワーク（ＬＡＮ）、ファクトリー・オートメーション（ＦＡ）、オフィス・オートメーション（ＯＡ）等の通信機器；照明；工業用センサ等に用いることができ、特に、通信機器、照明に好適である。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

（熱収縮率の測定方法）
実施例・比較例で得られた光ファイバに約１００ｃｍの間隔で印を付与し、この印の間隔を正確に測り、加熱前長さとした。その後、光ファイバを９０℃の乾燥器内に２４時間入れ、取り出した光ファイバの印の間隔を正確に測り、加熱後長さとした。
熱収縮率（％）は、加熱前長さと加熱後長さとから、以下の数式（１）から算出した。
熱収縮率（％）＝｛（加熱前長さ）−（加熱後長さ）｝／（加熱前長さ）×１００ （１）
光ファイバの熱収縮率が低いと、耐熱性やピストニング抑制に優れることを意味する。

（延伸倍率の測定方法）
実施例・比較例で得られた光ファイバの直径を測り、加熱前直径とした。その後、光ファイバを１５０℃で２０分間加熱し、光ファイバの直径を測り、加熱後直径とした。
延伸倍率（倍）は、加熱前直径と加熱後直径とから、以下の数式（２）から算出した。
延伸倍率（倍）＝｛（加熱後直径）^２｝／｛（加熱前直径）^２｝
光ファイバの延伸倍率が高いと、屈曲性等の機械特性に優れることを意味する。

（屈折率の測定方法）
アッベ屈折計（機種名機種名「ＮＡＲ−３Ｔ」、（株）アタゴ製）を用い、２５℃、ナトリウムＤ線を用いて、屈折率を測定した。

（ガラス転移温度の測定方法）
示差走査熱量計（機種名「ＤＳＣ−２００」、セイコーインスツル（株）製）を用い、測定用パンに測定サンプルを１０ｍｇ入れ、昇温温度５０℃／分で２００℃まで昇温させ、５分間保持して溶融させた後、測定用パンをドライアイス上で急冷固化させ、昇温温度１０℃／分で２５℃から２００℃まで昇温させ、得られたグラフのショルダー値をガラス転移温度（℃）とした。

［参考例］
芯材としてポリメチルメタクリレート（屈折率１．４９２、ガラス転移温度１０５℃）、１層目（内側の層）の鞘材として２，２，２−トリフルオロメチルメタクリレート５１質量部と１，１，２，２−テトラヒドロパーフルオロデシルメタクリレート３０質量部とメチルメタクリレート１８質量部とメタクリル酸１質量部との共重合体（屈折率１．４１７）、２層目（外側の層）の鞘材としてフッ化ビニリデン８０モル％とテトラフルオロエチレン２０モル％との共重合体（屈折率１．４０２）を用いた。
これらの重合体を溶融して２２５℃の紡糸ヘッドへ供給し、３層構造の同心円状複合紡糸ノズルを用いて溶融紡糸し、１４０℃の熱風加熱炉中で繊維軸方向に２倍に延伸し、１層目の鞘の厚さが５μｍ、２層目の鞘の厚さが１０μｍの直径１ｍｍの、加熱延伸したプラスチック光ファイバを得た。

［実施例１］
参考例で得られた光ファイバを、前後のローラーの周速度比を１．００、乾熱熱風式の熱風加熱炉により加熱温度１２０℃、加熱時間２０秒の条件でアニールを行った。次いで、前後のローラーの周速度比を０．９７、乾熱熱風式の熱風加熱炉により加熱温度１１０℃、加熱時間６０秒の条件でアニールを行い、光ファイバを得た。
得られた光ファイバの熱収縮率と延伸倍率を、表１に示す。

［実施例２〜１１］
アニールの条件を表１のように変更した以外は、実施例１と同様に操作を行い、光ファイバを得た。
得られた光ファイバの熱収縮率と延伸倍率を、表１に示す。

［比較例１〜６］
アニールの条件を表１のように変更した以外は、実施例１と同様に操作を行い、光ファイバを得た。
得られた光ファイバの熱収縮率と延伸倍率を、表１に示す。

実施例で得られた光ファイバは、熱収縮率が低いため耐熱性やピストニング抑制に優れ、延伸倍率が高いため機械特性に優れた。
一方、比較例１〜４で得られた光ファイバは、工程Ｂがないため、熱収縮率が高く、耐熱性に劣った。また、比較例５〜６で得られた光ファイバは、工程Ａがないため、延伸倍率が低く、機械特性に劣った。

本発明の光ファイバの製造方法により得られる光ファイバは、例えば、ローカル・エリア・ネットワーク（ＬＡＮ）、ファクトリー・オートメーション（ＦＡ）、オフィス・オートメーション（ＯＡ）等の通信機器；照明；工業用センサ等に用いることができ、特に、通信機器、照明に好適である。

１０ 光ファイバ
２０ 延伸工程の前ローラー
２１ 延伸工程の加熱炉
２２ 延伸工程の後ローラー
３０ 工程Ａの前ローラー
３１ 工程Ａの加熱炉
３２ 工程Ａの後ローラー
４０ 工程Ｂの前ローラー
４１ 工程Ｂの加熱炉
４２ 工程Ｂの後ローラー

Claims (9)

1. 加熱延伸した後に、以下の工程Ａ及び工程Ｂを含む、光ファイバの製造方法。
   工程Ａ：前後のローラーの周速度比（後ローラー周速度／前ローラー周速度）を０．９９〜１．０１としてアニールする工程
   工程Ｂ：前後のローラーの周速度比を０．５０〜０．９８５としてアニールする工程
2. 工程Ａの後に工程Ｂを行う、請求項１に記載の光ファイバの製造方法。
3. 光ファイバが、芯と芯の外周に形成される鞘とを有する、請求項１又は２に記載の光ファイバの製造方法。
4. 工程Ｂにおける加熱温度が、［芯を構成する材料のガラス転移温度−５℃］〜［芯を構成する材料のガラス転移温度＋３０℃］である、請求項３に記載の光ファイバの製造方法。
5. 芯の材料が、メチルメタクリレート単位を５０質量％以上含む重合体である、請求項３又は４に記載の光ファイバの製造方法。
6. 工程Ａにおける加熱温度よりも工程Ｂにおける加熱温度の方が、５℃以上低い、請求項１〜５のいずれかに記載の光ファイバの製造方法。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の光ファイバの製造方法により得られる光ファイバ。
8. 請求項７に記載の光ファイバを含む通信機器。
9. 請求項７に記載の光ファイバを含む照明。