JP2015209363A - Re123結晶膜作成方法。 - Google Patents
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Abstract
Description
気相成長法は、高真空かつ900℃程度の高温環境を要する。さらに、成膜速度が約0.1μm/minと非常に遅い。従って成膜コストの低減化が困難であるという問題点があった。また、超伝導ケーブルを作製する場合、高い温度に起因し、基材である金属テープからRE123膜へ金属元素が拡散し、超伝導特性を劣化させてしまうという問題点があった。
なお、好ましくは550℃以上650度以下である。基板は、必ずしも板状である必要はなく、広く、RE123と格子定数が近似した、エピタキシャル成長させる種となりうるものであれば特に限定されない。組成比については、この範囲内にあれば好適にRE123を得ることができる。
物理的手法としては、イオンでスパッタしたり、イオンを照射したりする例を挙げることができ、機械的な手法としては、粗い材料で表面に傷をつける例を挙げることができる。
ここでは、REとしてYを、基板としてNdGaO3(001)を、溶融剤としてKOHを採用してY123結晶膜の作成をおこなった。
まず、化学的な手法にて表面にエッチピット様の凹凸を形成させるのは、溶融剤KOH以外にも、NaOH、LiOH、Ba(OH)2、または、これらの混合物などの強アルカリを用いることができる。
Claims (5)
- 希土類系銅酸化物高温超伝導体REBa2Cu3Oy(ただし、REは希土類元素を表し、yは6〜7を表す。)を基板上に膜成長させる方法であって、
RE:Ba:Cuの組成比が1:2〜3:2〜7の間となる様に調整した原料を、500℃を越え700℃未満の還元雰囲気下において、溶融した水酸化物に溶解させ、基板上にREBa2Cu3Oyを膜成長させることを特徴とする結晶膜作成方法。 - 前記基板は、エッチピット様の凹凸が表面に存在する基板であることを特徴とする請求項1に記載の結晶膜作成方法。
- 基板に、NdGaO3、LaAlO3、MgO、または、SrTiO3を用いることを特徴とする請求項1または2に記載の結晶膜作成方法。
- 水酸化物としてKOH、NaOH、LiOH、Ba(OH)2、または、これらの混合物を用いることを特徴とする請求項1、2または3に記載の結晶膜作成方法。
- NdGaO3、LaAlO3、MgO、または、SrTiO3の単結晶基板であって、表面に、化学的、物理的、または、機械的手法により形成されたエッチピット様の凹凸が形成されたことを特徴とするREBa2Cu3Oy(ただし、REは希土類元素を表し、yは6〜7を表す。)の結晶膜成長用基板。
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