JP2015147262A - 研削方法 - Google Patents

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隆俊 増田
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Abstract

【課題】被加工面の平坦性を確保しながら加工時間を短縮可能な新たな研削方法を提供する。【解決手段】研削方法を、板状物11を保持テーブル14で保持する保持ステップと、超音波生成手段を作用させて研削砥石40に第一の振幅を有する振動をスピンドル32の軸心方向に生じさせつつ保持テーブルで保持された板状物を研削手段28で研削する第一研削ステップと、第一研削ステップを実施した後、超音波生成手段を作用させて研削砥石に第一の振幅よりも小さい第二の振幅を有する振動をスピンドルの軸心方向に生じさせつつ保持テーブルで保持された板状物を研削手段で研削する第二研削ステップと、を備える構成とした。【選択図】図4

Description

本発明は、半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等の板状物を研削する研削方法に関する。
近年、小型軽量なデバイスを実現するために、半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等の板状物を研削によって薄く加工することが求められている。例えば、研削ホイールの下面に固定された研削用の砥石(研削砥石)を板状物の被加工面に押し付け、板状物と研削ホイールとを相互に回転させることで板状物を研削できる。
上述した研削砥石は、所定サイズの砥粒を含んでいる。この砥粒の粒径(砥粒径)を小さくすると、表面粗さを小さくして被加工面を平坦にできるが、研削に要する時間(加工時間)は長くなる。一方、砥粒径を大きくすると、表面粗さは大きくなるが、加工時間を短くできる。
そのため、一般には、砥粒径の大きな研削砥石を用いて粗い研削(粗研削)を実施した後、砥粒径の小さな研削砥石を用いて細かい研削(仕上げ研削)を実施することで、加工時間を短くすると共に被加工面の平坦性を確保している(例えば、特許文献1参照)。また、実質的な加工時間を短縮するために、複数の研削ホイールを同時に使用する研削方法も提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2010−12565号公報 特開2001−1261号公報
しかしながら、上述した研削方法による加工時間の短縮にも限界があり、更なる加工時間の短縮が望まれている。本発明はかかる要望に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、被加工面の平坦性を確保しながら加工時間を短縮可能な新たな研削方法を提供することである。
本発明によれば、板状物を保持し回転可能な保持テーブルと、該保持テーブルに保持された板状物を研削する研削砥石を含む研削ホイールと該研削ホイールが装着されるスピンドルとを有した研削手段と、該研削砥石に超音波振動を生成する超音波生成手段と、を備えた研削装置で板状物を研削する研削方法であって、板状物を保持テーブルで保持する保持ステップと、該超音波生成手段を作用させて該研削砥石に第一の振幅を有する振動を該スピンドルの軸心方向に生じさせつつ該保持テーブルで保持された板状物を該研削手段で研削する第一研削ステップと、該第一研削ステップを実施した後、該超音波生成手段を作用させて該研削砥石に該第一の振幅よりも小さい第二の振幅を有する振動を該スピンドルの軸心方向に生じさせつつ該保持テーブルで保持された板状物を該研削手段で研削する第二研削ステップと、を備えたことを特徴とする研削方法が提供される。
本発明の研削方法では、研削砥石を第一の振幅で振動させて板状物を研削する第一研削ステップの後に、研削砥石を第一の振幅より小さい第二の振幅で振動させて板状物を研削する第二研削ステップを実施するので、第一研削ステップで加工時間を短縮しながら第二研削ステップで被加工面の平坦性を確保できる。
すなわち、本発明の研削方法によれば、砥粒径の小さな研削砥石を用いても研削の進行速度を低下させずに済むので、例えば、粗研削において、研削の進行速度を低下させることなく被加工面の平坦性を高めることができる。その結果、後の仕上げ研削における研削量を減らして、加工時間を短縮できる。
本実施の形態に係る研削方法で使用される研削装置の構成を模式的に示す斜視図である。 研削ユニットの構成を模式的に示す図である。 研削ホイールの構成を模式的に示す一部断面側面図である。 第一研削ステップ及び第二研削ステップを模式的に示す斜視図である。
添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。本実施の形態に係る研削方法は、保持ステップ、第一研削ステップ、第二研削ステップを含む。保持ステップでは、加工対象の板状物を研削装置の保持テーブルに保持させる。
第一研削ステップでは、研削砥石を第一の振幅でスピンドルの軸心方向に振動(超音波振動)させて板状物を研削する。第二研削ステップでは、研削砥石を第一の振幅より小さい第二の振幅でスピンドルの軸心方向に振動(超音波振動)させて板状物を研削する。以下、本実施の形態に係る研削方法について詳述する。
まず、本実施の形態に係る研削方法で使用される研削装置について説明する。図1は、本実施の形態に係る研削方法で使用される研削装置の構成を模式的に示す斜視図である。図1に示すように、本実施の形態に係る研削装置2は、各種の構成が搭載される直方体状の基台4を備えている。基台4の後端には、上方に伸びる支持壁6が立設されている。
基台4の上面には、X軸方向(前後方向)に長い矩形状の開口4aが形成されている。この開口4a内には、X軸移動テーブル8、X軸移動テーブル8をX軸方向に移動させるX軸移動機構(不図示)、及びX軸移動機構を覆う防水カバー10が配置されている。また、開口4aの前方には、研削条件等を入力するための操作パネル12が設置されている。
X軸移動機構は、X軸方向に平行な一対のX軸ガイドレール(不図示)を備えており、X軸ガイドレールには、X軸移動テーブル8がスライド可能に設置されている。X軸移動テーブル8の下面側には、ナット部(不図示)が固定されており、このナット部には、X軸ガイドレールと平行なX軸ボールネジ(不図示)が螺合されている。
X軸ボールネジの一端部には、X軸パルスモータ(不図示)が連結されている。X軸パルスモータでX軸ボールネジを回転させることにより、X軸移動テーブル8はX軸ガイドレールに沿ってX軸方向に移動する。
X軸移動テーブル8上には、半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等の板状物11(図4参照)を吸引保持する保持テーブル14が設けられている。保持テーブル14は、モータ等の回転機構(不図示)と連結されており、Z軸方向(鉛直方向)に伸びる回転軸の周りに回転する。また、保持テーブル14は、上述したX軸移動機構によって、X軸移動テーブル8と共にX軸方向に移動する。
保持テーブル14の上面は、板状物11を吸引保持する保持面14aとなっている。この保持面14aは、保持テーブル14の内部に形成された流路(不図示)を通じて吸引源(不図示)と接続されている。保持テーブル14に載置された板状物11は、保持面14aに作用する吸引源の負圧で保持テーブル14に吸引保持される。
支持壁6の前面には、Z軸移動機構16が設けられている。Z軸移動機構16は、Z軸方向に平行な一対のZ軸ガイドレール18を備えており、このZ軸ガイドレール18には、Z軸移動テーブル20がスライド可能に設置されている。
Z軸移動テーブル20の後面側(裏面側)には、ナット部(不図示)が固定されており、このナット部には、Z軸ガイドレール18と平行なZ軸ボールネジ22が螺合されている。Z軸ボールネジ22の一端部には、Z軸パルスモータ24が連結されている。Z軸パルスモータ24でZ軸ボールネジ22を回転させることにより、Z軸移動テーブル20はZ軸ガイドレール18に沿ってZ軸方向に移動する。
Z軸移動テーブル20の前面(表面)には、前方に突出した支持構造26が設けられており、この支持構造26には、板状物11を研削する研削ユニット(研削手段)28が支持されている。研削ユニット28は、支持構造26に固定されたスピンドルハウジング30を含んでいる。スピンドルハウジング30には、スピンドル32が回転可能に支持されている。
図2は、研削ユニット28の構成を模式的に示す図である。図2に示すように、スピンドルハウジング30の内部に設けられた収容室30aには、回転軸となるスピンドル32が収容されている。スピンドルハウジング30の下端側には、収容室30aを開放する開口30bが形成されており、開口30bを通じて収容室30aの外部に突き出たスピンドル32の先端部(下端部)32aには、円盤状のホイールマウント34が固定されている。
ホイールマウント34の下面には、ホイールマウント34と略同径に構成された円柱状の研削ホイール36が複数のボルト38で取り付けられている。この研削ホイール36の下面には、全周にわたって複数の研削砥石40が固定されている。また、研削ホイール36の内部には、研削砥石40をスピンドル32の軸心方向(すなわち、Z軸方向)に振動(超音波振動)させる超音波振動子(超音波生成手段)84(図3参照)が設けられている。
スピンドル32の中間部32bには、スピンドル32に回転力を付与するモータ42が連結されている。モータ42は、スピンドルハウジング30の収容室30a内に固定されたステータ44と、スピンドル32の中間部32bに取り付けられたロータ46とを含み、ステータ44とロータ46との間に作用する電磁力でスピンドル32を回転させる。
このモータ42は、配線48及び回転制御装置50を介して交流電源52と接続されている。回転制御装置50は、操作パネル12(図1)等と接続されており、入力された研削条件等に対応するスピンドル32の回転数を実現するように、交流電源52の交流電力を調整してモータ42に供給する。
また、スピンドル32の基端部(上端部)32cには、研削ホイール36の超音波振動子84に交流電力を供給するためのロータリートランス54が接続されている。このロータリートランス54は、スピンドルハウジング30の収容室30a内に固定された給電部56と、スピンドル32の基端部32cに取り付けられた受電部58とを含む。
給電部56は、収容室30a内に固定された円筒状のステータコア60と、ステータコア60の内周面に設けられた給電コイル62とで構成される。一方、受電部58は、スピンドル32に装着されたローターコア64と、ローターコア64の外周面に巻回された受電コイル66とで構成されている。
給電部56の給電コイル62は、配線68及び電圧調整装置70を介して交流電源52と接続されている。電圧調整装置70には、給電コイル62に供給する交流電力の周波数を調整する周波数調整装置72が接続されている。また、電圧調整装置70及び周波数調整装置72には、これらを制御する振動制御装置74が接続されている。
振動制御装置74は、操作パネル12等と接続されており、入力された研削条件等に対応する研削砥石40の振動(超音波振動)を実現するように、電圧調整装置70及び周波数調整装置72を制御する。
受電部58の受電コイル66には、導線76の一端側が接続されている。この導線76は、スピンドル32の内部において軸心方向に形成された貫通孔32dに挿通されており、ホイールマウント34に形成された開口34a(図3参照)を通じて研削ホイール36側の導線86(図3参照)と接続される。これにより、給電コイル62から受電コイル66に伝送された交流電力を超音波振動子84に供給できる。
図3は、研削ホイール36の構成を模式的に示す一部断面側面図である。図3に示すように、研削ホイール36は、ホイールマウント34の下面に固定される円盤状の装着プレート78を備えている。装着プレート78の中央部分には、ホイールマウント34の開口34aに対応する貫通孔78aが形成されている。
また、装着プレート78の外周部分には、ホイールマウント34の外周部分に設けられたボルト挿通孔34bに対応するネジ孔78bが形成されている。このネジ孔78bに、ボルト挿通孔34bを通じてボルト38を締め込むことで、研削ホイール36をホイールマウント34に固定できる。
装着プレート78の下面には、ベースプレート80が固定されている。ベースプレート80は、円盤状のプレート部80aと、プレート部80aの中央から上方に突出する円柱状の連結部80bとを含んでいる。ベースプレート80の下面(すなわち、プレート部80aの下面)には、全周にわたって複数の研削砥石40が固定されている。
また、プレート部80aの下面中央には、装着プレート78にベースプレート80を固定するためのボルト82を収容する凹部80cが形成されている。ベースプレート80は、この凹部80cに収容されたボルト82によって、連結部80bの上面を装着プレート78の下面に接触させた状態で装着プレート78に固定される。
プレート部80aの上面には、連結部80bを囲む環状の溝80dが形成されている。環状の溝80dには、研削砥石40を振動(超音波振動)させる超音波振動子84が固定されている。超音波振動子84としては、例えば、チタン酸バリウム(BaTiO)、チタン酸ジルコン酸鉛(Pb(Zi,Ti)O)、リチウムナイオベート(LiNbO)、リチウムタンタレート(LiTaO)等の材料で構成されたものを用いることができる。
この超音波振動子84には、導線86の一端側が接続されている。導線86は、連結部80bを水平方向に貫通する貫通孔80e、連結部80bを鉛直方向に貫通する貫通孔80f、及び装着プレート78の貫通孔78aを通じて研削ホイール36の上面側に引き出され、コネクタ88を介してスピンドル32側の導線76と接続される。
装着プレート78及びベースプレート80の外周には、ステンレス鋼板等で形成された円筒状の薄板90が、複数のネジ92で固定されている。この薄板90により、研削ホイール36の側面(外周)全体が覆われている。
次に、上述した研削装置2を用いて実施される本実施の形態に係る研削方法を説明する。本実施の形態に係る研削方法では、まず、加工対象の板状物11を研削装置2の保持テーブル14で保持する保持ステップを実施する。なお、板状物11の被保持面(被加工面とは反対側の面)には、あらかじめ保護部材13を貼着しておく。
保持ステップでは、板状物11に貼着された保護部材13を保持テーブル14の保持面14aに接触させて、吸引源の負圧を作用させる。これにより、板状物11は、被保持面側に貼着された保護部材13を介して保持テーブル14に吸引保持され、板状物11の被加工面が上方に露出する。
保持ステップの後には、例えば、粗研削ステップの一部として、研削砥石40を第一の振幅で振動させて板状物11を研削する第一研削ステップを実施する。図4は、第一研削ステップ及び第二研削ステップを模式的に示す斜視図である。
第一研削ステップでは、保持テーブル14とスピンドル32とを、それぞれ所定の回転方向に回転させつつ、スピンドル32を下降させて、図4に示すように、板状物11の被加工面に研削砥石40の下面を接触させる。
この時、超音波振動子84に所定の電力を供給し、研削砥石40に、スピンドル32の軸心方向の第一の振幅の振動(超音波振動)を発生させておく。この振動によって研削能力は高められるので、研削に使用する研削砥石40の砥粒径を小さくしても、研削速度は低下せずに済む。
例えば、シリコンウェーハの粗研削は、通常、♯280、♯320程度の粗い砥粒を含む研削砥石40を用いて実施されている。これに対して、本実施の形態の研削方法では、例えば、超音波振動子84に5W程度の電力を供給することで、♯600程度の比較的細かい砥粒を含む研削砥石40を用いても、同等以上の研削速度を実現できる。
第一研削ステップの後には、例えば、粗研削ステップの一部として、研削砥石40を第一の振幅より小さい第二の振幅で振動させて板状物11を研削する第二研削ステップを実施する。この第二研削ステップは、第一研削ステップと同じ研削砥石40を用いて、第一研削ステップと同様に実施される。
ただし、この第二研削ステップでは、超音波振動子84に第一研削ステップで供給した電力より小さい電力を供給し、研削砥石40に、スピンドル32の軸心方向の第一の振幅より小さい第二の振幅の振動(超音波振動)を発生させる。
これにより、第一研削ステップと比較して研削速度は低下するが、被加工面の平坦性を高めることができる。例えば、上述した♯600程度の砥粒を含む研削砥石40を用いるシリコンウェーハの粗研削では、超音波振動子84に3W程度の電力を供給しながら第二研削ステップを実施すると良い。
なお、第二研削ステップでは第一研削ステップよりも研削速度が低下するので、加工時間を十分に短くするためには、第二研削ステップの研削量を第一研削ステップの研削量より小さく設定しておくことが好ましい。
第二研削ステップの後には、例えば、任意の仕上げ研削ステップを実施する。上述したシリコンウェーハの仕上げ研削は、通常、♯2000程度の砥粒をレジンで結合した研削砥石や、♯6000程度の砥粒をビトリファイドで結合した研削砥石を用いて実施できる。
以上のように、本実施の形態に係る研削方法では、研削砥石40を第一の振幅で振動させて板状物11を研削する第一研削ステップの後に、研削砥石40を第一の振幅より小さい第二の振幅で振動させて板状物11を研削する第二研削ステップを実施するので、第一研削ステップで加工時間を短縮しながら第二研削ステップで被加工面の平坦性を確保できる。
すなわち、本実施の形態に係る研削方法によれば、砥粒径の小さな研削砥石40を用いても研削の進行速度を低下させずに済むので、例えば、粗研削において、研削の進行速度を低下させることなく被加工面の平坦性を高めることができる。その結果、後の仕上げ研削における研削量を減らして、加工時間を短縮できる。
なお、本発明は上記実施の形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施の形態では、いわゆる粗研削に本発明の研削方法を適用しているが、本発明の研削方法は、仕上げ研削に適用されても良い。
また、本発明の第一研削ステップを粗研削として用い、本発明の第二研削ステップを仕上げ研削として用いることもできる。この場合、1台の研削ユニット28で板状物11の粗研削及び仕上げ研削を実施できるので、研削装置2が大型化せずに済むというメリットがある。
さらに、上記実施の形態では、二段階の研削ステップ(第一研削ステップ及び第二研削ステップ)を含む研削方法について示しているが、本発明の研削方法は、三段階以上の研削ステップを含んでも良い。ただし、後段の研削ステップでは、前段の研削ステップよりも被加工面の平坦性を高めるようにする。
例えば、第二研削ステップの後に、第二の振幅より小さい第三の振幅で研削砥石40を振動させて板状物11を研削する第三研削ステップを実施することができる。上述した♯600程度の砥粒を含む研削砥石40を用いるシリコンウェーハの粗研削では、例えば、超音波振動子84に1W程度の電力を供給しながら第三研削ステップを実施すると良い。
各研削ステップの研削量は任意であるが、加工時間を十分に短くするためには、第二研削ステップ及び第三研削ステップの研削量を第一研削ステップの研削量より小さく設定しておくことが好ましい。
例えば、♯600程度の砥粒を含む研削砥石40を用いてシリコンウェーハを725μmから200μmまで薄くする場合には、第一研削ステップの研削量を465μm程度とし、第二研削ステップの研削量を30μm程度とし、第三研削ステップの研削量を30μm程度とすれば良い。
また、第二研削ステップ(又は第三研削ステップ)の後には、研削砥石40を振動させずに板状物11を研削する研削ステップを実施しても良い。その他、上記実施の形態に係る構成、方法などは、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
2 研削装置
4 基台
4a 開口
6 支持壁
8 X軸移動テーブル
10 防水カバー
12 操作パネル
14 保持テーブル
14a 保持面
16 Z軸移動機構
18 Z軸ガイドレール
20 Z軸移動テーブル
22 Z軸ボールネジ
24 Z軸パルスモータ
26 支持構造
28 研削ユニット(研削手段)
30 スピンドルハウジング
30a 収容室
30b 開口
32 スピンドル
32a 先端部(下端部)
32b 中間部
32c 基端部(上端部)
32d 貫通孔
34 ホイールマウント
34a 開口
34b ボルト挿通孔
36 研削ホイール
38 ボルト
40 研削砥石
42 モータ
44 ステータ
46 ロータ
48 配線
50 回転制御装置
52 交流電源
54 ロータリートランス
56 給電部
58 受電部
60 ステータコア
62 給電コイル
64 ローターコア
66 受電コイル
68 配線
70 電圧調整装置
72 周波数調整装置
74 振動制御装置
76 導線
78 装着プレート
78a 貫通孔
78b ネジ孔
80 ベースプレート
80a プレート部
80b 連結部
80c 凹部
80d 溝
80e 貫通孔
80f 貫通孔
82 ボルト
84 超音波振動子(超音波生成手段)
86 導線
88 コネクタ
90 薄板
92 ネジ
11 板状物
13 保護部材

Claims (1)

  1. 板状物を保持し回転可能な保持テーブルと、該保持テーブルに保持された板状物を研削する研削砥石を含む研削ホイールと該研削ホイールが装着されるスピンドルとを有した研削手段と、該研削砥石に超音波振動を生成する超音波生成手段と、を備えた研削装置で板状物を研削する研削方法であって、
    板状物を保持テーブルで保持する保持ステップと、
    該超音波生成手段を作用させて該研削砥石に第一の振幅を有する振動を該スピンドルの軸心方向に生じさせつつ該保持テーブルで保持された板状物を該研削手段で研削する第一研削ステップと、
    該第一研削ステップを実施した後、該超音波生成手段を作用させて該研削砥石に該第一の振幅よりも小さい第二の振幅を有する振動を該スピンドルの軸心方向に生じさせつつ該保持テーブルで保持された板状物を該研削手段で研削する第二研削ステップと、を備えたことを特徴とする研削方法。
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