JP2015115460A - 抵抗素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、パラジウムにより、銀の抵抗体へのマイグレーションや硫化を防ぐことができる。
前記銀濃度傾斜層における銀濃度は、95wt%以上から90wt%以下まで傾斜することを特徴とする。
電極の形成工程に関する詳細な内容は後述する。
図11は、本実施の形態によるチップ抵抗器1を用いた実装構造の一例を模式的に示す斜視図である。図11に示すように、両端に電極15が露出するチップ抵抗器1と、ボンディングパッド81を有する回路等とを、ボンディングワイヤ71により電気的に接続している。尚、図3(c)の抵抗値調整工程において、抵抗値測定のためのプローブ痕23が、ボンディングワイヤ71が電極15に接続する位置から外れるように、プローブを電極15の中心から外れた位置に当てるようにすると良い。
Claims (8)
- 基板と、前記基板上の抵抗体と、前記抵抗体の両端に接続された電極と、を備えるチップ抵抗素子の製造方法であって、
前記基板上に前記電極を形成する電極形成工程を含み、
前記電極形成工程は、
銀を含む第1電極材料により前記基板上に第1電極層を形成する工程と、
銀とパラジウムを含む第2電極材料により前記第1電極層上に第2電極層を形成する工程と、からなり、
前記第1電極材料は、前記第2電極材料よりも、銀を多く含む、チップ抵抗素子の製造方法。 - 前記第1電極層を形成する工程は、
前記第1電極材料として銀−白金系金属材とガラスとのペーストを前記基板に堆積する工程を含み、
前記第2電極層を形成する工程は、前記第2電極材料として銀−パラジウム系金属材とガラスとのペーストを前記第1電極層に重ねて堆積し焼成する工程を含むことを特徴する請求項1に記載のチップ抵抗素子の製造方法。 - 前記第1電極材料は、含まれる金属成分の比において銀を95wt%以上含み、
前記第2電極材料は、含まれる金属成分の比において銀を90wt%以下含むことを特徴する請求項1又は2に記載のチップ抵抗素子の製造方法。 - 前記第1電極層を、第2電極層以上の厚みで形成することを特徴とする請求項1から3までのいずれか1項に記載のチップ抵抗素子の製造方法。
- 前記第1電極材料は、白金を含むことを特徴とする請求項1から4までのいずれか1項に記載のチップ抵抗素子の製造方法。
- 基板と、前記基板上の抵抗体と、前記抵抗体の両端に接続された電極と、を備えるチップ抵抗素子であって、
前記電極は、銀を含み、
前記電極における銀の濃度が、前記基板側から前記基板と反対側に向けて厚さ方向に傾斜する銀濃度傾斜層を有することを特徴とするチップ抵抗素子。 - さらに、前記基板の反対側に、銀以外の金属の含有量としてパラジウムの含有量が高いパラジウムリッチ層を有することを特徴とする請求項6に記載のチップ抵抗素子。
- 前記銀濃度傾斜層における銀濃度は、95wt%以上から90wt%以下まで傾斜することを特徴とする請求項6又は7に記載のチップ抵抗素子。
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