JP2015109332A - 半導体発光素子 - Google Patents
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[半導体発光素子の構造]
図1は、本発明の第1の実施形態の半導体発光素子1の平面図である。図2(a)〜(c)は、それぞれ、図1に示すIIA−IIA線、IIB−IIB線およびIIC−IIC線における断面図である。
半導体積層体10は、n型半導体層11と発光層13とp型半導体層15とを含む。n型半導体層11は、ノンドープ半導体層9上に設けられていることが好ましく、n型コンタクト層であることが好ましい。n型半導体層11は、一般式Alx1Iny1Gaz1N(0≦x1≦1、0≦y1≦1、0≦z1≦1、x1+y1+z1≠0)で表わされる窒化物半導体結晶にn型不純物がドープされて形成された層(単層)であっても良いし、窒化物半導体結晶の材料が異なる2種以上の上記層が積層されて構成されても良い。n型不純物は、たとえば、シリコンまたはゲルマニウムなどであることが好ましい。n型半導体層11は、たとえば、シリコン(Si)が1×1018/cm3ドープされたGaNからなることが好ましく、約5μmの厚さを有することが好ましい。
n側パッド電極29は、半導体積層体10の中央において露出するn型半導体層11上に設けられていることが好ましい。n側パッド電極29は、たとえば、Au(金)、Ag(銀)、Pt(白金)、Ti(チタン)、Pd(パラジウム)、Al(アルミニウム)およびNi(ニッケル)の少なくとも1つを含む金属層(単層)であっても良いし、2種以上の上記金属層が積層されて構成されても良い。
透明導電層21は、たとえば、ITO(Indium Tin Oxide)、酸化インジュウム(Indium Oxide)、酸化スズ(Tin Oxide)または酸化亜鉛(ZnO(Zinc Oxide))からなっても良いし、Au、Ag、Pt、Ti、Pd、AlおよびNiのうちの少なくとも1つからなっても良い。
絶縁層23は、その上面の各隅部に開口部を有する。これにより、絶縁層23の上面の各隅部(平面視での半導体発光素子1の各隅部)では、透明導電層21が絶縁層23から露出している。
p側パッド電極25は絶縁層23上の一部に設けられていれば良く、絶縁層23の上面におけるp側パッド電極25の位置は特に限定されない。これにより、電極レイアウトの自由度が高くなる。p側パッド電極25は、たとえば、Au、Ag、Pt、Ti、Pd、AlおよびNiの少なくとも1種を含む金属層(単層)であっても良いし、2種以上の上記金属層が積層されて構成されても良い。
p側補助電極27は、たとえば、Au、Ag、Pt、Ti、Pd、AlおよびNiの少なくとも1種を含む金属層(単層)であっても良いし、2種以上の上記金属層が積層されて構成されても良い。p側補助電極27は、被覆部27aと、第1連結部27bと、第2連結部27cとを有することが好ましい。
コンタクト部31は、上述のように透明導電層21と被覆部27aとが接触して形成されている。よって、コンタクト部31は、平面視においてn側パッド電極29から等距離離れた位置に設けられ、具体的には絶縁層23の上面の各隅部に設けられる。また、絶縁層23から露出する透明導電層21が平面視で鉤型の形状を有するので、コンタクト部31は、平面視で鉤型の形状を有する。
本実施形態の半導体発光素子1は以下に示す方法にしたがって製造される。半導体発光素子1の構成要素の材料などは上記[半導体発光素子の構成]で示したとおりである。
図3(b)は、本発明の第2の実施形態の半導体発光素子の要部平面図である。本実施形態では、絶縁層23から露出する透明導電層21は、平面視で正方形の形状を有する。これにより、p側補助電極27の被覆部27aおよびコンタクト部31は、平面視で正方形の形状を有する。このような場合であっても、上記第1の実施形態に記載の効果を得ることができる。
図3(c)は、本発明の第3の実施形態の半導体発光素子の要部平面図である。本実施形態では、絶縁層23から露出する透明導電層21は、平面視で円形の形状を有する。これにより、p側補助電極27の被覆部27aおよびコンタクト部31は、平面視で円形の形状を有する。このような場合であっても、上記第1の実施形態に記載の効果を得ることができる。
図3(d)は、本発明の第4の実施形態の半導体発光素子の要部平面図である。本実施形態では、絶縁層23から露出する透明導電層21は、平面視でアーチ状の形状を有する。これにより、p側補助電極27の被覆部27aおよびコンタクト部31は、平面視でアーチ状の形状を有する。このような場合であっても、図3(c)に示す場合と同様の効果が得られる。
図4は、第5の実施形態の半導体発光素子の平面図である。本実施形態では、透明導電層21は、絶縁層23の上面の各隅部よりも内側において絶縁層23から露出しており、絶縁層23から露出する透明導電層21は、平面視でアーチ状の形状を有する。これにより、p側補助電極27の被覆部27aおよびコンタクト部31は、絶縁層23の上面の各隅部よりも内側に設けられており、平面視でアーチ状の形状を有する。このような場合であっても、上記第4の実施形態に示す場合と同様の効果が得られる。
実施例1では、図5に示す半導体発光素子を製造した。まず、サファイアからなるウエハの上面にレジストをパターニングし、ICPによってウエハの上面の一部をエッチングした。これにより、周期的な凹凸構造をウエハの上面に形成した。
実施例2では、図6に示す半導体発光素子を製造した。SiO2層23の各隅部よりも内側においてITO層21をSiO2層23から露出させること、および、SiO2層23から露出するITO層21の平面視での形状をアーチ状とすることを除いては、上記実施例1に記載の方法にしたがって半導体発光素子を製造した。
実施例3では、図7に示す半導体発光素子を製造した。n側パッド電極29にn側補助電極29a〜29dを設けたことを除いては、上記実施例2に記載の方法にしたがって半導体発光素子を製造した。
実施例4では、図8に示す半導体発光素子を製造した。n側補助電極29a〜29dをコンタクト部31へ向かって延びるように設けたことを除いては、上記実施例3に記載の方法にしたがって半導体発光素子を製造した。本実施例では、上記実施例3に比べて更に電流密度を均一化できた。
Claims (6)
- 基板上に、n型半導体層、発光層およびp型半導体層を含む半導体積層体と、透明導電層と、p側パッド電極と、前記p側パッド電極から延びる2つ以上のp側補助電極と、n側パッド電極とが設けられてなる半導体発光素子であって、
前記透明導電層は、前記p型半導体層上に設けられ、
前記透明導電層の上面の一部には、絶縁層が設けられ、
前記p側パッド電極は、前記絶縁層上に設けられ、
前記n側パッド電極は、前記p型半導体層および前記発光層から露出する前記n型半導体層上に設けられ、
平面視において前記n側パッド電極から等距離離れた位置に、前記絶縁層から露出する透明導電層と前記p側補助電極とが接触してなるコンタクト部が2つ以上設けられている半導体発光素子。 - 前記半導体発光素子は、平面視で矩形の形状を有しており、
前記コンタクト部は、平面視での前記半導体発光素子の各隅部に設けられている請求項1に記載の半導体発光素子。 - 前記半導体発光素子は、平面視で正方形の形状を有している請求項2に記載の半導体発光素子。
- 前記コンタクト部は、平面視で、矩形、円形、鉤型またはアーチ状の形状を有している請求項1〜3のいずれかに記載の半導体発光素子。
- 前記p側パッド電極と前記コンタクト部との間の抵抗がそれぞれ等しいことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体発光素子。
- 前記p側補助電極のうち前記コンタクト部において前記透明導電層と接触する部分とは異なる部分は、前記絶縁層上に設けられている請求項1〜5のいずれかに記載の半導体発光素子。
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