JP2015106639A - 表面処理装置、表面処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)極性を有する表面部位
(2)極性を有しない表面部位
(3)中性の表面部位
記第1のカップリング剤の表面部位と前記第2のカップリング剤の表面部位は、以下の(1)〜(3)のうちのいずれか2つであることを特徴としている。
(1)極性を有する表面部位
(2)極性を有しない表面部位
(3)中性の表面部位
その後カセットステーション10のウェハ搬送装置23によって所定のカセット載置板21のカセットCに搬送される。
30 現像装置
31 有機溶剤供給装置
32 反射防止膜形成装置
33 中性層形成装置
34 レジスト塗布装置
35 ブロック共重合体塗布装置
40 熱処理装置
41 紫外線照射装置
42 アドヒージョン装置
43 周辺露光装置
44 ポリマー分離装置
130 処理容器
140 供給管
141 分散板
142 混合機構
150 第1の貯槽
151 第2の貯槽
155 第1のカップリング剤蒸気供給源
153 第1の気化機構
161 第2の気化機構
162 第2のカップリング剤蒸気供給源
200 カップリング剤
201 結合部位
202 表面部位
203 カップリング基材
300 制御部
400 中性層
401 レジストパターン
402 反射防止膜
404 親水性ポリマー
405 疎水性ポリマー
W ウェハ
Claims (13)
- 親水性ポリマーと疎水性ポリマーとを含むブロック共重合体が塗布される基板の塗布面を表面処理する表面処理装置であって、
その内部に基板を収容する処理容器と、
結合部位と第1の表面部位とを有する第1のカップリング剤の蒸気を前記処理容器内に供給する第1のカップリング剤蒸気供給源と、
前記結合部位と第2の表面部位とを有する第2のカップリング剤の蒸気を前記処理容器内に供給する第2のカップリング剤蒸気供給源と、
前記第1のカップリング剤の蒸気と前記第2のカップリング剤の蒸気を、前記処理容器内に供給される前に混合する混合機構と、を有し、
前記第1のカップリング剤の表面部位と前記第2のカップリング剤の表面部位は、以下の(1)〜(3)のうちのいずれか2つであることを特徴とする、表面処理装置。
(1)極性を有する表面部位
(2)極性を有しない表面部位
(3)中性の表面部位 - 前記第1のカップリング剤の表面部位は極性を有する表面部位であり、
前記第2のカップリング剤の表面部位は極性を有しない表面部位であり、
前記極性を有する表面部位は、前記親水性ポリマーを構成するモノマー又はオリゴマーの少なくともいずれかを有し、
前記極性を有しない表面部位は、前記疎水性ポリマーを構成するモノマー又はオリゴマーの少なくともいずれかを有していることを特徴とする、請求項1に記載の表面処理装置。 - 前記親水性ポリマーはポリメタクリル酸メチルであり、
前記疎水性ポリマーはポリスチレンであり、
前記極性を有する表面部位は、メタクリル酸モノマー、メタクリル酸オリゴマー又はメタクリル酸ポリマーの少なくともいずれかであり、
前記極性を有しない表面部位は、スチレンモノマー、スチレンオリゴマー又はスチレンポリマーの少なくともいずれかであることを特徴とする、請求項2に記載の表面処理装置。 - 前記処理容器内には、当該処理容器の内側面を基板よりも相対的に高い温度に維持する温度調整機構が設けられていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の表面処理装置。
- 前記第1のカップリング剤蒸気供給源及び前記第2のカップリング剤蒸気供給源は、
前記第1のカップリング剤の溶液を貯留する第1の貯槽及び第2のカップリング剤の溶液を貯留する第2の貯槽と、
前記第1のカップリング剤の溶液を気化させる第1の気化機構及び前記第2のカップリング剤の溶液を気化させる第2の気化機構と、
前記第1の貯槽から前記第1の気化機構へ供給する第1のカップリング剤の溶液の供給量を調整する第1の流量調整機構及び前記第2の貯槽から前記第2の気化機構へ供給する第2のカップリング剤の溶液の供給量を調整する第2の流量調整機構と、を有していることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の表面処理装置。 - 前記第1のカップリング剤の表面部位は極性を有する表面部位であり、
前記第2のカップリング剤の表面部位は極性を有しない表面部位であり、
第1のカップリング剤の蒸気と前記第2のカップリング剤の蒸気の混合比は、2:3〜3:2であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の表面処理装置。 - 親水性ポリマーと疎水性ポリマーとを含むブロック共重合体が塗布される基板の塗布面を表面処理する表面処理方法であって、
結合部位と第1の表面部位とを有する第1のカップリング剤の蒸気と、前記結合部位と第2の表面部位とを有する第2のカップリング剤の蒸気とを所定の混合比で混合した状態で、基板が収容された処理容器内に対して供給し、
記第1のカップリング剤の表面部位と前記第2のカップリング剤の表面部位は、以下の(1)〜(3)のうちのいずれか2つであることを特徴とする、表面処理方法。
(1)極性を有する表面部位
(2)極性を有しない表面部位
(3)中性の表面部位 - 前記第1のカップリング剤の表面部位は極性を有する表面部位であり、
前記第2のカップリング剤の表面部位は極性を有しない表面部位であり、
前記極性を有する表面部位は、前記親水性ポリマーを構成するモノマー又はオリゴマーの少なくともいずれかを有し、
前記極性を有しない表面部位は、前記疎水性ポリマーを構成するモノマー又はオリゴマーの少なくともいずれかを有していることを特徴とする、請求項7に記載の表面処理方法。 - 前記親水性ポリマーはポリメタクリル酸メチルであり、
前記疎水性ポリマーはポリスチレンであり、
前記極性を有する表面部位は、メタクリル酸モノマー、メタクリル酸オリゴマー又はメタクリル酸ポリマーの少なくともいずれかであり、
前記極性を有しない表面部位は、スチレンモノマー、スチレンオリゴマー又はスチレンポリマーの少なくともいずれかであることを特徴とする、請求項8に記載の表面処理方法。 - 前記処理容器内に第1のカップリング剤の蒸気と第2のカップリング剤の蒸気の蒸気を混合した蒸気を供給するときに、当該処理容器の内側面を基板よりも相対的に高い温度に維持することを特徴とする、請求項7〜9のいずれか一項に記載の表面処理方法。
- 前記第1のカップリング剤の表面部位は極性を有する表面部位であり、
前記第2のカップリング剤の表面部位は極性を有しない表面部位であり、
第1のカップリング剤の蒸気と前記第2のカップリング剤の蒸気の混合比は、2:3〜3:2であることを特徴とする、請求項7〜10のいずれかに記載の表面処理方法。 - 請求項7〜11のいずれかに記載の表面処理方法を表面処理装置によって実行させるように、当該表面処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項12に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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JP2013247913A JP6045482B2 (ja) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | 表面処理装置、表面処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
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2013
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