JP2019124738A - パターン形成方法及び偏光板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本実施形態に係るパターン形成方法は、ミクロ相分離によりラメラ構造を形成可能なブロック共重合体を用いたパターン形成方法であって、基材上に、ブロック共重合体の一部のブロック鎖に親和性を有し、且つ、所定のピッチで配列されたライン状のガイドパターン、及び該ガイドパターンのパターン間を埋める中性パターンを形成する工程と、ガイドパターン及び中性パターンの上にブロック共重合体を含む層を形成する工程と、ブロック共重合体を含む層を熱処理し、ブロック共重合体のミクロ相分離により、ラメラ界面が基材に対して垂直方向に配向したラメラ構造を形成させる工程と、ブロック共重合体の一部のブロック鎖を選択的に除去することにより、ガイドパターンよりもピッチの短いラインアンドスペース状の微細パターンを形成する工程と、を有する。
本実施形態に係る偏光板の製造方法は、透明基板上に金属膜又は金属膜を含む積層膜が形成された基材上に、上述した本実施形態に係るパターン形成方法により微細パターンを形成する工程と、微細パターンをマスクとして金属膜又は積層膜をエッチングする工程と、を有する。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形及び改良は本発明に含まれる。
10 基材
11 透明基板
12 金属膜
13 ワイヤ
20 反射防止層
21 反射防止層パターン(ガイドパターン)
30 フォトレジスト層
31 フォトレジストパターン
40 中性層
41 中性パターン
50 ブロック共重合体を含む層
51 第1の相
52 第2の相
(2) (1)のパターン形成方法は、前記積層膜が、金属膜、誘電体膜、及び吸収膜が前記透明基板側からこの順で積層された積層膜であってもよい。
(2) (1)のパターン形成方法は、前記積層膜が、金属膜、誘電体膜、及び吸収膜が前記透明基板側からこの順で積層された積層膜であってもよい。
Claims (8)
- ミクロ相分離によりラメラ構造を形成可能なブロック共重合体を用いたパターン形成方法であって、
基材上に、前記ブロック共重合体の一部のブロック鎖に親和性を有し、且つ、所定のピッチで配列されたライン状のガイドパターン、及び該ガイドパターンのパターン間を埋める中性パターンを形成する工程と、
前記ガイドパターン及び前記中性パターンの上に前記ブロック共重合体を含む層を形成する工程と、
前記ブロック共重合体を含む層を熱処理し、前記ブロック共重合体のミクロ相分離により、ラメラ界面が前記基材に対して垂直方向に配向したラメラ構造を形成させる工程と、
前記ブロック共重合体の一部のブロック鎖を選択的に除去することにより、前記ガイドパターンよりもピッチの短いラインアンドスペース状の微細パターンを形成する工程と、を有するパターン形成方法。 - 前記基材上に前記ガイドパターン及び前記中性パターンを形成する工程が、
前記基材上に反射防止層及びフォトレジスト層をこの順で積層する工程と、
前記フォトレジスト層を露光及び現像し、ラインアンドスペース状のフォトレジストパターンを形成する工程と、
前記フォトレジストパターンをマスクとして前記反射防止層をエッチングし、ラインアンドスペース状の反射防止層パターンを形成する工程と、
前記フォトレジストパターン及び前記反射防止層パターンを中性層で被覆する工程と、
前記フォトレジストパターンを前記中性層の一部とともに除去する工程と、を有し、
前記反射防止層パターンを前記ガイドパターンとし、前記中性層の残部で構成されるパターンを前記中性パターンとする請求項1に記載のパターン形成方法。 - 前記フォトレジスト層の露光を干渉露光により行う請求項2に記載のパターン形成方法。
- 前記ガイドパターンの膜厚が前記中性パターンの膜厚よりも大きい請求項1から3のいずれかに記載のパターン形成方法。
- 前記ブロック共重合体が、ポリスチレン鎖及びポリメチルメタクリレート鎖からなる請求項1から4のいずれかに記載のパターン形成方法。
- 前記微細パターンを形成する工程では、前記ブロック共重合体のポリメチルメタクリレート鎖を選択的に除去することにより、ポリスチレン鎖からなる微細パターンを形成する請求項5に記載のパターン形成方法。
- 前記ブロック共重合体を含む層の熱処理後に、前記ブロック共重合体のポリメチルメタクリレート鎖を金属酸化物化する工程をさらに有し、
前記微細パターンを形成する工程では、前記ブロック共重合体のポリスチレン鎖を選択的に除去することにより、金属酸化物からなる微細パターンを形成する請求項5に記載のパターン形成方法。 - 透明基板上に金属膜又は金属膜を含む積層膜が形成された基材上に、請求項1から7のいずれかに記載のパターン形成方法により微細パターンを形成する工程と、
前記微細パターンをマスクとして前記金属膜又は前記積層膜をエッチングする工程と、を有する偏光板の製造方法。
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