JP2015092606A - 電気コネクタ及び電気接続システム - Google Patents
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Abstract
Description
[0019] 放射ビームB(例えばUV放射またはEUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0020] パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続されたサポート構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0021] 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0022] パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
Claims (23)
- (a)導電性表面を有するハウジングと、
(b)複数のケーブル挿入部であって、それぞれ、
(i)電気ケーブルに接続された電気導体と、
(ii)前記電気導体を取り囲む絶縁性スリーブと、を含む、複数のケーブル挿入部と、
を含み、
前記ハウジングは、前記複数のケーブル挿入部を取り囲む、電気コネクタ。 - 前記絶縁性スリーブの内表面間の最大距離dは、約80mm未満である、請求項1に記載の電気コネクタ。
- 前記絶縁性スリーブの内表面間の最大距離dは、約30mm未満である、請求項2に記載の電気コネクタ。
- 前記絶縁性スリーブのそれぞれの内表面と、前記ハウジングとの間の最大距離dは、約80mm未満である、請求項2または3に記載の電気コネクタ。
- 前記絶縁性スリーブのそれぞれの内表面と、前記ハウジングとの間の最大距離dは、約30mm未満である、請求項4に記載の電気コネクタ。
- 前記電気コネクタの内部は、前記コネクタの外部と流体連結している、請求項1に記載の電気コネクタ。
- 前記絶縁性スリーブ間の各領域は、電気絶縁性材料によってのみ占められている、請求項1に記載の電気コネクタ。
- 前記電気コネクタは、オス型コネクタである、請求項1に記載の電気コネクタ。
- 前記電気コネクタは、メス型コネクタである、請求項1に記載の電気コネクタ。
- 前記ハウジングは、接地電位に接続されたコネクタを有する、請求項1に記載の電気コネクタ。
- 各ケーブル挿入部は、前記絶縁性スリーブの端を取り囲む絶縁性カバーキャップを含む、請求項1に記載の電気コネクタ。
- 前記複数のケーブル挿入部は、3つのケーブル挿入部を含む、請求項1に記載の電気コネクタ。
- 前記絶縁性スリーブは、ポリテトラフルオロエチレンを含む、請求項1に記載の電気コネクタ。
- 前記絶縁性スリーブは、液晶ポリマーを含む、請求項1に記載の電気コネクタ。
- 前記絶縁性スリーブは、ポリエーテルエーテルケトンを含む、請求項1に記載の電気コネクタ。
- オス型電気コネクタと、メス型電気コネクタと、を含む電気接続システムであって、
前記オス型電気コネクタは、
(a)導電性表面を有する第1のハウジングと、
(b)第1の複数のケーブル挿入部であって、それぞれ、
(i)電気ケーブルに接続された電気導体と、
(ii)前記電気導体を取り囲む絶縁性スリーブと、を含む、第1の複数のケーブル挿入部と、
を含み、
前記第1のハウジングは、前記第1の複数のケーブル挿入部を取り囲み、
前記メス型電気コネクタは、
(c)導電性表面を有する第2のハウジングと、
(d)第2の複数のケーブル挿入部であって、それぞれ、
(i)電気ケーブルに接続された電気導体と、
(ii)前記電気導体を取り囲む絶縁性スリーブと、を含む、第2の複数のケーブル挿入部と、
を含み、
前記第2のハウジングは、前記第2の複数のケーブル挿入部を取り囲み、
前記オス型電気コネクタおよび前記メス型電気コネクタは相互接続する、電気接続システム。 - (a)絶縁性スリーブと、
(b)前記絶縁性スリーブを取り囲む複数の導電性バンドと、
を含み、
前記絶縁性スリーブは各間隙において露出されるように各導電性バンド間に間隙がある、電気接続システム。 - (a)基板を保持する基板テーブルと、
(b)前記基板テーブルを作動させるアクチュエータと、
(c)前記アクチュエータを電源に結合する、請求項1に記載の電気コネクタと、
を含む、リソグラフィ装置。 - (a)放射ビームを調整する照明サポートと、
(b)パターニングデバイスを支持するサポートであって、前記パターニングデバイスは、前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能である、サポートと、
(c)基板を保持する基板テーブルと、
(d)前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
(e)前記投影ビームの部分の一部を遮断するビームインタセプタと、
(f)前記ビームインタセプタを作動させるコントローラと、
(g)前記コントローラを電源に結合する、請求項1に記載の電気コネクタと、
を含む、リソグラフィ装置。 - (a)パターニングデバイスを支持するサポートであって、前記パターニングデバイスは放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能である、サポートと、
(b)前記パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
(c)前記サポートの表面上に前記パターニングデバイスを保持するクランプと、
(d)前記クランプを電源に結合する、請求項1に記載の電気コネクタと、
を含む、リソグラフィ装置。 - 前記クランプは、静電クランプである、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- (a)基板を保持する基板テーブルと、
(b)前記基板テーブルの表面上に前記基板を保持するクランプと、
(c)前記クランプを電源に結合する、請求項1に記載の電気コネクタと、
を含む、リソグラフィ装置。 - 前記クランプは、静電クランプである、請求項22に記載のリソグラフィ装置。
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