JP2015088748A - 露光・現像デバイス及び露光・現像方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】露光・現像デバイス及び露光・現像方法を提供する。
【解決手段】露光・現像デバイスは、基板のエッジを露光させるエッジ露光装置20と、入口に前記エッジ露光装置20が位置し、露光した基板を現像させるための現像装置30とを含み、前記基板は前記現像装置30への搬送中において、前記エッジ露光装置20によってそのエッジが露光される。現像装置30の入口にエッジ露光装置20が設置され、基板が現像装置30に入る過程でエッジ露光を同時に完了できるので、基板を複数回搬送する必要がなくなり、工程が短縮でき、加工効率を大幅に高めることができる。
【選択図】図2
【解決手段】露光・現像デバイスは、基板のエッジを露光させるエッジ露光装置20と、入口に前記エッジ露光装置20が位置し、露光した基板を現像させるための現像装置30とを含み、前記基板は前記現像装置30への搬送中において、前記エッジ露光装置20によってそのエッジが露光される。現像装置30の入口にエッジ露光装置20が設置され、基板が現像装置30に入る過程でエッジ露光を同時に完了できるので、基板を複数回搬送する必要がなくなり、工程が短縮でき、加工効率を大幅に高めることができる。
【選択図】図2
Description
本発明は、露光現像デバイス及び露光現像方法に関し、具体的には、基板の本体とエッジを露光し現像するデバイス及び方法に関する。
従来の露光機は、基板の本体部分を露光させるが、基板のエッジ、特に基板の対向する2の長辺(フォトレジストが塗布された始端と末端位置)にはフォトレジストが残留し易く、後段の部材に用いられる位置合わせパターンが覆い隠され基板を廃棄処分しなければならない。
このような問題を解決するために、従来の一般的な方法として、本体の露光が完了した後、エッジ露光の工程を追加するが、その主な作用の一つは、静電の発生防止を図るとともに後段のシール剤塗布品質を高めることであり、主な作用のもう一つは、基板の周囲の不要な残留物を取り除くことである。
図1には、従来の露光現像に用いられるデバイスを示し、このデバイスは、本体露光機10と、エッジ露光装置20と、現像装置30とを含む。基板は、本体露光機10によって本体が露光された後、搬送装置40、例えば機械アームで、基板をエッジ露光装置20まで搬送しエッジを露光させてから、また搬送装置40で基板を基板搬送手段50に搬送して、現像装置30に入れる。
前記露光現像のデバイスは、基板を複数回搬送する必要があり、加工の効率が低くなる。また、従来のエッジ露光装置20の構造が複雑で、コストが高くなり、露光現像デバイスの全体のコストが高くなる。
それで、フォトレジストの残留問題を解決し、加工効率を高めて生産コストを低減できる露光・現像デバイスに対する要求が高まってきた。
以上の記載は、本発明の背景に対する理解を深めるためのものであり、当業者にとって公知の従来技術に属しない情報も含んであり得る。
本発明は、フォトレジストの残留問題を解決し、加工効率を高めて生産コストを低減できる露光現像デバイス及び露光現像方法を開示している。
本発明の他の方面及び利点は以下の説明で明らかにでき、その一部分は以下の説明で明確になり、又は以下に開示の実施により得られる。
本発明の一方面によると、
基板のエッジを露光させるエッジ露光装置と、
入口に前記エッジ露光装置が位置し、露光した基板を現像させるための現像装置とを含み、
前記基板は、前記現像装置への搬送中において、前記エッジ露光装置によってそのエッジが露光される露光・現像デバイスを提供する。
基板のエッジを露光させるエッジ露光装置と、
入口に前記エッジ露光装置が位置し、露光した基板を現像させるための現像装置とを含み、
前記基板は、前記現像装置への搬送中において、前記エッジ露光装置によってそのエッジが露光される露光・現像デバイスを提供する。
本発明の他の一方面によると、
基板の本体を露光させるステップ1と、
基板搬送手段により前記基板を現像装置に搬送するステップ2と、
エッジ露光装置のより基板のエッジを露光させるステップ3と、
露光した基板を前記現像装置により現像させるステップ4とを含む露光・現像方法を提供する。
基板の本体を露光させるステップ1と、
基板搬送手段により前記基板を現像装置に搬送するステップ2と、
エッジ露光装置のより基板のエッジを露光させるステップ3と、
露光した基板を前記現像装置により現像させるステップ4とを含む露光・現像方法を提供する。
図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明し、本発明の特徴及び利点は以下の説明によってより明らかになる。
以下で、図面を参照して、例示の実施形態を全体的に説明する。しかし、例示の実施形態はいろいろな形態で実施でき、ここで述べる実施形態に限定されていると理解してはいけない。逆に、これらの実施形態を提供して、本発明を全面的且つ完全に開示し、例示の実施形態の主旨を当業者に全面的に伝える。図面において、明確にするように、領域と層の厚さを誇張に示した。図面において、同じ参考符号は同じ又は類似な構成を示すので、それらについての詳細な説明は省略する。
ここで述べる特徴、構成又は特性は、何れの適当な方式によって1以上の実施形態に適用できる。以下の掲載で、多数の具体的な説明を提供して、本発明の実施形態についての十分な理解を提供する。しかし、本分野の当業者は、特定な詳細の一部分又は一部分以上がなくても、本発明の技術案を実施でき、他の方法、構造、材料等を利用できることを理解できる。他の場合で、本発明の各方面を不明確にならないために、公知の構成、材料又は操作は詳細に説明しない。
図2に示すように、本発明は、エッジが当該基板Sのエッジに合わせて設置され、基板Sのエッジを露光させるエッジ露光装置20と、入口31にエッジ露光装置20が位置し、露光した基板Sを現像させるための現像装置30とを含む露光・現像デバイスを提供する。そのため、基板Sは現像装置30に搬送される過程で、エッジ露光装置20によってエッジ露光が完了される。このようにすると、従来の技術のように、基板を別のエッジ露光装置に搬送してエッジ露光を行い、露光を完了した基板を現像装置に搬送する必要がなくなり、工程が短縮でき、加工効率を大幅に高めることができる。
図2、3に示すように、露光・現像デバイスは、さらに、本体露光機10と、基板搬送手段50と、搬送装置40とを含む。本体露光機10は、基板Sの本体を予め露光させる。搬送装置40は、該本体露光機10からの基板Sを基板搬送手段50に搬送し、搬送装置40は、例えば機械アームである。基板搬送手段50は、基板Sを現像装置30に搬送し、基板搬送手段50は、例えば搬送ロールである。
図3に示すように、基板Sは、基板搬送手段50を介して現像装置30に搬送され、現像装置30の入口31を通過する際に、エッジ露光を受け始める。図4、5は、エッジ露光装置20が基板Sに対してエッジ露光を行う過程を示した。エッジ露光装置20は基板Sの2の長辺に対応し、基板Sが基板搬送手段50上で搬送される過程で、エッジ露光装置20はエッジ露光を行う。この基板の長辺にはフォトレジストが残留しやすいので、本発明では、基板の長辺に対応するエッジ露光装置20を設置することによって、大部分の残留フォトレジストを取り除くことができる。
本実施形態で、エッジ露光装置20は基板搬送手段50に架設されて、且つ、エッジ露光機21と、CCD映像処理機22と、駆動装置23とを含む。エッジ露光機21は基板Sのエッジに合わされて設置される。CCD映像処理機22はエッジ露光機21に接続され、例えば、エッジ露光機21の先端に固定され、基板Sとエッジ露光機とのエッジの映像を取得し、この映像を用いて基板Sのずれ量を測定する。駆動装置23は、エッジ露光機21及びCCD映像処理機22に接続され、駆動装置23は基板Sのずれ量に基づいて、エッジ露光機20を移動させることにより、ずれ量を補償する。この基板のずれ量は、エッジ露光機21に対する基板Sのエッジのずれ量である。
図6に示すように、基板Sは図においてX軸の方向に沿って移動し、CCD映像処理機22によって視野における映像を取得し、映像は例えば図7に示すようである。CCD映像処理機22は、この映像算出ずれ量、即ち、基板SのエッジR1とCCD映像処理機22のエッジR2との間のずれ量Δyに基づいて、このずれ量の情報を駆動装置23へ提供し、駆動装置23は受け取ったずれ量の情報に基づいて対応する出力量を提供し、駆動装置23の出力端に接続されたエッジ露光機21を駆動してY軸の方向に沿って移動させて、基板SのエッジR1に合わせることにより、エッジを正確に露光させる。
駆動装置23は、従来のモータを利用でき、例えばサーボモータ又は正確率がより高いリニアモータを利用できる。
図8に示すように、駆動装置23は、サーボモータ231と、親ねじ232と、ナット233と、ナットベッド234とを含む。親ねじ232はサーボモータ231の出力端に接続され、サーボモータ231が起動すると、親ねじ232は回転し、親ねじ232に接続されたナット233は親ねじ232上で直線運動を行い、ナット233上に固定されたナットベッド234を駆動して直線運動させる。エッジ露光機21及びCCD映像処理機22は共に全部ナットベッド234に設置されたので、ナットベッド234に従って移動できる。
図9に示すように、駆動装置23はリニアモーターで、磁性レール235及び可動部236を含み、可動部236は磁性レール235で直線性運動でき、エッジ露光機21及びCCD映像処理機22は共に可動部236に設置されたので、可動部236に従って移動できる。
本実施形態において、基板エッジに対応する2セットのエッジ露光装置20はそれぞれの駆動装置23によって駆動され、エッジ露光装置20の位置に対して単独に微調整しやすい。
一般的に、基板は四角形であるので、基板の両エッジのずれ量の数値は同じべきである。これによって、2セットのエッジ露光装置に1の駆動装置を共用させ、駆動装置の基板の2の長辺に対応する部分に、それぞれ1セットのエッジ露光機とCCD映像処理機が設置され、駆動装置は2セットのエッジ露光装置を駆動してそれぞれ同じ方向に沿って同じ変位量を移動させる。1セットの駆動装置を省略する可能性があるので、装置全体のコストを低減できる。
図10に示すように、露光・現像デバイスは基板ガイド修正手段60をさらに含んでいてもよく、該基板ガイド修正手段60は基板搬送手段50の両側に設置されて、基板搬送手段50で搬送される基板Sをガイドして、基板のエッジとエッジ露光装置20とを合わせる。
本実施形態において、基板ガイド修正手段60は、基板搬送手段50の両側に設置した一対のアーチ形板で、この一対のアーチ形板の間の距離はエッジ露光装置に向かう方向に沿って次第に短くなり、エッジ露光装置20に近づく一端で、この一対のアーチ形板の間の距離は基板Sの短辺の長さと等しい。基板ガイド修正手段は基板を予めガイドし修正し、後で駆動装置によって偏移補償を行う時間を短縮し、製造効率を高める。
以下では、本発明の露光・現像デバイスを利用して露光・現像を行う方法を説明する。
この露光・現像方法は、以下のステップを含む。
この露光・現像方法は、以下のステップを含む。
ステップ1:基板Sの本体を露光させる。
ステップ2:基板搬送手段50により基板Sを現像装置30に搬送する。
ステップ2:基板搬送手段50により基板Sを現像装置30に搬送する。
ステップ3:エッジ露光装置20により基板Sのエッジを露光させる。
ステップ4:露光した基板Sを現像装置30で現像する。
ステップ4:露光した基板Sを現像装置30で現像する。
ステップ1で、本体露光機10で基板Sの本体を露光してもよい。
ステップ2において、本体露光を完了した基板Sを基板搬送手段50に搬送し、基板搬送手段50を利用して基板Sを現像装置30に搬送する。
ステップ2において、本体露光を完了した基板Sを基板搬送手段50に搬送し、基板搬送手段50を利用して基板Sを現像装置30に搬送する。
本実施例において、ステップ2で、搬送装置40を利用して本体露光を完了した基板Sを基板搬送手段20に搬送してもよい。
ステップ3において、現像装置30に搬送される前に、現像装置30の入口31に設置されたエッジ露光装置20で基板Sのエッジを露光させる。
ステップ3では、さらに、エッジ露光する過程で、CCD映像処理機22で基板Sのエッジの映像を取得し、この映像を用いて基板のずれ量を測定し、駆動装置23によって基板Sのずれ量に基づいてエッジ露光機21を移動させることにより、該ずれ量を補償する。
本発明の露光現像デバイスを利用して露光及び現像を行うと、以下の効果を得られる。
1、現像装置の入口にエッジ露光装置が設置され、基板が現像装置に入る過程でエッジ露光を同時に完了できるので、基板を複数回搬送する必要がなくなり、プロセスを短縮でき、加工効率を大幅に高めることができる。
1、現像装置の入口にエッジ露光装置が設置され、基板が現像装置に入る過程でエッジ露光を同時に完了できるので、基板を複数回搬送する必要がなくなり、プロセスを短縮でき、加工効率を大幅に高めることができる。
2、エッジ露光装置は、主にフォトレジストが残留し易い基板の長辺を露光させるので、エッジ露光装置の構造を簡単化にすることができる。
3、CCD映像処理機で基板のずれ量を測定でき、駆動装置でエッジ露光機を移動させることにより、ずれ量を補償でき、基板との位置合わせを確保でき、エッジ露光の正確度を高める。
以上で、本発明の例示の実施形態を具体的に説明した。本発明はここで開示した実施形態に限定されるものではなく、逆に、本発明は、請求項に属する主旨及び範囲におけるいろいろな修正及び等価の設置を含む。
Claims (6)
- 基板のエッジを露光させるエッジ露光装置と、
入口に前記エッジ露光装置が位置し、露光した基板を現像させるための現像装置とを含み、
前記基板は、前記現像装置への搬送中において、前記エッジ露光装置によってそのエッジが露光され,
前記露光・現像デバイスは、前記基板の2の長辺に対応して設置された2セットのエッジ露光装置を含み、
前記2セットのエッジ露光装置は一つの駆動装置を共用し、前記駆動装置の前記基板の2の長辺に対応する部分に、それぞれ1セットのエッジ露光機及びCCD映像処理機が設置され、前記駆動装置は、前記2セットのエッジ露光装置を駆動して同じ方向に沿って同一の変移量を移動させる
ことを特徴とする露光・現像デバイス。 - 前記エッジ露光装置は、
エッジが前記基板のエッジに合わされて設置されたエッジ露光機と、
前記エッジ露光機に接続され、前記基板及びエッジ露光機のエッジの映像を取得し、この映像を用いて前記基板のずれ量を測定するCCD映像処理機と、
前記エッジ露光機及びCCD映像処理機に接続され、前記基板のずれ量に基づいてエッジ露光機を移動させることにより、前記ずれ量を補償する駆動装置とを含む
ことを特徴とする請求項1に記載の露光・現像デバイス。 - 基板の本体を露光させる本体露光機と、
前記本体露光機からの基板を搬送する基板搬送手段と、
前記本体露光機からの基板を前記基板搬送手段へ搬送する搬送装置と、
前記基板搬送手段の両側に設置され、前記基板搬送手段により搬送される基板をガイドして、前記基板のエッジを前記エッジ露光装置に合わせる基板ガイド修正手段とをさらに含む
ことを特徴とする請求項1に記載の露光・現像デバイス。 - 前記基板ガイド修正手段は、前記基板搬送手段の両側に設置された一対のアーチ形板であり、前記一対のアーチ形板の間の距離はエッジ露光装置に向かう方向に沿って次第に短くなり、前記エッジ露光装置に接近した一端で、前記一対のアーチ形板の間の距離は前記基板の短辺の長さと等しい
ことを特徴とする請求項3に記載の露光・現像デバイス。 - 基板の本体を露光させるステップ1と、
基板搬送手段により前記基板を現像装置に搬送するステップ2と、
エッジ露光装置のより基板のエッジを露光させるステップ3と、
露光した基板を前記現像装置により現像させるステップ4とを含む
ことを特徴とする露光・現像方法。 - 前記ステップ3は、
エッジ露光中において、CCD映像処理機によって前記基板のエッジの映像を取得し、前記映像を用いて前記基板のずれ量を測定し、前記基板のずれ量に基づいてエッジ露光装置のエッジ露光機を移動させることにより、前記ずれ量を補償する工程をさらに含む
ことを特徴とするクレーム5における露光・現像方法。
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