JP2015076614A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】露光過程においてリアルタイムで電子ビームのエラーを検出できる電子ビーム露光装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム露光装置は、第1入力データに対応する電子ビームと第2入力データに対応する電子ビームとを照射する電子ビームソース部20と、第1入力データに基づいて電子ビームが照射されるマスク200が上面に形成され、マスク200を移動させるステージ100と、第2入力データに基づいて照射される電子ビームに関するエラーを検出し、エラーが検出された電子ビームに基づいてエラー検出情報を出力するエラー検出装置300と、を含む。
【選択図】図1

Description

本発明は、電子ビーム露光装置に係り、より詳しくは、露光過程においてリアルタイムで電子ビームのエラーを検出できる電子ビーム露光装置に関する。
一般的に、半導体集積回路の製造工程は、電子ビーム露光装置を用いて原版マスク(mask)上に回路パターンを露光する段階を含む。
この際、電子ビーム露光装置の露光過程において、ステージ(stage)の移動、マスクスライディングなどの問題によって、電子ビームの位置エラーまたはサイズエラーのような電子ビームに関するエラーが発生する。
このような電子ビームのエラーの判断に際しては、ブランクマスク(blank mask)に直接露光してプロセスを経た後、出来上がったパターンを測定してエラーを判断していたので、長い時間とコストとが必要となる。
本発明が解決しようとする技術的な課題は、露光過程においてリアルタイムで電子ビームのエラーを検出できる電子ビーム露光装置を提供するところにある。
本発明の一実施形態による電子ビーム露光装置は、第1入力データに対応する電子ビームと第2入力データに対応する電子ビームとを照射する電子ビームソース部と、前記第1入力データに基づいて電子ビームが照射されるマスクが上面に形成され、前記マスクを移動させるステージと、前記第2入力データに基づいて照射される電子ビームに関するエラーを検出し、エラーが検出された電子ビームに基づいてエラー検出情報を出力するエラー検出装置と、を含む。
前記エラー検出装置は、第1ライン及び第2ラインを含み、前記第2入力データに基づいて、前記第1ライン及び第2ライン上に照射される電子ビームを受光し、前記第1ライン及び第2ラインのそれぞれから第1信号及び第2信号を検出するセンサー部と、前記センサー部から検出される前記第1信号及び前記第2信号を比較した結果に基づいてエラー検出情報を出力するデータ処理部と、を含む。
前記センサー部は、第1導体上に所定の間隔離隔して不導体が形成され、前記不導体上に第2導体が形成され、前記第1導体上に前記所定の間隔離隔して形成された2本のラインのうち一方は、前記第1ラインであり、他方は、前記第2ラインである。
前記第2入力データに基づいて照射される電子ビームは、前記所定の間隔よりも広い幅を有する。
前記データ処理部は、前記第1信号の値と前記第2信号の値とを比較し、該比較の結果による前記第1信号と前記第2信号との差値を出力する比較部と、前記差値が所定の第1基準範囲内に含まれるか否かを判断し、該判断の結果に基づいてエラーが検出された電子ビームに対応するエラー検出情報を出力する判断部と、を含む。
前記判断部は、前記判断の結果に基づいてエラーが検出された電子ビームの個数をカウントするカウンターをさらに含む。
前記エラー検出装置は、前記第1導体の下部から検出される電流量に基づいて、前記第2入力データに対応する電子ビームのエネルギー量を検出する増幅器をさらに含み、前記判断部は、前記検出されたエネルギー量が所定の第2基準範囲内に含まれるか否かを判断し、該判断の結果に基づいてエラーが検出された電子ビームに対応するエラー検出情報を出力する。
前記第2入力データに基づいて、前記電子ビームソース部から一定周期ごとに繰り返して照射される複数の電子ビームのうちから、第1グループに対応する電子ビームは、前記電子ビームの左右部分が前記第1ライン及び前記第2ライン上に照射され、第2グループに対応する電子ビームは、前記電子ビームの上下部分が前記第1ライン及び前記第2ライン上に照射される。
前記エラー検出情報は、前記複数の電子ビームのうちからエラーが検出された電子ビームのそれぞれに対応するサイズ情報と位置情報、及び前記エラーが検出された電子ビームの個数情報を含む。
前記エラー検出装置は、前記マスクが形成される前記ステージ上に前記マスクと別途に付着されて配置されるか、前記マスクと同じサイズを有し、前記マスクの上面に着脱自在に配置される。
本発明の一実施形態による電子ビーム露光装置のエラー検出方法は、入力データに基づいて第1ライン及び第2ライン上に照射される電子ビームを受光する段階と、前記受光される電子ビームに基づいて、前記第1ライン及び前記第2ラインから出力される第1信号及び第2信号を検出する段階と、前記第1信号及び前記第2信号の間の差値に基づいて、前記差値が所定の基準範囲内に含まれるか否かを判断する段階と、を含む。
前記差値が所定の基準範囲内に含まれるか否かを判断する段階は、前記差値が所定の基準範囲内に含まれない場合、前記電子ビームにエラーが検出されたと判断し、前記エラーが検出された電子ビームに対応するエラー検出情報を出力する。
前記エラー検出情報は、前記入力データに基づいて一定周期ごとに繰り返して照射される複数の電子ビームのうちからエラーが検出された電子ビームのそれぞれに対応するサイズ情報と位置情報、及び前記エラーが検出された電子ビームの個数情報を含む。
本発明の実施形態による電子ビーム露光装置は、露光過程においてリアルタイムで電子ビームのエラーを検出することによって、エラー検出のための時間を短縮し、コストを節減できる。
本発明の一実施形態によるエラー検出装置を含む電子ビーム露光装置を示す図である。 図1に示されたステージの平面図である。 本発明の一実施形態によるエラー検出装置の構成図である。 図3に示したセンサー部の構造を説明する概略的な断面図である。 図3に示したエラー検出装置の一実施形態を説明する図である。 図5に示したエラー検出装置の動作を説明する図である。 図3に示したエラー検出装置の第2の実施形態を説明する構成図である。 本発明の一実施形態による電子ビーム露光装置のエラー検出方法を示すフローチャートである。
以下、添付した図面を参照して、本発明を詳しく説明する。
図1は、本発明の一実施形態によるエラー検出装置を含む電子ビーム露光装置を示す図である。図1を参照すれば、電子ビーム露光装置10は、電子銃20、電子ビームソース部30、ステージ100、マスク200、及びエラー検出装置300を含む。
電子銃20は、一定の断面積を有する電子ビームを照射する。電子銃20は、一定周期ごとに電子ビームを繰り返し照射する。
電子ビームソース部30は、アパーチュア(aperture)31及びディフレクタ(deflector)35を含み、照射される電子ビームのサイズを調節し、電子ビームの方向を制御する。このために、電子ビームソース部30は、レンズ(図示せず)及び反射器(図示せず)などをさらに含む。
アパーチュア31は、電子ビームの一部のみを透過させて電子ビームの形状を生成し、電子ビームのサイズを調節する。ディフレクタ35は、電子ビームの移動方向を制御する。ステージ100は、マスク200を支持するためのものであって、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向に移動できる。マスク200は、表面に回路パターン(pattern)が形成される石英(quartz)材のガラス基板である。
エラー検出装置300は、マスク200が配されたステージ100の上面に備えられて、電子銃20から電子ビームソース部30を通じて照射される電子ビームに関するエラーを検出する。
電子ビームソース部30は、第1入力データに対応する電子ビームと第2入力データに対応する電子ビームとを照射するために、電子銃20から走査される電子ビームを制御する。この際、第1入力データは、マスク200上に露光される回路パターンに対応するデータであり、第2入力データは、電子ビーム露光装置10における電子ビームのエラーを検出するために、エラー検出装置300上に露光される電子ビームに対応するデータである。
図2は、図1に示したステージの平面図(top−view)である。図2に示したように、エラー検出装置301乃至303は、多様な形態として具現可能であり、ステージ100の上面の多様な位置に少なくとも1つ以上備えられる。
本発明においては、エラー検出装置300がステージ100の上面にマスク200と別途に付着されて配置された例を図示したが、本発明の範囲は、これに限定されず、エラー検出装置300は、マスク200と同じサイズを有し、マスク200の上面に着脱自在に配置されうる。
図3は、本発明の一実施形態によるエラー検出装置の構成図である。図3を参照すれば、エラー検出装置300は、センサー部310及びデータ処理部320を含む。
センサー部310は、導体部330上に備えられる第1ライン340及び第2ライン350を含み、入力データに基づいて第1ライン340及び第2ライン350に照射される電子ビームを受光する。この際、電子ビームの左、右部分が各々例えば図3の左上部に示す第1ライン340及び第2ライン350上に照射され、電子ビームの下、上部分が各々例えば図3の右下部に示す第1ライン340及び第2ライン350上に照射される。
センサー部310は、受光する電子ビームに基づいて第1ライン340を通じて検出される信号S1と、第2ライン350を通じて検出される信号S2と、を出力する。このようなセンサー部310の一例を、図4に示す。
図4は、図3に示したセンサー部の構造を説明する概略的な断面図であって、図3に示しているセンサー部をA−A’線に沿って切断した断面図である。センサー部310は、導体部330上に所定の間隔Gだけ離隔して第1不導体341及び第2不導体351が形成され、第1不導体341及び第2不導体351上に第1導体343及び第2導体353がそれぞれ形成されることにより構成される。
導体部330上に所定の間隔Gだけ離隔して形成された第1不導体341及び第1導体343は、第1ライン340を形成し、第2不導体351及び第2導体353は、第2ライン350を形成する。
この際、電子ビーム(beam)は、第1ライン340及び第2ライン350の間の間隔Gよりも広い幅を有して第1ライン340及び第2ライン350上に照射される。
ビームの中心位置が、正確に第1ライン340、第2ライン350の間の間隔Gの中央にあれば、ビームにより第1ライン340、第2ライン350に蓄積される電荷は等しく、第1ライン340を通じて検出される第1信号S1と第2ライン350を通じて検出される第2信号S2とは等しく、エラーは零であり、ビームの中心位置が、左(右)にずれると、第1信号S1(第2信号S2)>第2信号S2(第1信号S1)となり、エラーが検出される。
即ち、図3を参照すれば、データ処理部320は、第1ライン340を通じて検出される第1信号S1及び第2ライン350を通じて検出される第2信号S2を受信する。データ処理部320は、第1信号S1と第2信号S2とを比較し、該比較の結果に基づいてエラー検出情報(Output Signal)を出力する。
本明細書においては、電子ビームが四角ビーム状である場合を例として図示したが、本発明の範囲は、これに限定されるものではない。
図5は、図3に示したエラー検出装置の一実施形態を説明する図であり、図6は、図5に示したエラー検出装置の動作を説明する図である。
実施形態によって、電子ビーム露光装置10において発生する電子ビームの位置エラーを検出するために、入力データ(Input Data)に対応する電子ビームが導体部330上に備えられた第1ライン340及び第2ライン350に照射される。
例えば、入力データが第1データD1乃至第4データD4を含む場合、電子銃20から電子ビームソース部30を通じて第1データD1乃至第4データD4のそれぞれに対応する第1電子ビームb1乃至第24電子ビームb24が一定周期ごとに繰り返して照射される。
第1ライン340及び第2ライン350は、第1電子ビームb1乃至第24電子ビームb24のそれぞれに対応して第1信号S1及び第2信号S2を検出し、該検出された第1信号S1及び第2信号S2をデータ処理部320に出力する。
データ処理部320は、第1信号S1及び第2信号S2を比較し、該比較の結果に基づいてエラー検出情報(Output Signal)を出力する。このために、データ処理部320は、比較部321及び判断部323を含む。
比較部321は、第1ライン340の第1導体343から検出される第1信号S1及び第2ライン350の第2導体353から検出される第2信号S2の値を比較し、該比較の結果による第1信号S1と第2信号S2との差値Cxを出力する。
判断部323は、比較部321の比較の結果による第1信号S1と第2信号S2との差値Cxが、所定の第1基準範囲R内に含まれるか否かを判断し、該判断の結果に基づいてエラーが検出された電子ビームに対応するエラー検出情報(Output Signal)を出力する。
例えば、図6に示したように、判断部323は、第1信号S1と第2信号S2との差値Cxが所定の第1基準範囲R内に含まれない第11電子ビームb11、第12電子ビームb12、第15電子ビームb15、及び第19電子ビームb19においてエラーが発生したと判断する。
そうすると、判断部323は、エラーが検出された電子ビームに対して、それぞれに対応するサイズ情報、位置情報及びエラーが検出された電子ビームの個数情報などをエラー検出情報(Output Signal)として出力する。このために、判断部323は、エラーが検出された電子ビームの個数をカウントするカウンター(図示せず)をさらに含む。
また、図5には図示していないが、データ処理部320は、判断部323から出力される電子ビームに対応するエラー検出情報を保存した後、一回で出力するための保存部(図示せず)をさらに備えることもできる。
図7は、図3に示したエラー検出装置の第2の実施形態を説明する構成図である。図7のエラー検出装置の構成は、図5に示したものとほぼ同一なので、説明の便宜上、以下においては差異点を中心に説明する。
第2の実施形態において、エラー検出装置300は、抵抗R11及び増幅器360をさらに備える。抵抗R11は、導体部330に照射される電子ビームが反射されないようにするための接地抵抗の役割を行う。
増幅器360は、導体部330の下部から検出される電流量に基づいて入力データに対応する電子ビームのエネルギー量を検出する。この際、エネルギー量は、電子銃20から電子ビームソース部30を通じて第1ライン340及び第2ライン350上に照射される電子ビームのエネルギー量に対応する。
判断部323’は、増幅器360から出力される値Axが所定の第2基準範囲内に含まれるか否かを判断し、該判断の結果に基づいてエラーが検出された電子ビームに対応するエラー検出情報(Output Signal)を出力する。この際、所定の第2基準範囲は、電子ビームに対応するそれぞれのエネルギー量に対する平均値を基準にする所定の範囲である。
例えば、電子ビームに対して検出されたエネルギー量が所定の第2基準範囲内に含まれない場合、前記電子ビームは、電子ビームソース部30によって他の電子ビームと異なって、大きいか、少ないエネルギー量により照射されたと判断される。すなわち、前記電子ビームは、他の電子ビームとは異なるサイズにより照射されたと判断される。
判断部323’は、外部から入力される選択信号SELに基づいて、第1信号S1と第2信号S2との差値Cxまたは増幅器の出力値Axに対する判断の結果に基づいてエラーが検出された電子ビームに対応するエラー検出情報(Output Signal)を選択的に出力する。すなわち、電子ビームが第1ライン340及び第2ライン350上に照射される時、電子ビームのそれぞれに対応するエネルギー量に基づいて電子ビームのサイズエラーを判断する。
図8は、本発明の一実施形態による電子ビーム露光装置のエラー検出方法を示すフローチャートである。図1乃至図8を参照すれば、センサー部310は、電子銃20から電子ビームソース部30を通じて入力される入力データに基づいて第1ライン340及び第2ライン350上に照射される電子ビームを受光する(ステップS110)。この際、電子ビームソース部30は、入力データに基づいて複数の電子ビームを照射する。
センサー部310は、受光される電子ビームに基づいて第1ライン340及び第2ライン350のそれぞれに対応する第1信号S1及び第2信号S2を検出する(ステップS120)。
データ処理部320は、第1信号S1及び第2信号S2の値を比較した結果に基づいて第1信号S1と第2信号S2との差値を出力し(ステップS130)、第1信号S1と第2信号S2との差値が所定の基準範囲内に含まれるか否かを判断する(ステップS140)。
S140段階における判断の結果、第1信号S1と第2信号S2との差値が所定の基準範囲内に含まれない場合、データ処理部320は、前記電子ビームに対応するエラー検出情報を出力する(ステップS150)。この際、エラー検出情報は、複数の電子ビームのうちからエラーが検出された電子ビームのそれぞれに対応するサイズ情報と位置情報、及びエラーが検出された電子ビームの個数情報などを含む。
S110段階乃至S140段階は、入力データに基づいてセンサー部310に照射される複数の電子ビームに基づいて繰り返して行われる。また、S150段階は、センサー部310に照射される複数の電子ビームのそれぞれに対するエラー検出過程が完了する度に行われるか、複数の電子ビームに関するエラー検出過程が完了した以後に行われる。
図8を参照して説明した方法は、プログラムコードにより作成されて、コンピュータにより読み取り可能な記録媒体にプログラムされうる。
本発明は、図面に示した一実施形態を参考にして説明したが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されるべきである。
本発明は、電子ビーム露光装置及びそのエラー検出方法関連の技術分野に適用可能である。
10 電子ビーム露光装置
20 電子銃
30 電子ビームソース部
31 アパーチュア(aperture)
35 ディフレクタ(deflector)
100 ステージ
200 マスク
300、301、302、303 エラー検出装置
310 センサー部
320 データ処理部
321 比較部
323、323’ 判断部
330 導体部
340 第1ライン
350 第2ライン
360 増幅器

Claims (10)

  1. 第1入力データに対応する電子ビームと第2入力データに対応する電子ビームとを照射する電子ビームソース部と、
    前記第1入力データに基づいて電子ビームが照射されるマスクが上面に形成され、前記マスクを移動させるステージと、
    前記第2入力データに基づいて照射される電子ビームに関するエラーを検出し、エラーが検出された電子ビームに基づいてエラー検出情報を出力するエラー検出装置と、
    を含むことを特徴とする電子ビーム露光装置。
  2. 前記エラー検出装置は、
    第1ライン及び第2ラインを含み、前記第2入力データに基づいて、前記第1ライン及び第2ライン上に照射される電子ビームを受光し、前記第1ライン及び第2ラインのそれぞれから第1信号及び第2信号を検出するセンサー部と、
    前記センサー部から検出される前記第1信号及び前記第2信号を比較した結果に基づいてエラー検出情報を出力するデータ処理部と、
    を含むことを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム露光装置。
  3. 前記センサー部は、
    第1導体上に所定の間隔離隔して不導体が形成され、前記不導体上に第2導体が形成され、
    前記第1導体上に前記所定の間隔離隔して形成された2本のラインのうち一方は、前記第1ラインであり、他方は、前記第2ラインであることを特徴とする請求項2に記載の電子ビーム露光装置。
  4. 前記第2入力データに基づいて照射される電子ビームは、前記所定の間隔よりも広い幅を有することを特徴とする請求項3に記載の電子ビーム露光装置。
  5. 前記データ処理部は、
    前記第1信号の値と前記第2信号の値とを比較し、該比較の結果による前記第1信号と前記第2信号との差値を出力する比較部と、
    前記差値が所定の第1基準範囲内に含まれるか否かを判断し、該判断の結果に基づいてエラーが検出された電子ビームに対応するエラー検出情報を出力する判断部と、を含むことを特徴とする請求項3に記載の電子ビーム露光装置。
  6. 前記判断部は、
    前記判断の結果に基づいてエラーが検出された電子ビームの個数をカウントするカウンターをさらに含むことを特徴とする請求項5に記載の電子ビーム露光装置。
  7. 前記エラー検出装置は、
    前記第1導体の下部から検出される電流量に基づいて、前記第2入力データに対応する電子ビームのエネルギー量を検出する増幅器をさらに含み、
    前記判断部は、前記検出されたエネルギー量が所定の第2基準範囲内に含まれるか否かを判断し、該判断の結果に基づいてエラーが検出された電子ビームに対応するエラー検出情報を出力することを特徴とする請求項6に記載の電子ビーム露光装置。
  8. 前記第2入力データに基づいて、前記電子ビームソース部から一定周期ごとに繰り返して照射される複数の電子ビームのうちの、
    第1グループに対応する電子ビームは、前記電子ビームの左右部分が前記第1ライン及び前記第2ライン上に照射され、第2グループに対応する電子ビームは、前記電子ビームの上下部分が前記第1ライン及び前記第2ライン上に照射されることを特徴とする請求項7に記載の電子ビーム露光装置。
  9. 前記エラー検出情報は、
    前記複数の電子ビームのうちのエラーが検出された電子ビームのそれぞれに対応するサイズ情報と位置情報、及び前記エラーが検出された電子ビームの個数情報を含むことを特徴とする請求項8に記載の電子ビーム露光装置。
  10. 前記エラー検出装置は、
    前記マスクが形成される前記ステージ上に前記マスクと別途に付着されて配置されるか、前記マスクと同じサイズを有し、前記マスクの上面に着脱自在に配置されることを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム露光装置。
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