JP2013191841A - 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子ビーム描画装置100は、試料216が載置されるXYステージ105と、電子ビーム200を出射する電子銃201と、電子ビーム200の軸方向に配列する電極を備えるレンズ202、204、207、210とが配置された電子鏡筒198とを有する。XYステージ105と電子鏡筒198の間には、電子ビーム200が試料216へ照射されて発生する反射電子または2次電子を遮る遮蔽板211が設けられている。遮蔽板211の直上には、電子ビーム200の焦点位置を変える静電レンズ210が配置されており、静電レンズ210には、電圧供給手段135から常に正の電圧が印加される。
【選択図】図1
Description
描画室に連結して設けられ、試料に所定のパターンを描画するための電子ビームを出射する電子銃と、電子ビームを偏向する偏向器と、偏向器の位置に対しステージの側に設けられた静電レンズとを備える鏡筒と、
描画中常に静電レンズに対して正の電圧を印加する電圧供給手段とを有することを特徴とする電子ビーム描画装置に関する。
第1のアパーチャを透過した電子ビームをさらに成形する第2のアパーチャと、
電子ビームを第1のアパーチャに照明する照明レンズと、
第1のアパーチャを透過した電子ビームを第2のアパーチャに投影する投影レンズと、
第2のアパーチャを透過した電子ビームの焦点を合わせる対物レンズとを有し、
照明レンズ、投影レンズおよび対物レンズは、いずれも磁界型レンズであり、
静電レンズは、対物レンズと遮蔽板の間に配置されることが好ましい。
鏡筒内であって、偏向器の位置に対しステージの側に、電子ビームの軸方向に電極が配列された静電レンズを設け、
静電レンズに常に正の電圧を印加した状態で描画を行うことを特徴とするものである。
101,102,103 電極
105 XYステージ
106 反射ミラー
107 Zセンサ
110 制御計算機
112 描画データ処理部
120 偏向制御回路
121 偏向量演算部
124 偏向信号生成部
130〜133 DACアンプユニット
135 電圧供給手段
143 検出器
144 記憶装置
145 レーザ測長機
150 描画部
160 制御部
198 電子鏡筒
199 描画室
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 第1の成形アパーチャ
204 投影レンズ
205 成形偏向器
206 第2の成形アパーチャ
207 対物レンズ
208 主偏向器
209 副偏向器
210 静電レンズ
211 遮蔽板
212 ブランキング偏向器
214 ブランキングアパーチャ
216 試料
51 描画されるパターン
52 フレーム領域
53 副偏向領域
Claims (9)
- 試料が載置されるステージを備える描画室と、
前記描画室に連結して設けられ、前記試料に所定のパターンを描画するための電子ビームを出射する電子銃と、前記電子ビームを偏向する偏向器と、前記偏向器の位置に対し前記ステージの側に設けられた静電レンズとを備える鏡筒と、
描画中常に前記静電レンズに対して正の電圧を印加する電圧供給手段とを有することを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 前記ステージと前記鏡筒の間に設けられ、前記電子ビームが前記試料へ照射されて発生する反射電子または2次電子を遮る遮蔽板を有することを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム描画装置。
- 前記静電レンズは、前記遮蔽板の直上に配置されていることを特徴とする請求項2に記載の電子ビーム描画装置。
- 前記電子銃から出射された電子ビームを成形する第1のアパーチャと、
前記第1のアパーチャを透過した電子ビームをさらに成形する第2のアパーチャと、
前記電子ビームを前記第1のアパーチャに照明する照明レンズと、
前記第1のアパーチャを透過した電子ビームを前記第2のアパーチャに投影する投影レンズと、
前記第2のアパーチャを透過した電子ビームの焦点を合わせる対物レンズとを有し、
前記照明レンズ、前記投影レンズおよび前記対物レンズは、いずれも磁界型レンズであり、
前記静電レンズは、前記対物レンズと前記遮蔽板の間に配置されることを特徴とする請求項2に記載の電子ビーム描画装置。 - 前記電圧供給手段から前記静電レンズに0Vから250Vの範囲内の正の電圧が印加されることを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム描画装置。
- 前記電圧供給手段から前記静電レンズに、平均して100Vから200Vの正の電圧が印加されることを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム描画装置。
- 鏡筒内に配置された電子銃から出射された電子ビームを、前記鏡筒内で前記電子ビームの光路上に配置された偏向器で偏向して、前記鏡筒に連結する描画室内に配置されたステージ上の試料に照射し、前記試料に所定のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、
前記鏡筒内であって、前記偏向器の位置に対し前記ステージの側に、前記電子ビームの軸方向に電極が配列された静電レンズを設け、
前記静電レンズに常に正の電圧を印加した状態で前記描画を行うことを特徴とする電子ビーム描画方法。 - 前記静電レンズに0Vから250Vの範囲内の正の電圧を印加することを特徴とする請求項7に記載の電子ビーム描画方法。
- 前記静電レンズに、平均して100Vから200Vの正の電圧を印加することを特徴とする請求項7に記載の電子ビーム描画方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10451976B2 (en) | 2017-03-30 | 2019-10-22 | Nuflare Technology, Inc. | Electron beam irradiation apparatus and electron beam dynamic focus adjustment method |
US10998164B2 (en) | 2018-06-05 | 2021-05-04 | Nuflare Technology, Inc. | Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method |
JP7468795B1 (ja) | 2023-01-16 | 2024-04-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
US12009175B2 (en) | 2021-04-13 | 2024-06-11 | Nuflare Technology, Inc. | Charged particle beam writing apparatus |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5662816B2 (ja) | 2011-01-31 | 2015-02-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置 |
WO2012155267A1 (en) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | Fibics Incorporated | Microscopy imaging method and system |
JP6057700B2 (ja) | 2012-12-26 | 2017-01-11 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
JP6080540B2 (ja) | 2012-12-26 | 2017-02-15 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置 |
JP2015185800A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-22 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置、情報処理装置、パターン検査装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
WO2015191108A1 (en) * | 2014-06-13 | 2015-12-17 | Intel Corporation | Ebeam align on the fly |
CN108054072B (zh) * | 2017-09-07 | 2021-03-26 | 深圳市善时仪器有限公司 | 一种台式电子扫描显微镜 |
CN111403073B (zh) * | 2020-03-19 | 2023-01-03 | 哈尔滨工程大学 | 一种基于电子加速器的多用途终端 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5694739A (en) * | 1979-12-28 | 1981-07-31 | Fujitsu Ltd | Electronic beam exposure method |
JPH09167732A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電子ビーム照射装置 |
JP2007095576A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Horon:Kk | 荷電粒子線装置および荷電粒子線フォーカス制御方法 |
JP2008112999A (ja) * | 2006-10-30 | 2008-05-15 | Ims Nanofabrication Ag | 荷電粒子露光装置 |
JP2009505368A (ja) * | 2005-08-18 | 2009-02-05 | シーイービーティー・カンパニー・リミティッド | 電子カラムの電子ビームエネルギー変換方法 |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4683366A (en) * | 1985-06-28 | 1987-07-28 | Control Data Corporation | All electrostatic electron optical sub-system for variable electron beam spot shaping and method of operation |
DE69132441T2 (de) * | 1990-06-20 | 2001-06-07 | Hitachi Ltd | Ladungsträgerstrahlgerät |
JP3512946B2 (ja) * | 1996-04-26 | 2004-03-31 | 株式会社東芝 | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 |
JP4691151B2 (ja) * | 1997-12-19 | 2011-06-01 | 株式会社東芝 | 電子ビーム描画装置 |
US6847038B2 (en) | 2002-07-15 | 2005-01-25 | Hitachi, Ltd. | Scanning electron microscope |
JP2003142017A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-16 | Ebara Corp | 電子線装置および電子線装置を用いたデバイス製造方法 |
JP3694669B2 (ja) * | 2001-12-20 | 2005-09-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子ビーム描画装置 |
DE10233002B4 (de) | 2002-07-19 | 2006-05-04 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Objektivlinse für ein Elektronenmikroskopiesystem und Elektronenmikroskopiesystem |
EP1388883B1 (en) * | 2002-08-07 | 2013-06-05 | Fei Company | Coaxial FIB-SEM column |
US7235799B2 (en) | 2003-11-28 | 2007-06-26 | Ebara Corporation | System and method for evaluation using electron beam and manufacture of devices |
JP5243793B2 (ja) | 2004-07-05 | 2013-07-24 | シーイービーティー・カンパニー・リミティッド | マルチマイクロコラムにおける電子ビームの制御方法及びこの方法を利用したマルチマイクロコラム |
KR101118693B1 (ko) * | 2004-07-05 | 2012-03-12 | 전자빔기술센터 주식회사 | 멀티 마이크로칼럼에서 전자빔을 제어하는 방법 및 이방법을 이용한 멀티 마이크로칼럼 |
JP4619765B2 (ja) * | 2004-12-14 | 2011-01-26 | 株式会社リコー | 表面電荷分布または表面電位分布の測定方法およびその装置 |
JP2007043078A (ja) | 2005-07-04 | 2007-02-15 | Nuflare Technology Inc | 描画装置及び描画方法 |
US7554107B2 (en) | 2005-11-04 | 2009-06-30 | Nuflare Technology, Inc. | Writing method and writing apparatus of charged particle beam, positional deviation measuring method, and position measuring apparatus |
US7643130B2 (en) | 2005-11-04 | 2010-01-05 | Nuflare Technology, Inc. | Position measuring apparatus and positional deviation measuring method |
JP4801996B2 (ja) | 2006-01-05 | 2011-10-26 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 試料移動機構及び荷電粒子ビーム描画装置 |
JP4870437B2 (ja) | 2006-01-11 | 2012-02-08 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 偏向収差補正電圧の演算方法及び荷電粒子ビーム描画方法 |
JP5127148B2 (ja) * | 2006-03-16 | 2013-01-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム加工装置 |
JP4948948B2 (ja) | 2006-09-15 | 2012-06-06 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画装置の評価方法 |
JP4932433B2 (ja) | 2006-11-02 | 2012-05-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 |
JP2010517233A (ja) * | 2007-01-25 | 2010-05-20 | エヌエフエイビー・リミテッド | 改良された粒子ビーム発生装置 |
JP2008252070A (ja) | 2007-03-07 | 2008-10-16 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビームの焦点合わせ方法及び荷電粒子ビームの非点調整方法 |
TWI479570B (zh) * | 2007-12-26 | 2015-04-01 | Nawotec Gmbh | 從樣本移除材料之方法及系統 |
JP5449679B2 (ja) * | 2008-02-15 | 2014-03-19 | 株式会社日立製作所 | 電子線観察装置および試料観察方法 |
KR101570974B1 (ko) * | 2008-02-26 | 2015-11-23 | 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. | 투사 렌즈 배열체 |
JP5301312B2 (ja) * | 2008-03-21 | 2013-09-25 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置の較正用基板及び描画方法 |
JP5203992B2 (ja) | 2008-03-25 | 2013-06-05 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 |
JP5525739B2 (ja) | 2008-09-16 | 2014-06-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
JP5121642B2 (ja) | 2008-09-19 | 2013-01-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マスク検査装置及びマスク検査方法 |
US7960697B2 (en) | 2008-10-23 | 2011-06-14 | Hermes-Microvision, Inc. | Electron beam apparatus |
EP2211366B1 (en) * | 2009-01-23 | 2011-10-19 | ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | High resolution gas field ion column |
JP5530688B2 (ja) * | 2009-09-18 | 2014-06-25 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置およびその近接効果補正方法 |
JP5841710B2 (ja) * | 2010-03-17 | 2016-01-13 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
JP5254270B2 (ja) | 2010-04-09 | 2013-08-07 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査方法および検査装置 |
JP5662816B2 (ja) | 2011-01-31 | 2015-02-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置 |
JP5826566B2 (ja) | 2011-09-01 | 2015-12-02 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
JP5859778B2 (ja) | 2011-09-01 | 2016-02-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
TWI477925B (zh) | 2011-10-04 | 2015-03-21 | Nuflare Technology Inc | Multi - beam charged particle beam mapping device and multi - beam charged particle beam rendering method |
-
2013
- 2013-01-09 TW TW102100695A patent/TWI489222B/zh active
- 2013-02-06 CN CN201310047452.0A patent/CN103257528B/zh active Active
- 2013-02-14 KR KR1020130015714A patent/KR101476389B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-15 US US13/768,258 patent/US9373424B2/en active Active
- 2013-02-15 JP JP2013027410A patent/JP6155044B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5694739A (en) * | 1979-12-28 | 1981-07-31 | Fujitsu Ltd | Electronic beam exposure method |
JPH09167732A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電子ビーム照射装置 |
JP2009505368A (ja) * | 2005-08-18 | 2009-02-05 | シーイービーティー・カンパニー・リミティッド | 電子カラムの電子ビームエネルギー変換方法 |
JP2007095576A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Horon:Kk | 荷電粒子線装置および荷電粒子線フォーカス制御方法 |
JP2008112999A (ja) * | 2006-10-30 | 2008-05-15 | Ims Nanofabrication Ag | 荷電粒子露光装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10451976B2 (en) | 2017-03-30 | 2019-10-22 | Nuflare Technology, Inc. | Electron beam irradiation apparatus and electron beam dynamic focus adjustment method |
US10998164B2 (en) | 2018-06-05 | 2021-05-04 | Nuflare Technology, Inc. | Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method |
US12009175B2 (en) | 2021-04-13 | 2024-06-11 | Nuflare Technology, Inc. | Charged particle beam writing apparatus |
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