JP2015072995A - リソグラフィ装置、リソグラフィシステム、および物品の製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置、リソグラフィシステム、および物品の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置1は、チャンバ内において原版Mを用いて基板上にパターンを形成するものであり、原版Mを保持する保持部と、保持部との間で原版Mの受け渡しを行う搬送部3とを有する。ここで、搬送部3は、チャンバの内部から外部にわたって延設された搬送路5(5a)を有し、搬送路5(5a)は、外部において別の搬送路5(5b)と接続可能に構成されている。
【選択図】図1
Description
一実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイスなどのマイクロデバイスや微細構造を有する素子などの物品を製造するのに好適である。当該製造方法は、物体(例えば、感光剤を表面に有する基板)上に上記のリソグラフィ装置を用いてパターン(例えば潜像パターン)を形成する工程と、該工程でパターンを形成された物体を処理する工程(例えば、現像工程)とを含み得る。さらに、該製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含み得る。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
2 露光部
3 マスク搬送部
5 搬送路
6 ハンド
7 マスク保管部
13 マスクステージ
Claims (9)
- チャンバ内において原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記原版を保持する保持部と、
前記保持部との間で前記原版の受け渡しを行う搬送部と、を有し、
前記搬送部は、前記チャンバの内部から外部にわたって延設された搬送路を有し、
前記搬送路は、前記外部において別の搬送路と接続可能に構成されている、
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記チャンバは、前記搬送路が貫通する開口が形成されている、ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記開口を封止するためのエアカーテンまたは開閉機構を有する、ことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記搬送路上かつ前記外部に前記原版を保管する保管部を有する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記保管部は、前記原版を検査する検査部を有する、ことを特徴とする請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置における前記搬送路が前記外部において接続された別の搬送路と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。 - 前記別の搬送路は、前記リソグラフィ装置とは別のリソグラフィ装置としての請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置における搬送路を含む、ことを特徴とする請求項6に記載のリソグラフィシステム。
- 前記別の搬送路は、前記外部において建物に設けられた搬送路を含む、ことを特徴とする請求項6に記載のリソグラフィシステム。
- 請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置、または請求項6ないし請求項8のいずれか1項に記載のリソグラフィシステムを用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH104058A (ja) * | 1996-06-13 | 1998-01-06 | Nikon Corp | マスク搬送装置及び露光装置 |
JPH1063006A (ja) * | 1996-08-21 | 1998-03-06 | Sanee Giken Kk | 露光装置 |
JPH10250836A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-22 | Murata Mach Ltd | 天井走行車システム |
JPH11329937A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-30 | Nikon Corp | リソグラフィシステム |
WO2000002239A1 (fr) * | 1998-07-03 | 2000-01-13 | Nikon Corporation | Systeme d'exposition, procede de production de ce dernier, procede de transfert de tranches, dispositif et procede de fabrication du dispositif |
JP2000311850A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-11-07 | Nikon Corp | 露光装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法及びデバイス |
JP2005345638A (ja) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Orc Mfg Co Ltd | マスクフレーム搬送装置、および露光装置 |
JP2011047972A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Canon Inc | 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
-
2013
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH104058A (ja) * | 1996-06-13 | 1998-01-06 | Nikon Corp | マスク搬送装置及び露光装置 |
JPH1063006A (ja) * | 1996-08-21 | 1998-03-06 | Sanee Giken Kk | 露光装置 |
JPH10250836A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-22 | Murata Mach Ltd | 天井走行車システム |
JPH11329937A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-30 | Nikon Corp | リソグラフィシステム |
WO2000002239A1 (fr) * | 1998-07-03 | 2000-01-13 | Nikon Corporation | Systeme d'exposition, procede de production de ce dernier, procede de transfert de tranches, dispositif et procede de fabrication du dispositif |
JP2000311850A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-11-07 | Nikon Corp | 露光装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法及びデバイス |
JP2005345638A (ja) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Orc Mfg Co Ltd | マスクフレーム搬送装置、および露光装置 |
JP2011047972A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Canon Inc | 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
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