JPH104058A - マスク搬送装置及び露光装置 - Google Patents

マスク搬送装置及び露光装置

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JPH104058A
JPH104058A JP8175841A JP17584196A JPH104058A JP H104058 A JPH104058 A JP H104058A JP 8175841 A JP8175841 A JP 8175841A JP 17584196 A JP17584196 A JP 17584196A JP H104058 A JPH104058 A JP H104058A
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exposure
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Toshiya Ota
稔也 太田
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
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    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明はマスク搬送装置及び露光装置に関し、
マスクを鉛直に立てた状態にて確実に保持して搬送す
る。 【解決手段】鉛直方向にスライド自在でありかつ、マス
ク(2)の端部に鉛直下方より当接する第1のマスク支
持部材(22)及び、水平方向にスライド自在でありか
つ、マスク(2)の両側の端部に水平方向より当接する
第2のマスク支持部材(22)を有するマスク搬送手段
(15)と、予圧発生部(34A、34B)及び吸着部
(29)を有する露光面の垂直方向にスライド自在に設
けられた移戴手段(25)とを備えたことにより、ほぼ
鉛直に立てられた状態のマスク(2)を下端及び両側の
端部にて第1のマスク支持部材(22)及び第2のマス
ク支持部材(22)によつて確実に保持しながら搬送し
得るとともに、移戴手段(25)によつてマスク(2)
を高精度で露光位置に装着させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はマスク搬送装置及び
露光装置に関し、特に竪型の露光装置にマスクを搬送す
る場合に適用して好適なものである。
【0002】
【従来の技術】従来、露光装置においてマスクを保管場
所から露光位置まで搬送する場合、マスクは主に水平に
置かれた状態から下面をアームによつて支持するような
搬送手段が用いられている。図5に示すように、搬送装
置1はマスク2をホルダ3上に搬送する場合、マスク保
管場所に水平に置かれたマスク2をフオーク形のアーム
4によつて下面側から支持して上方に持ち上げる。さら
にマスク2を水平に移動させて露光装置(図示せず)の
ホルダ3上に搬送する。搬送装置1は、アーム4によつ
てマスク2を保持した状態でホルダ3上のマスク装着位
置上に移動すると、アーム4を下降させてホルダ3上に
マスク2を載せ置く。このときアーム4は、ホルダ3の
一辺に設けられた逃げ溝6に沿つて収められ、この結
果、マスク2がホルダ3に当接してホルダ3上に設けら
れた吸着パツド(図示せず)によつて真空吸着される。
搬送装置1は、マスク2をホルダ3上に戴置すると、ア
ーム4をホルダ3の一旦、下降させて逃げ溝6から引き
出して、所定の避難位置にて退避する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで液晶パネルの
大型化が進むと、マスクを水平に保持した状態で露光し
た場合、マスクの自重によつてマスクの露光面がたわみ
光学的な歪み等が発生して、露光転写の精度を劣化させ
るという問題がある。そこでマスクのたわみを発生させ
ないために、マスク及び感光基板を鉛直に立てた状態で
露光するいわゆる竪型の露光装置が考えられている。こ
の場合、マスクを鉛直に立てた状態でホルダに装着する
ために、マスク搬送工程においてマスクを立てた状態で
搬送しなければならない。
【0004】ここで例えば、従来の水平搬送用の搬送装
置1の設置向きを変えて鉛直方向に支持して搬送しよう
とすると、水平搬送用の搬送装置1では単にマスクを真
空吸着しているだけなのでマスクを十分安定した状態で
保持することができない。このためマスク受け渡しの際
にマスクを落下させてしまう危険性が高いという問題点
があつた。本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、マスクを鉛直に立てた状態にて確実に保持して搬送
することのできるマスク搬送装置及び露光装置を提案し
ようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、マスク(2)及び感光基板各々の
露光面をほぼ鉛直に立てた状態でマスク(2)保管位置
から露光位置へマスク(2)を搬送するマスク搬送装置
(10)において、鉛直方向にスライド自在でありか
つ、マスク(2)の端部に鉛直下方より当接する第1の
マスク支持部材(22A、22B)及び、水平方向にス
ライド自在でありかつ、マスク(2)の両側の端部に水
平方向より当接する第2のマスク支持部材(22C、2
2D)を有するマスク搬送手段(15)と、予圧発生部
(34A、34B)及び吸着部(29)を有する露光面
の垂直方向にスライド自在に設けられた移戴手段(2
5)と、マスク搬送手段(15)を露光位置とマスク保
管位置との間で移動させる駆動手段(16)とを備え
る。
【0006】これによりほぼ鉛直に立てた状態のマスク
(2)を下端及び両側の端部にて第1のマスク支持部材
(22A、22B)及び第2のマスク支持部材(22
C、22D)によつて確実に保持しながら搬送し得る。
さらに移戴手段(25)の吸着部(29)によつて安定
に吸着保持した状態で予圧発生部(34A、34B)に
よつて露光位置にて露光されるマスク(2)の鉛直方向
に対する傾きを調整して、マスク(2)を高精度で露光
位置に装着させることができる。
【0007】
【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
【0008】図1〜図3において、10は全体として搬
送装置を示し、マスクケース11内にマスク面が鉛直に
立てられた状態で収納されたマスク2を真空吸着してマ
スク2を鉛直に立てたまま搬出するようにしたケースア
ーム12と、該ケースアーム12から第1の受け渡し位
置P1にてほぼ鉛直に立てられた状態で受け取つたマス
ク2を立てられた状態で保持しながら露光装置(図示せ
ず)のステージ13上に設けられたホルダ14側の第2
の受渡し位置P2まで搬送するロードアーム15と、該
ロードアーム15を受け渡し位置からホルダ位置まで移
動させるためのロードアーム駆動部16とから構成され
ている。
【0009】マスクケース11は、液晶パネル用の矩形
薄形のマスク2をマスク面を鉛直に立てた状態で収納し
ており、普段は防塵のために蓋18が閉じられている。
ここでマスク2を搬出する際、マスクケース11の蓋1
8は蓋開閉機構19によつて開けられ、ケース内部にケ
ースアーム12を迎え入れる。ケースアーム12は、二
本のアーム12A及び12Bのマスク2と当接する側に
おいてマスク縁部の四隅に対応する位置にマスク2を真
空吸着するための固定吸着部20を各々設けている。ケ
ースアーム12は、スライド機構21によつてx軸方向
に沿つてスライド移動してマスクケース11内に進入
し、ケース内に収納されたマスク2を真空吸着すると、
マスク2を真空吸着したままスライド機構21によつて
受渡し位置P1までx軸方向に沿つてスライド移動す
る。
【0010】ロードアーム15は、下端部を開けたコ字
状の枠構造をなし、上部15Aをロードアーム駆動部1
6に接続している。ロードアーム駆動部16は、アーム
16Aをx軸方向及びz軸方向にスライド移動させるこ
とによつてロードアーム15を移動させる。ロードアー
ム15の両側部のアーム15B及び15Cには、鉛直方
向にスライド自在なコ字状の落下防止爪22A及び22
B並びに水平方向にスライド自在なコ字状の落下防止爪
22C及び22Dが各々設けられている。
【0011】図2に示すように落下防止爪22A及び2
2Bは、コ字の凹部にマスク2の端部に当接するローラ
23A及び23Bを設け、鉛直下方からマスク2の下端
部に当接させ、これによりマスク2を支持する。また落
下防止爪22C及び22Dは、コ字の凹部にマスク2の
端部に当接するローラ23C及び23Dを設け、水平方
向からマスク2の両側の端部にそれぞれ当接させ、これ
によりマスク2を挟み込むようにして支持する。
【0012】さらにロードアーム15のアーム15B及
び15Cには、各落下防止爪22A、22B、22C及
び22Dそれぞれの設置位置の上隣にロードアーム15
に載せ換えられるマスク2を真空吸着して保持する固定
吸着部24(24A、24B、24C及び24D)を設
けている。さらに固定吸着部24の隣にはマスク2を真
空吸着して保持しながら、マスク2に対してマスク面の
垂直方向に予圧を与えてマスク2をz軸方向に沿つて移
動させるとともに、マスク面の鉛直方向の傾きを調整す
るための移戴機構25(25A、25B、25C及び2
5D)を設けている。
【0013】図4に示すように移戴機構25は、外筒部
26をスライド機構28(28A、28B、28C及び
28D)によつてマスク面に対して垂直方向(図中z軸
方向)にスライドして移動できるように設けられてい
る。外筒部26には、先端部に吸着パツド29を取り付
けた中空の主軸30がボールブツシユ31を介して摺動
自在に支持されている。主軸30の後端にはチユーブ3
2が接続され、吸着パツド29にチユーブ32を通じて
真空ポンプ(図示せず)より真空圧を供給する。主軸3
0の基部には敷居部26Aが設けられ、これにより外筒
部26内を二室に仕切るとともに、各二室にばね34A
及び34Bを配している。移戴機構25は、このばね3
4A及び34Bの弾性力によつて予圧を発生させ、吸着
パツド29によつて真空吸着したマスク2をz軸方向に
押しつけるようにしている。
【0014】図2に示すように落下防止爪22A、22
B、22C及び22Dに各々設けられたローラ23(2
3A、23B、23C及び23D)は、材質をポリアセ
タル樹脂等のすべり性の高い低発塵材としている。各ロ
ーラ23は、ローラの回転軸にボールブツシユ(図示せ
ず)を配することによつて、支持するマスク2の露光面
に対して垂直方向にスライド自在に設けられている。こ
れによりマスク面の傾き調整の際にマスク2のz軸方向
の動きをローラ23のスライド動作によつて吸収してマ
スク端部の当接箇所において擦れが生じてパーテイクル
が発生するのを防止するようにしている。
【0015】図3に示すようにロードアーム15によつ
て搬送されるマスク2は、受渡し位置P2において露光
装置(図示せず)のステージ13上に設けられたホルダ
14に受け渡される。ホルダ14は、マスク2の吸着時
にロードアーム15に設けられた落下防止爪22(22
A、22B、22C及び22D)の突出した部分が収納
される大きさを有するくり抜き部36を備えている。さ
らにこのくり抜き部36の大きさは、落下防止爪22が
鉛直方向及び水平方向にスライドするときのクリアラン
スをもつものとしている。
【0016】以上の構成において、マスク2をマスクケ
ース11からステージ13上へ搬送する場合、まずマス
クケース11の蓋18が蓋開閉機構19によつて開けら
れると、ケースアーム12がマスクケース11内に進入
してマスク2を真空吸着してマスクケース11から受渡
し位置P1に搬送する。ケースアーム12によつて搬送
されたマスク2が、受渡し位置P1にて待機するロード
アーム15に対面すると、ロードアーム駆動部16によ
つてアーム16Aがz軸方向に沿つて移動され、これに
よりロードアーム15が移戴機構25によつてマスク2
に当接する。マスク2が移戴機構25によつて真空吸着
されると、マスク2の周囲に位置する落下防止爪22A
及び22B、22C及び22Dがそれぞれ閉動作してマ
スク2の下端部及び両側の端部に各ローラ23を当接さ
せマスク2を支持する。マスク2がロードアーム15に
よつて支持されるとケースアーム11側の真空吸着が解
除される。
【0017】次にロードアーム駆動部16によつてロー
ドアーム15がz軸方向に沿つてスライドし、固定吸着
部24によつてマスク2を真空吸着する。しかる後、ロ
ードアーム駆動部16によつてロードアーム15が再
度、z軸方向に沿つてマスク面から離脱する方向にスラ
イドすることによつてマスク2をケースアーム11から
引き離す。この場合、落下防止爪22のマスク2の端に
当接する部分はスライド自在なローラ29となつてお
り、マスク2がz軸方向に移動するに伴つてマスク2に
追従してスライドするため、マスク端部が擦れることが
なくパーテイクル発生が未然に防止し得る。
【0018】ロードアーム15は、マスク2を吸着保持
するとロードアーム駆動部16によつてx軸方向に沿つ
てステージ13の位置する第2の受け渡し位置P2まで
移動される。ロードアーム15は、受渡し位置P2まで
移動すると、ロードアーム駆動部16によりz軸方向に
沿つてホルダ14側に移動する。次に固定吸着部24に
よるマスク2の真空吸着を解除すると、スライド機構2
8によつて移戴機構25がz軸方向にスライドしてマス
ク2をホルダ14上に押しつけ、マスク面の鉛直方向の
傾きを調整する。ここでホルダ14側が吸着機構(図示
せず)によつてマスク2を真空吸着すると、落下防止爪
22はくり抜き部36内において開動作してマスク2を
開放する。このとき移戴機構25も同時に真空吸着を解
除してスライド機構28によつてz軸方向に沿つてマス
ク面から離脱する方向へスライドする。そしてロードア
ーム15はロードアーム駆動部16によつて第1の受渡
し位置P1へ移動し、一連のマスク受渡し動作を終了す
る。
【0019】次に露光処理を終えたマスク2をホルダ1
4からマスクケース11内へ戻す場合、まず受渡し位置
P1に退避していたロードアーム15が、ステージ13
側の受渡し位置P2までロードアーム駆動部16によつ
て移動される。ロードアーム15がマスクの受渡し位置
P2まで移動してマスク2に対面すると、アーム15A
によつてロードアーム15は、マスク2の方向に移動さ
れる。さらに移戴機構25がスライド機構28によつて
z軸方向にスライドし、吸着パツド29をマスク2に接
触させマスク2を真空吸着する。次に落下防止爪22を
閉動作させることによつてマスク2をつかみロードアー
ム15によつて保持する。
【0020】次にホルダ14の真空吸着を解除して、ス
ライド機構28によつて移戴機構25をz軸方向に沿つ
てホルダ14から離脱する方向にスライドさせて、マス
ク2をロードアーム15上の固定吸着部24上に引き付
けて真空吸着する。そしてロードアーム駆動部16によ
つてケースアーム12側の受渡し位置P1までマスク2
を保持しながら移動する。ロードアーム15が受渡し位
置P1まで移動完了すると、固定吸着部24の真空吸着
を解除し、スライド機構28によつて移戴機構25がz
軸方向に沿つてスライドしてマスク2をケースアーム1
2上に押しつける。ここでケースアーム12が固定吸着
部20によつてマスク2を真空吸着して確実に保持した
ことが確認されると、落下防止爪22が開動作してマス
ク2を開放し、移戴機構25も同時に真空吸着を解除す
る。そしてロードアーム15はスライドして受渡し位置
P1に戻り、マスク2はケースアーム12によつて再び
マスクケース11内に収納され、これによりマスクの一
連の受渡し動作を終了する。
【0021】以上の構成によれば、マスクケース11に
立てた状態で収納されているマスク2をケースアーム1
2によつて真空吸着して引き出し、受渡し位置P1にて
待機するロードアーム15にほぼ鉛直に立てた状態で載
せ換える。このときロードアーム15は落下防止爪22
を閉動作させることによつてマスク2に鉛直下方よりマ
スク端部に落下防止爪22A及び22Bを当接させると
ともに、水平方向から両側の端部に落下防止爪22C及
び22Dを当接させてマスク2を確実に支持する。これ
により鉛直に立てられたマスク2を十分安定した状態で
保持してホルダ14側のマスク受渡し位置P2にマスク
2を搬送することができる。
【0022】さらにロードアーム15に落下防止爪22
によつて保持されたマスク2を四隅において移戴機構2
5によつて吸着保持し、予圧をかけることによつてマス
ク面の鉛直方向に対する傾きを調整するようにしたこと
により、ホルダ14に対してマスク2の露光面を鉛直方
向に高い精度で設定し得、これによりホルダ14に対し
てマスク2を確実に装着させることができる。
【0023】さらに上述の実施例によれば、落下防止爪
22のマスク端部に当接する部分をマスク面に対して垂
直方向にスライド自在なローラ23としたことにより、
ロードアーム15においてマスク面の傾きを調整する際
にマスク2の動きを滑らかにし得る。かくしてマスク2
の鉛直方向の傾き調整を容易になし得るとともに、ロー
ドアーム15によつてマスク2を保持する際のマスク端
部の擦れを防止してパーテイクルの発生を未然に防止し
得る。
【0024】なお上述の実施例においては、ロードアー
ム15をコ字状のものとして、両側アーム15A及び1
5Bによつてマスク2の下端部を2か所で支持した場合
について述べたが、本発明はこれに限らず、例えばロー
ドアームをより強度の高い四角い枠とし、下部の枠の少
なくとも一箇所に設ける落下防止爪によつてマスク2を
支持するようにしても良い。
【0025】また上述の実施例においては、マスク2に
当接するローラ23の材質をポリアセタル樹脂とした場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えばテ
フロン等でも良く、要は当接するマスク端部が擦れない
ようなすべり性の高い低発塵の材質であれば良い。
【0026】また上述の実施例においては、移戴機構2
5の予圧の発生源としてばね34A及び34Bを用いた
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば
空気圧等によつて発生させても良い。また上述の実施例
においては、液晶パネル用の矩形薄形のマスク2を搬送
する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、半
導体集積回路装置のガラスマスクを搬送する場合に用い
ても良い。
【0027】
【発明の効果】上述したように本発明によれば、鉛直方
向にスライド自在でありかつ、マスクの端部に鉛直下方
より当接する第1のマスク支持部材及び、水平方向にス
ライド自在でありかつ、マスクの両側の端部に水平方向
より当接する第2のマスク支持部材を有するマスク搬送
手段と、予圧発生部及び吸着部を有する露光面の垂直方
向にスライド自在に設けられた移戴手段と、マスク搬送
手段を露光位置とマスク保管位置との間で移動させる駆
動手段とを備えたことにより、ほぼ鉛直に立てられた状
態のマスクを下端及び両側の端部にて第1のマスク支持
部材及び第2のマスク支持部材によつて確実に保持しな
がら搬送し得るとともに、移戴手段によつて安定に吸着
保持した状態で露光位置にて露光されるマスクの鉛直方
向に対する傾きを調整し、マスクを高精度で露光位置に
装着させることができるマスク搬送装置及び露光装置を
実現し得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるマスク搬送装置の全体構成を示す
斜視図である。
【図2】本発明によるマスク搬送装置の構成を示す断面
図である。
【図3】本発明によるマスク搬送装置の構成を示す断面
図である。
【図4】移戴機構を示す断面図である。
【図5】水平搬送用の搬送装置を示す斜視図である。
【符号の説明】
1、10……マスク搬送装置、2……マスク、3、14
……ホルダ、4……アーム、6……逃げ溝、11……マ
スクケース、12……ケースアーム、13……ステー
ジ、15……ロードアーム、16……ロードアーム駆動
部、18……蓋、19……蓋開閉機構、20、24……
固定吸着部、21、28……スライド機構、22A、2
2B、22C、22D……落下防止爪、23……ロー
ラ、25A、25B、25C、25D……移戴機構、2
6……外筒体、29……吸着パツド、30……主軸、3
1……ボールブツシユ、32……チユーブ。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】マスク及び感光基板各々の露光面をほぼ鉛
    直に立てた状態でマスク保管位置から露光位置へ前記マ
    スクを搬送するマスク搬送装置において、 鉛直方向にスライド自在でありかつ、前記マスクの端部
    に鉛直下方より当接する第1のマスク支持部材及び、水
    平方向にスライド自在でありかつ、前記マスクの両側の
    端部に水平方向より当接する第2のマスク支持部材を有
    するマスク搬送手段と、 予圧発生部及び吸着部を有する前記露光面の垂直方向に
    スライド自在に設けられた移戴手段と、 前記マスク搬送手段を露光位置とマスク保管位置との間
    で移動させる駆動手段とを備えることを特徴とするマス
    ク搬送装置。
  2. 【請求項2】前記第1及び第2のマスク支持部材は、前
    記露光面の鉛直方向に対してスライド自在な当接部を設
    けたことを特徴とする請求項1に記載のマスク搬送装
    置。
  3. 【請求項3】マスクを保持するマスクホルダがほぼ鉛直
    に立てた状態に構成されており、前記マスクを露光基板
    に露光する露光装置において、 鉛直方向にスライド自在でありかつ、前記マスクの端部
    に鉛直下方より当接する第1のマスク支持部材及び、水
    平方向にスライド自在でありかつ、前記マスクの両側の
    端部に当接する第2のマスク支持部材を有するマスク搬
    送手段が前記マスクホルダに前記マスクを搬送する際
    に、前記第1のマスク支持部材と前記第2のマスク支持
    部材とが前記マスクホルダに接触しないように前記マス
    クホルダの一部にくり抜き部が形成されていることを特
    徴とする露光装置。
JP8175841A 1996-06-13 1996-06-13 マスク搬送装置及び露光装置 Pending JPH104058A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100770147B1 (ko) 2006-01-04 2007-10-30 코리아테크노(주) 마스크 인출장치
JP2015072995A (ja) * 2013-10-02 2015-04-16 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、リソグラフィシステム、および物品の製造方法
JP2016145996A (ja) * 2009-05-15 2016-08-12 株式会社ニコン 移動体装置、用力伝達装置、及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100770147B1 (ko) 2006-01-04 2007-10-30 코리아테크노(주) 마스크 인출장치
JP2016145996A (ja) * 2009-05-15 2016-08-12 株式会社ニコン 移動体装置、用力伝達装置、及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2015072995A (ja) * 2013-10-02 2015-04-16 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、リソグラフィシステム、および物品の製造方法

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