JP2015069684A - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】側面部と面取り部の表面粗さの差を低減できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法等を提供する。【解決手段】ガラス基板の端面とブラシとの間に、研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給し、前記ガラス基板の端面と前記ブラシとを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の端面を加工する研磨加工工程を含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記ブラシ２０は、回転軸２１と、該回転軸の周囲に螺旋状に配置されたブラシ毛２２とを有し、前記螺旋の傾斜角θが０度以上４５度未満であるブラシ２０を用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ａ）と、前記螺旋の傾斜角θが４５度以上９０度以下であるブラシ２０を用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ｂ）と、を有することを特徴とする。【選択図】図１
Description
本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法等に関する。
近年の情報化技術の高度化に伴って、情報記録技術、特に、磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体の一つであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等に用いられる磁気ディスクにおいては、急速な小型化、薄板化、記録密度の増加及びアクセス速度の高速化が続けられている。ＨＤＤでは、円盤状の基板の上に磁性層を備えた磁気ディスクを高速回転し、この磁気ディスク上に磁気ヘッドを浮上飛行させながら記録及び再生を行う。
アクセス速度の高速化に伴い、磁気ディスクの回転速度も速くなるため、磁気ディスクには、より高い基板強度が求められる。また、記録密度の増加に伴い、磁気ヘッドも薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）や、大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移しており、さらに、ＤＦＨ（Dynamic Flying Height）制御機構の導入により、磁気ヘッドの磁気ディスクからの浮上量（磁気ヘッドと磁気ディスクの間隙のうち最も狭い距離）が２ｎｍ程度にまで狭くなってきている。このため、磁気ディスク面上に凹凸形状があると、磁気ヘッドが衝突するクラッシュ障害や、空気の断熱圧縮、または、接触により加熱して読み出しエラーを生じるサーマルアスペリティ障害を生じる場合がある。このような磁気ヘッドに生じる障害を抑制するには、磁気ディスクの主表面を極めて平滑な面として仕上げておくことが重要となる。
また、磁気ディスクの高記録密度化のためには、ガラス基板の加工精度にも高度なものが要求されており、それはガラス基板の主表面のみならず、端面形状においても同様である。
ガラス基板の端面の研磨は、面取り加工等の際に端面に生じたキズやクラックを除去し、凹凸を平滑化して鏡面に仕上げるために行われる。ガラス基板の端面を平滑な鏡面に仕上げることにより、ガラス基板の機械的強度を向上させる、端面の凹凸に捕捉される異物を低減する、端面の凹凸がカセットや治具等の樹脂部材等を削って発生させるパーティクルを低減する、内径の寸法精度や真円度等を高めて磁気記録媒体が回転用スピンドルに規定の精度で固定されるようにする、などの多くの効果がある。
これらのことは、特に、次世代のビットパターンドメディア、ディスクリートトラックメディアにおいても同様である。
ガラス基板の端面の研磨は、面取り加工等の際に端面に生じたキズやクラックを除去し、凹凸を平滑化して鏡面に仕上げるために行われる。ガラス基板の端面を平滑な鏡面に仕上げることにより、ガラス基板の機械的強度を向上させる、端面の凹凸に捕捉される異物を低減する、端面の凹凸がカセットや治具等の樹脂部材等を削って発生させるパーティクルを低減する、内径の寸法精度や真円度等を高めて磁気記録媒体が回転用スピンドルに規定の精度で固定されるようにする、などの多くの効果がある。
これらのことは、特に、次世代のビットパターンドメディア、ディスクリートトラックメディアにおいても同様である。
端面研磨工程は、中心部に円孔を有する円板状のガラス基板の内周端面及び／又は外周端面に回転するブラシを接触させることにより、それまでの加工作業で端面に生じた加工傷を除去し、さらに端面を平滑化するものである（特許文献１）。
ところで、ガラス基板の端面形状のより一層の高精度化を図るためには、端面を構成する側面部と面取り部の表面粗さの差を低減することが必要である。
ここで、特許文献２には、端面の高品質化を図る目的で、側面部と接触するブラシ毛を短くし、面取り部と接触するブラシ毛を長くしたブラシを用いて研磨を行う技術が記載さられているが、係る技術は、側面部と面取り部の表面粗さの差を低減するには十分ではない。
また、特許文献３には、端面を均一に研磨する目的で、ブラシの先端部分を斜めに切り落とした形状（切り口は楕円形となる）にしたブラシを用いて研磨を行う技術が記載されているが、係る技術は、側面部と面取り部の表面粗さの差を低減するには十分ではない。
［先行技術文献］
［特許文献］
ここで、特許文献２には、端面の高品質化を図る目的で、側面部と接触するブラシ毛を短くし、面取り部と接触するブラシ毛を長くしたブラシを用いて研磨を行う技術が記載さられているが、係る技術は、側面部と面取り部の表面粗さの差を低減するには十分ではない。
また、特許文献３には、端面を均一に研磨する目的で、ブラシの先端部分を斜めに切り落とした形状（切り口は楕円形となる）にしたブラシを用いて研磨を行う技術が記載されているが、係る技術は、側面部と面取り部の表面粗さの差を低減するには十分ではない。
［先行技術文献］
［特許文献］
［特許文献１］特開２００６−１４２０５１号公報
［特許文献２］特開２０１２−１４２０５１号公報
［特許文献１］特開２００７−１５００９２号公報
［特許文献２］特開２０１２−１４２０５１号公報
［特許文献１］特開２００７−１５００９２号公報
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであって、側面部と面取り部の表面粗さの差を低減できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者は、ガラス基板の端面とブラシ毛先端との相対移動の方向に着目して鋭意検討を行った。その結果、回転軸の周囲に螺旋状に配置（配設）されたブラシ毛を有するブラシを用いガラス基板の端面を研磨する際に、前記螺旋の傾斜角が０度以上４５度であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ａ）と、前記螺旋の傾斜角が４５度以上９０度以下であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ｂ）と、を施すことによって、側面部と面取り部の表面粗さの差を、相対的に小さくできることを見い出した。
本発明は、以上の解明事実を基に更に鋭意検討の結果完成したものであり、以下の構成を有する。
（構成１）
ガラス基板の端面とブラシとの間に、研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給し、前記ガラス基板の端面と前記ブラシとを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の端面を加工する研磨加工工程を含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記ブラシは、回転軸と、該回転軸の周囲に螺旋状に配置されたブラシ毛とを有し、
前記螺旋の傾斜角が０度以上４５度未満であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ａ）と、
前記螺旋の傾斜角が４５度以上９０度以下であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ｂ）と、を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成２）
前記処理Ａと、前記処理Ｂは、
いずれか一方の処理を実施した後、他方の処理を実施することを特徴とする構成１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成３）
前記処理Ａと、前記処理Ｂは、
同時に実施することを特徴とする構成１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成４）
前記処理Ａと、前記処理Ｂは、
ガラス基板の端面に対し、前記螺旋の傾斜の向きが互いに逆向きになるように研磨を行う処理であることを特徴とする構成１から３のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成５）
前記端面は、面取り部と側面部とを含み、
前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、前記面取り部を主体とした研磨加工処理、前記側面部を主体とした研磨加工処理、前記面取り部及び前記側面部の双方を主体とした研磨加工処理、のうちのいずれかであることを特徴とする構成１から４のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成６）
前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、前記ガラス基板の内周端面を研磨する処理、前記ガラス基板の外周端面を研磨する処理、前記ガラス基板の内周端面及び外周端面を研磨する処理、のうちのいずれかであることを特徴とする構成１から５のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成７）
前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、ガラス基板の複数枚を直接またはスペーサを介して複数枚積層してなるガラス基板積層体の端面を研磨する処理であることを特徴とする構成１から６いずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成８）
構成１〜６のいずれか１項に記載の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板の主表面上に、磁性層を形成することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。
（構成１）
ガラス基板の端面とブラシとの間に、研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給し、前記ガラス基板の端面と前記ブラシとを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の端面を加工する研磨加工工程を含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記ブラシは、回転軸と、該回転軸の周囲に螺旋状に配置されたブラシ毛とを有し、
前記螺旋の傾斜角が０度以上４５度未満であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ａ）と、
前記螺旋の傾斜角が４５度以上９０度以下であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ｂ）と、を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成２）
前記処理Ａと、前記処理Ｂは、
いずれか一方の処理を実施した後、他方の処理を実施することを特徴とする構成１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成３）
前記処理Ａと、前記処理Ｂは、
同時に実施することを特徴とする構成１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成４）
前記処理Ａと、前記処理Ｂは、
ガラス基板の端面に対し、前記螺旋の傾斜の向きが互いに逆向きになるように研磨を行う処理であることを特徴とする構成１から３のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成５）
前記端面は、面取り部と側面部とを含み、
前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、前記面取り部を主体とした研磨加工処理、前記側面部を主体とした研磨加工処理、前記面取り部及び前記側面部の双方を主体とした研磨加工処理、のうちのいずれかであることを特徴とする構成１から４のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成６）
前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、前記ガラス基板の内周端面を研磨する処理、前記ガラス基板の外周端面を研磨する処理、前記ガラス基板の内周端面及び外周端面を研磨する処理、のうちのいずれかであることを特徴とする構成１から５のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成７）
前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、ガラス基板の複数枚を直接またはスペーサを介して複数枚積層してなるガラス基板積層体の端面を研磨する処理であることを特徴とする構成１から６いずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
（構成８）
構成１〜６のいずれか１項に記載の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板の主表面上に、磁性層を形成することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。
本発明によれば、側面部と面取り部の表面粗さの差を低減できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供できる。
以下、本発明を実施するための実施の形態について説明する。
［端面研磨］
本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の端面とブラシとの間に、研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給し、前記ガラス基板の端面と前記ブラシとを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の端面を加工する研磨加工工程を含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記ブラシは、回転軸と、該回転軸の周囲に螺旋状に配置されたブラシ毛とを有し、
前記螺旋の傾斜角が０度以上４５度未満であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（以下処理Ａという）と、
前記螺旋の傾斜角が４５度以上であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（以下処理Ｂという）と、を有することを特徴とする（構成１）。
これにより、上記構成でない場合（例えば、研磨処理が１つである場合、前記螺旋の傾斜角の条件が異なる場合など）に対し、側面部と面取り部の表面粗さの差を、相対的に小さくできる。
［端面研磨］
本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の端面とブラシとの間に、研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給し、前記ガラス基板の端面と前記ブラシとを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の端面を加工する研磨加工工程を含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記ブラシは、回転軸と、該回転軸の周囲に螺旋状に配置されたブラシ毛とを有し、
前記螺旋の傾斜角が０度以上４５度未満であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（以下処理Ａという）と、
前記螺旋の傾斜角が４５度以上であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（以下処理Ｂという）と、を有することを特徴とする（構成１）。
これにより、上記構成でない場合（例えば、研磨処理が１つである場合、前記螺旋の傾斜角の条件が異なる場合など）に対し、側面部と面取り部の表面粗さの差を、相対的に小さくできる。
本発明において、 螺旋（らせん）の傾斜角とは、螺旋の上がり（登り）勾配の角度（螺旋角度）のことであり、ブラシの回転軸と垂直な平面に対する螺旋の傾斜角θをいう（図１）。
螺旋の向きは、右肩上がり（反時計回りに上方に向かって螺旋を描く場合：図１（１））と、左肩上がり（時計回りに上方に向かって螺旋を描く場合：図１（２））と、がある。
本発明において、 螺旋の傾斜角は、螺旋の向きが異なる場合（即ち、右肩上がりの場合と左肩上がりの場合の双方）を含む。
本発明において、 螺旋の傾斜角は、螺旋の向きと、傾斜角で表される。このとき、螺旋の傾斜角は、直角より小さい角即ち鋭角及び直角を含み、直角より大きい角即ち鈍角を含まない。
螺旋の向きは、右肩上がり（反時計回りに上方に向かって螺旋を描く場合：図１（１））と、左肩上がり（時計回りに上方に向かって螺旋を描く場合：図１（２））と、がある。
本発明において、 螺旋の傾斜角は、螺旋の向きが異なる場合（即ち、右肩上がりの場合と左肩上がりの場合の双方）を含む。
本発明において、 螺旋の傾斜角は、螺旋の向きと、傾斜角で表される。このとき、螺旋の傾斜角は、直角より小さい角即ち鋭角及び直角を含み、直角より大きい角即ち鈍角を含まない。
本発明において、前記螺旋の傾斜角が０度以上４５度未満であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する場合（処理Ａの場合）は、面取り部（面取り面）をよく研磨できる。このブラシは、毛材の整列方向がブラシの回転方向となっているため、ブラシ軸方向に対しては隙間とブラシが交互に整列している。そのためガラス積層体１０にブラシを押し付け回転させると、ブラシ毛はブラシ軸方向へ分散し、かつ、ブラシの回転方向の下流側に倒れにくい。これにより、面取り部はブラシ毛の圧力が高くなり、ガラス積層体１０において互いに対向する面取り部３の間に形成される端面凹部４は効率よく研磨される（図２参照）。
これに対し、側面部は、ブラシ毛が分散することにより圧力が低下するため、処理Ａの場合は、面取り部が主体の研磨となり、面取り部の研磨に適している。
本発明において、前記螺旋の傾斜角が４５度以上９０度以下であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する場合（処理Ｂの場合）は、側面部（側面、側壁面）をよく研磨できる。このブラシは、ブラシ回転方向に対し垂直に近い方向にブラシ毛が整列しているため、ブラシ積層体１０にブラシを押し付け回転させると、ブラシ毛はブラシの回転方向に対し垂直方向に分散することなくブラシの回転方向の下流側に倒れた状態となる。そのため、ブラシ毛の圧力はガラス積層体１０の側面部に集中することとなり、密集したブラシ毛は、ガラス積層体１０の端面凹部４にブラシ毛が奥まで入りにくいため、側面部２が主体の研磨となる（図２参照）。このため、処理Ｂの場合は、側面部の研磨に適している。
これに対し、側面部は、ブラシ毛が分散することにより圧力が低下するため、処理Ａの場合は、面取り部が主体の研磨となり、面取り部の研磨に適している。
本発明において、前記螺旋の傾斜角が４５度以上９０度以下であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する場合（処理Ｂの場合）は、側面部（側面、側壁面）をよく研磨できる。このブラシは、ブラシ回転方向に対し垂直に近い方向にブラシ毛が整列しているため、ブラシ積層体１０にブラシを押し付け回転させると、ブラシ毛はブラシの回転方向に対し垂直方向に分散することなくブラシの回転方向の下流側に倒れた状態となる。そのため、ブラシ毛の圧力はガラス積層体１０の側面部に集中することとなり、密集したブラシ毛は、ガラス積層体１０の端面凹部４にブラシ毛が奥まで入りにくいため、側面部２が主体の研磨となる（図２参照）。このため、処理Ｂの場合は、側面部の研磨に適している。
本発明において、前記端面は、面取り部（面取り面）３と側面部（側面、側壁面）２とを含む（図２参照）。
また、本発明において、前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、上述したように、前記面取り部を主体とした研磨加工処理、前記側面部を主体とした研磨加工処理、前記面取り部及び前記側面部の双方を主体とした研磨加工処理、のうちのいずれかである態様が含まれる（構成５）。
また、本発明において、前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、上述したように、前記面取り部を主体とした研磨加工処理、前記側面部を主体とした研磨加工処理、前記面取り部及び前記側面部の双方を主体とした研磨加工処理、のうちのいずれかである態様が含まれる（構成５）。
本発明においては、前記処理Ａと、前記処理Ｂは、いずれか一方の処理を実施した後、他方の処理を実施する態様が含まれる（構成２）。
前記処理Ａと前記処理Ｂの実施の順序を変えたいずれの場合においても、側面部と面取り部の表面粗さの差を低減できる。
前記処理Ａと前記処理Ｂの実施の順序を変えたいずれの場合においても、側面部と面取り部の表面粗さの差を低減できる。
本発明においては、前記処理Ａと、前記処理Ｂは、同時に実施する態様が含まれる（構成３）。なお、この構成においては処理Aと処理B各々の螺旋の傾斜の向きによるガラス基板１において互いに対抗する面取り部３への圧力差を解消するためブラシとガラス積層体１０を時計回りと反時計回りで研磨しなければならない。
この場合は、前記処理Ａの作用と、前記処理Ｂの作用が、合成され、両者の中間的な作用効果が得られる。
この場合は、前記処理Ａの作用と、前記処理Ｂの作用が、合成され、両者の中間的な作用効果が得られる。
本発明においては、前記処理Ａと、前記処理Ｂは、ガラス基板の端面に対し、前記螺旋の傾斜の向きが互いに逆向きになるように研磨を行う処理である態様が含まれる（構成４）。
これにより、螺旋の傾斜の向きによるガラス基板１において互いに対向する面取り部３へのブラシ毛の圧力差が解消される。そのためガラス基板１において互いに対向する面取り部３の取り代差が解消される。
これにより、螺旋の傾斜の向きによるガラス基板１において互いに対向する面取り部３へのブラシ毛の圧力差が解消される。そのためガラス基板１において互いに対向する面取り部３の取り代差が解消される。
なお、処理Ａまたは処理Ｂにおいて、研磨するブラシの数に関係なく螺旋の傾斜方向が「同一」である場合は、ブラシとガラス積層体１０を時計回りと反時計回りで研磨しなければならない。また、同時にブラシの螺旋の傾斜の向きが互いに逆向きになるように「同時」に研磨を行う処理である場合はどちらか片方の回転方向のみで研磨することができる。
前述したように、本発明においては、前記処理Ａと、前記処理Ｂは、同時に実施する態様が含まれる。
同時処理は、例えば、ブラシを２本準備し、ガラス基板積層体又ガラス基板に対し、２箇所で、２本のブラシを同時に接触させて行うことができる。この場合、ブラシの螺旋の傾斜方向の関係から、ブラシとガラス積層体１０を時計回りと反時計回りで研磨しなければならないことは言うまでもない。
同時処理は、例えば、ブラシを２本準備し、ガラス基板積層体又ガラス基板に対し、２箇所で、２本のブラシを同時に接触させて行うことができる。この場合、ブラシの螺旋の傾斜方向の関係から、ブラシとガラス積層体１０を時計回りと反時計回りで研磨しなければならないことは言うまでもない。
本発明においては、次の態様が含まれる。
前記処理Ａ及び処理Bにおいて、螺旋の傾斜角が同じで、螺旋の向きだけ変えた２本のブラシを準備し、ガラス基板積層体又ガラス基板に対し、２箇所で、２本のブラシを同時に接触させて行う。前記処理Ｂにおいて、螺旋の傾斜角が同じで、螺旋の向きだけ変えた２本のブラシを準備し、ガラス基板積層体又ガラス基板に対し、２箇所で、２本のブラシを同時に接触させて行う。
上記態様によると、螺旋の傾斜方向によるガラス基板1において互いに対向する面取り部３の取り代差がなくなるため、必ずしもブラシとガラス積層体１０を時計回りと反時計回りで研磨する必要はない。
前記処理Ａ及び処理Bにおいて、螺旋の傾斜角が同じで、螺旋の向きだけ変えた２本のブラシを準備し、ガラス基板積層体又ガラス基板に対し、２箇所で、２本のブラシを同時に接触させて行う。前記処理Ｂにおいて、螺旋の傾斜角が同じで、螺旋の向きだけ変えた２本のブラシを準備し、ガラス基板積層体又ガラス基板に対し、２箇所で、２本のブラシを同時に接触させて行う。
上記態様によると、螺旋の傾斜方向によるガラス基板1において互いに対向する面取り部３の取り代差がなくなるため、必ずしもブラシとガラス積層体１０を時計回りと反時計回りで研磨する必要はない。
本発明において、前記螺旋の傾斜角が０度以上４５度未満であるブラシを用いる場合にあっては、ブラシを押し付け回転させると、ブラシ毛はブラシ軸方向へ分散し、かつ、ブラシの回転方向の下流側に倒れにくい観点から、前記螺旋の傾斜角は、２ ° 〜４４ °であることが好ましく、２°〜２０°であることが更に好ましい。
本発明において、前記螺旋の傾斜角が４５度以上９０度以下であるブラシを用いる場合にあっては、ブラシ毛はブラシの回転方向に対し垂直方向に分散することなくブラシの回転方向の下流側に倒れた状態となる観点から、前記螺旋の傾斜角は、４５°〜９０°であることが好ましく、７０°〜８０°であることが更に好ましい。
本発明において、前記螺旋の傾斜角が４５度以上９０度以下であるブラシを用いる場合にあっては、ブラシ毛はブラシの回転方向に対し垂直方向に分散することなくブラシの回転方向の下流側に倒れた状態となる観点から、前記螺旋の傾斜角は、４５°〜９０°であることが好ましく、７０°〜８０°であることが更に好ましい。
本発明において、前記ブラシ毛の材質は、例えば、ナイロン繊維の代わりに塩化ビニル繊維、豚毛、ピアノ線、ステンレス製繊維などが挙げられる。
ブラシ毛の形状としては、直毛、カール、曲線、蛇行形（波形）にカールさせたもの、などが挙げられる。
ブラシ毛の太さ、長さは、例えば、直径０．０５〜０．３ｍｍ、長さ１〜３０ｍｍなど挙げられる。
なお、本発明においては、前記螺旋は多条である態様が含まれる。
ブラシ毛の形状としては、直毛、カール、曲線、蛇行形（波形）にカールさせたもの、などが挙げられる。
ブラシ毛の太さ、長さは、例えば、直径０．０５〜０．３ｍｍ、長さ１〜３０ｍｍなど挙げられる。
なお、本発明においては、前記螺旋は多条である態様が含まれる。
本発明において、１つのブラシにおいて、材質の異なるブラシ毛、太さの異なるブラシ毛、長さの異なるブラシ毛、形態（直毛、蛇行など）の異なるブラシ毛、剛性の異なるブラシ毛、などを、それぞれ配設でき、これを使用できる。
本発明において、前記ブラシ毛の先端部分の形状は、特に制限されない。例えば、根本から先端まで同じ太さである場合、根本から先端に向かって徐々に細く又は太くなる場合、前記ブラシ毛の先端部分が丸味を帯びている場合（角を無くした場合）、前記ブラシ毛の先端部分だけが先端に向かって細くなる形状の場合、先端部分に頭部が形成されている態様（先端に略球状部が頭部形成されている態様）の場合、先端部分を斜めに切り落とした態様（例えば、円柱を斜めに切ると切り口は楕円となるので、先端部分の切り口が楕円形である態様ということができる）の場合、これらをダミー研磨などで加工（ドレッシング）した形態の場合、が含まれ、これを使用できる。
本発明において、前記ブラシ毛の先端部分の形状は、特に制限されない。例えば、根本から先端まで同じ太さである場合、根本から先端に向かって徐々に細く又は太くなる場合、前記ブラシ毛の先端部分が丸味を帯びている場合（角を無くした場合）、前記ブラシ毛の先端部分だけが先端に向かって細くなる形状の場合、先端部分に頭部が形成されている態様（先端に略球状部が頭部形成されている態様）の場合、先端部分を斜めに切り落とした態様（例えば、円柱を斜めに切ると切り口は楕円となるので、先端部分の切り口が楕円形である態様ということができる）の場合、これらをダミー研磨などで加工（ドレッシング）した形態の場合、が含まれ、これを使用できる。
本発明において、基板とブラシの回転方向は、同じ方向とすることができ、逆の方向とすることもできる。
本発明において、上述した内外周端面研磨に使用する研磨砥粒を含む研磨スラリー（研磨液）の主成分である研磨砥粒（研磨剤）としては、酸化セリウムが使用されているが、他にも酸化鉄、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化マンガン、コロイダルシリカ等の研磨剤を用いることもできる。好ましくは、ガラス基板に近い硬さのものが望ましく、ガラス基板の場合、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、コロイダルシリカが望ましい。研磨剤が硬すぎるとガラス基板の内外周端面部分にキズを与えることになってしまい好ましくない。また、研磨剤が軟らかすぎるとガラス基板の内外周端面部分を鏡面にすることができなくなるので好ましくない。
研磨剤の平均粒径としては、１〜５μｍが好ましい。１μｍ未満の場合、研磨剤がガラス基板を研削する力が弱く、研磨ブラシの先端が直接ガラス基板の内外周端面部分に接触した状態で研磨されることが多くなるので、ガラス基板の面取り形状を制御することが難しく、５μｍを超える場合、研磨剤の粒径が大きいので表面粗さが大きくなるので好ましくない。
研磨剤の平均粒径としては、１〜５μｍが好ましい。１μｍ未満の場合、研磨剤がガラス基板を研削する力が弱く、研磨ブラシの先端が直接ガラス基板の内外周端面部分に接触した状態で研磨されることが多くなるので、ガラス基板の面取り形状を制御することが難しく、５μｍを超える場合、研磨剤の粒径が大きいので表面粗さが大きくなるので好ましくない。
内周端面の研磨及び外周端面の研磨においては、それぞれにおいて、図２に示すように、スペーサ５をガラス基板１の間に介在させて研磨を行いことができる。
図２に示すように、スペーサの端部（側面） は、ガラス基板１の面取部３の終端（角部）から０〜８ｍｍ程度内側（好ましくは０．５〜５ｍｍ程度内側）になるように、ガラス基板の大きさにしたがって調整される。
また、スペーサの厚さは、使用するブラシ毛の線径によって適宜調整される。その厚さは、０．１〜０．３ｍｍ程度が好ましい。
また、スペーサの材質としては、ポリウレタン、アクリル、プラスチック、研磨工程で使用する研磨パッドと同じ材料などＭ Ｄ 基板より軟質な合成樹脂材料からなることが好ましい。
図２に示すように、スペーサの端部（側面） は、ガラス基板１の面取部３の終端（角部）から０〜８ｍｍ程度内側（好ましくは０．５〜５ｍｍ程度内側）になるように、ガラス基板の大きさにしたがって調整される。
また、スペーサの厚さは、使用するブラシ毛の線径によって適宜調整される。その厚さは、０．１〜０．３ｍｍ程度が好ましい。
また、スペーサの材質としては、ポリウレタン、アクリル、プラスチック、研磨工程で使用する研磨パッドと同じ材料などＭ Ｄ 基板より軟質な合成樹脂材料からなることが好ましい。
内周端面の研磨及び外周端面の研磨においては、それぞれにおいて、研磨液をガラス基板又はガラス基板積層体に吹き掛ける方式、又は、研磨液にガラス基板又はガラス基板積層体を浸漬する方式、を採用することができる。
〔磁気ディスク用ガラス基板の製造工程〕
以下に、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程について詳しく説明する。なお、各工程の順序は以下の記載に限定されず、適宜入れ替えることが可能である。
以下に、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程について詳しく説明する。なお、各工程の順序は以下の記載に限定されず、適宜入れ替えることが可能である。
（１）素材加工工程
素材加工工程では、板状のガラスを用いることができる。ガラスとしては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラスなどを用いることができる。特に、主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用ガラス基板を提供することができるという点では、アルミノシリケートガラスを用いることが好ましい。板状ガラスは、これらのガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらの方法うち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
素材加工工程では、板状のガラスを用いることができる。ガラスとしては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラスなどを用いることができる。特に、主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用ガラス基板を提供することができるという点では、アルミノシリケートガラスを用いることが好ましい。板状ガラスは、これらのガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらの方法うち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
（２）第１研削（ラッピング）工程
第１ラッピング工程では、ディスク状のガラス基板の主表面をラッピング加工し、ガラス基板の形状を整える。第１のラッピング工程は、遊星歯車機構を利用した両面研削装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行うことができる。具体的には、ディスク状のガラス基板の両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液をガラス基板の主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行う。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス基板を得ることができる。
第１ラッピング工程では、ディスク状のガラス基板の主表面をラッピング加工し、ガラス基板の形状を整える。第１のラッピング工程は、遊星歯車機構を利用した両面研削装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行うことができる。具体的には、ディスク状のガラス基板の両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液をガラス基板の主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行う。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス基板を得ることができる。
（３）形状加工工程（穴部を形成するコアリング工程、端部（外周端部及び内周端部）に面取り面を形成するチャンファリング工程（面取り面形成工程））
コアリング工程では、例えば、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ディスク状のガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とすることができる。チャンファリング工程においては、内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、ガラス基板に所定の面取り加工を施す。
コアリング工程では、例えば、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ディスク状のガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とすることができる。チャンファリング工程においては、内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、ガラス基板に所定の面取り加工を施す。
（４）第２ラッピング工程
第２ラッピング工程では、得られたガラス基板の両主表面について、第２ラッピング加工を行う。第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である形状加工工程においてガラス基板の主表面に形成された微細な凹凸形状を除去することができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることが可能となる。
第２ラッピング工程では、得られたガラス基板の両主表面について、第２ラッピング加工を行う。第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である形状加工工程においてガラス基板の主表面に形成された微細な凹凸形状を除去することができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることが可能となる。
第２ラッピング工程は、遊星歯車機構を利用した両面研削装置により、ダイヤモンドシートからなる固定砥粒研磨パッドを用いて研削することができる。ダイヤモンドシートは、ダイヤモンド粒子を研削砥粒として備えていればよく、例えば、ＰＥＴからなる基材にダイヤモンド粒子を付着させたダイヤモンドシートを用いることができる。
（５）端面研磨工程
端面研磨工程では、ガラス基板の外周端面及び内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行う。このとき、研磨砥粒としては、例えば、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いることができる。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、鏡面状態になる。
端面研磨工程では、ガラス基板の外周端面及び内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行う。このとき、研磨砥粒としては、例えば、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いることができる。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、鏡面状態になる。
本発明では、前述の通り、端面研磨工程において、回転軸２１の周囲に螺旋状に配置（配設）されたブラシ毛２２を有するブラシ２０を用い、ブラシ（毛）をガラス基板積層体１０又はガラス基板１の端面に接触（当接）させて研磨を行う（図２及び図３参照）。その際に、螺旋の傾斜角が０度以上４５度未満であるブラシを用いてガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ａ）と、螺旋の傾斜角が４５度以上９０度以下であるブラシを用いてガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ｂ）と、を施す。
これにより、側面部と面取り部の表面粗さの差を低減できる。
これにより、側面部と面取り部の表面粗さの差を低減できる。
（６）主表面研磨工程（第１研磨工程）
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施す。第１研磨工程は、前述のラッピング工程で両主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする工程である。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の研磨を行う。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いることができる。また、第１研磨工程を終えたガラス基板は、中性洗剤、純水、ＩＰＡ等で洗浄することが好ましい。
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施す。第１研磨工程は、前述のラッピング工程で両主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする工程である。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の研磨を行う。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いることができる。また、第１研磨工程を終えたガラス基板は、中性洗剤、純水、ＩＰＡ等で洗浄することが好ましい。
なお、両面研磨装置としては、上下側定盤の主表面部に、一対の研磨布（硬質樹脂ポリッシャの研磨パッド）を貼付して使用することができる。この両面研磨装置においては、上下側定盤に貼付された研磨布間にガラス基板を設置し、上下側定盤の一方又は双方を移動させて、ガラス基板の両主表面を研磨することができる。
（７）化学強化工程
化学強化工程においては、ガラス基板を化学強化液に浸漬して化学強化処理を施す。化学強化処理に用いる化学強化液としては、例えば、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合溶液などを用いることができる。化学強化処理においては、化学強化液を３００°Ｃ乃至４００°Ｃに加熱し、ガラス基板を２００°Ｃ乃至３００°Ｃに予熱し、化学強化溶液中に３時間乃至４時間浸漬することによって行う。この浸漬の際には、ガラス基板の両表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。
化学強化工程においては、ガラス基板を化学強化液に浸漬して化学強化処理を施す。化学強化処理に用いる化学強化液としては、例えば、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合溶液などを用いることができる。化学強化処理においては、化学強化液を３００°Ｃ乃至４００°Ｃに加熱し、ガラス基板を２００°Ｃ乃至３００°Ｃに予熱し、化学強化溶液中に３時間乃至４時間浸漬することによって行う。この浸漬の際には、ガラス基板の両表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中の相対的にイオン半径の大きなナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。なお、化学強化処理されたガラス基板は、硫酸で洗浄した後に、純水、ＩＰＡ等で洗浄すればよい。
（８）主表面研磨工程（最終研磨工程）
最終研磨工程として、第２研磨工程を施す。第２研磨工程は、両主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする工程である。第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の鏡面研磨を行う。研磨砥粒としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な粒径１０ｎｍ乃至４０ｎｍのコロイダルシリカなどを有するスラリーを用いることがきる。この最終研磨工程は、遊星歯車機構を利用した両面研磨装置を用いて上記第１研磨工程と同様に行うことができる。
最終研磨工程として、第２研磨工程を施す。第２研磨工程は、両主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする工程である。第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の鏡面研磨を行う。研磨砥粒としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な粒径１０ｎｍ乃至４０ｎｍのコロイダルシリカなどを有するスラリーを用いることがきる。この最終研磨工程は、遊星歯車機構を利用した両面研磨装置を用いて上記第１研磨工程と同様に行うことができる。
（９）超音波洗浄工程
最終研磨工程後にガラス基板に超音波を用いた洗浄工程を施す。超音波洗浄工程は、最終研磨工程後にガラス基板の表面に付着したパーティクルを除去することを目的とする工程である。
最終研磨工程後にガラス基板に超音波を用いた洗浄工程を施す。超音波洗浄工程は、最終研磨工程後にガラス基板の表面に付着したパーティクルを除去することを目的とする工程である。
〔磁気ディスク製造工程（記録層等形成工程）〕
上述した工程を経て得られたガラス基板の主表面に、例えば、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層、及び潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造することができる。付着層を構成する材料としては、Ｃｒ合金などを挙げることができる。軟磁性層を構成する材料としては、ＣｏＴａＺｒ合金などを挙げることができる。非磁性下地層としては、グラニュラー非磁性層などを挙げることができる。垂直磁気記録層としては、グラニュラー磁性層などを挙げることができる。保護層を構成する材料としては、水素化カーボンなどを挙げることができる。潤滑層を構成する材料としては、フッ素樹脂などを挙げることができる。
例えば、これらの記録層等は、より具体的には、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の上に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２・ＴｉＯ２のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜し、さらに、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜することができる。
なお、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層の替わりにＲｕの下地層を用いてもよい。また、軟磁性層と下地層の間にＮｉＷのシード層を追加してもよい。また、グラニュラー磁性層と保護層の間にＣｏＣｒＰｔＢの磁性層を追加してもよい。
上述した工程を経て得られたガラス基板の主表面に、例えば、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層、及び潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造することができる。付着層を構成する材料としては、Ｃｒ合金などを挙げることができる。軟磁性層を構成する材料としては、ＣｏＴａＺｒ合金などを挙げることができる。非磁性下地層としては、グラニュラー非磁性層などを挙げることができる。垂直磁気記録層としては、グラニュラー磁性層などを挙げることができる。保護層を構成する材料としては、水素化カーボンなどを挙げることができる。潤滑層を構成する材料としては、フッ素樹脂などを挙げることができる。
例えば、これらの記録層等は、より具体的には、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の上に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２・ＴｉＯ２のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜し、さらに、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜することができる。
なお、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層の替わりにＲｕの下地層を用いてもよい。また、軟磁性層と下地層の間にＮｉＷのシード層を追加してもよい。また、グラニュラー磁性層と保護層の間にＣｏＣｒＰｔＢの磁性層を追加してもよい。
次に、本発明の実施例について説明する。
（１）ラッピング工程
ガラス基板としては、ＳｉＯ２：５８重量％乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５重量％乃至２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３重量％乃至１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４重量％乃至１３重量％を主成分として含有するアルミノシリケートガラスを使用した。なお、Ｌｉ２Ｏは０重量％より大きく７重量％以下であってもよい。
ガラス基板としては、ＳｉＯ２：５８重量％乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５重量％乃至２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３重量％乃至１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４重量％乃至１３重量％を主成分として含有するアルミノシリケートガラスを使用した。なお、Ｌｉ２Ｏは０重量％より大きく７重量％以下であってもよい。
このガラス基板は、ダイレクトプレス法で成形し、円形状のガラス基板とした。これをＬＡＰ定盤上で板厚を１．１５ｍｍから０．７６ｍｍへと加工した。
（２）形状加工工程
次に、固定砥粒によるドリルを用いてガラス基板の中央部分に孔をあけ、中心部に円孔を有するドーナツ状のガラス基板とした。
次に、固定砥粒によるドリルを用いてガラス基板の中央部分に孔をあけ、中心部に円孔を有するドーナツ状のガラス基板とした。
（３）端面研削工程
第１工程により、外周端面及び内周端面に面取加工を施した。
第１工程により、外周端面及び内周端面に面取加工を施した。
（４）端面研磨工程
後述する条件で、端面研磨を行った。
後述する条件で、端面研磨を行った。
（５）主表面研磨工程（第１研磨工程）
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、粒径０．２ｎｍ乃至４．５ｎｍの酸化セリウムを含むスラリーを用いた。
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、粒径０．２ｎｍ乃至４．５ｎｍの酸化セリウムを含むスラリーを用いた。
この第１研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
（６）主表面研磨工程（最終研磨工程）
次に、主表面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細なコロイダルシリカ砥粒（平均粒子径１０ｎｍ乃至４０ｎｍ）を含むスラリーを使用した。
次に、主表面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細なコロイダルシリカ砥粒（平均粒子径１０ｎｍ乃至４０ｎｍ）を含むスラリーを使用した。
（７）超音波洗浄工程
最終研磨工程を終えたガラス基板を、の各条件にて超音波洗浄を行った。その後、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。
以上の工程を経て磁気記録媒体用ガラス基板を得た。
最終研磨工程を終えたガラス基板を、の各条件にて超音波洗浄を行った。その後、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。
以上の工程を経て磁気記録媒体用ガラス基板を得た。
上記端面研磨工程は、以下の条件で行った。
各実施例、比較例で使用するガラス基板をそれぞれ１００枚作成し、これらにスペーサを挟んで各１００枚積層したものにセリウムを研磨剤とするブラシ研磨により研磨した。
各実施例、比較例で使用するガラス基板をそれぞれ１００枚作成し、これらにスペーサを挟んで各１００枚積層したものにセリウムを研磨剤とするブラシ研磨により研磨した。
（実施例１）
螺旋の傾斜角が４５度未満（１２度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを用いて１段目の外周端面研磨を行い、その後、螺旋の傾斜角が４５度以上であるブラシ（７０度左肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いて２段目の外周端面研磨を行った。
条件は、ガラス基板積層体１０：反時計回転：回転数３ｒｐｍ、１段目及び２段目のブラシ毛：双方ストレート形状ブラシ毛、研磨スラリー：酸化セリウム、取り代５０μｍとした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．０６μｍ以下であった。
なお、本発明においてＲａ（算術平均粗さ）は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１に準拠して算出される粗さのことである。以下の実施例、比較例においても同様である。
螺旋の傾斜角が４５度未満（１２度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを用いて１段目の外周端面研磨を行い、その後、螺旋の傾斜角が４５度以上であるブラシ（７０度左肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いて２段目の外周端面研磨を行った。
条件は、ガラス基板積層体１０：反時計回転：回転数３ｒｐｍ、１段目及び２段目のブラシ毛：双方ストレート形状ブラシ毛、研磨スラリー：酸化セリウム、取り代５０μｍとした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．０６μｍ以下であった。
なお、本発明においてＲａ（算術平均粗さ）は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１に準拠して算出される粗さのことである。以下の実施例、比較例においても同様である。
（実施例２）
実施例２では、実施例１において、１段目と２段目の順番を入れ替えた。
即ち実施例２では、螺旋の傾斜角が４５度以上であるブラシ（７０度左肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを用いて１段目の外周端面研磨を行い、その後、螺旋の傾斜角が４５度未満（１２度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いて２段目の外周端面研磨を行った。
条件は、ガラス基板積層体：反時計回転：回転数３ｒｐｍとした。他の条件は実施例１と同様とした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．０４μｍ以下であった。
実施例２では、実施例１において、１段目と２段目の順番を入れ替えた。
即ち実施例２では、螺旋の傾斜角が４５度以上であるブラシ（７０度左肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを用いて１段目の外周端面研磨を行い、その後、螺旋の傾斜角が４５度未満（１２度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いて２段目の外周端面研磨を行った。
条件は、ガラス基板積層体：反時計回転：回転数３ｒｐｍとした。他の条件は実施例１と同様とした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．０４μｍ以下であった。
（比較例１）
比較例１では、実施例１において、１段目と２段目の傾斜角を同一とした。
即ち比較例１では、螺旋の傾斜角が７０度であるブラシ（左肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを用いて１段目の外周端面研磨を行い、その後、螺旋の傾斜角が７０度（右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いて２段目の外周端面研磨を行った。
条件は、ガラス基板積層体：反時計回転：回転数３ｒｐｍとした。他の条件は実施例１と同様とした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差は、Ｒａ＝０．１μｍ以下であった。
比較例１では、実施例１において、１段目と２段目の傾斜角を同一とした。
即ち比較例１では、螺旋の傾斜角が７０度であるブラシ（左肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを用いて１段目の外周端面研磨を行い、その後、螺旋の傾斜角が７０度（右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いて２段目の外周端面研磨を行った。
条件は、ガラス基板積層体：反時計回転：回転数３ｒｐｍとした。他の条件は実施例１と同様とした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差は、Ｒａ＝０．１μｍ以下であった。
（比較例２）
比較例２では、螺旋の傾斜角が１２度であるブラシ（右肩上がり、時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを２本準備し、ガラス基板積層体に対し、２箇所で、前記２本のブラシを同時に接触させて外周端面研磨を行った。
条件は、ガラス基板積層体：反時計回転：回転数３ｒｐｍとした。他の条件は実施例１と同様とした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．６μｍ以下であった。
比較例２では、螺旋の傾斜角が１２度であるブラシ（右肩上がり、時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを２本準備し、ガラス基板積層体に対し、２箇所で、前記２本のブラシを同時に接触させて外周端面研磨を行った。
条件は、ガラス基板積層体：反時計回転：回転数３ｒｐｍとした。他の条件は実施例１と同様とした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．６μｍ以下であった。
（実施例３）
実施例３では、螺旋の傾斜角が４５度未満（１２度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシと、螺旋の傾斜角が４５度以上であるブラシ（７０度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いてガラス基板積層体に対し、２箇所で同時に外周端面研磨を行った。条件は実施例１と同様としブラシとガラス基板を時計回りと反時計回りで２回行った。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．０２μｍ以下であった。
実施例３では、螺旋の傾斜角が４５度未満（１２度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシと、螺旋の傾斜角が４５度以上であるブラシ（７０度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いてガラス基板積層体に対し、２箇所で同時に外周端面研磨を行った。条件は実施例１と同様としブラシとガラス基板を時計回りと反時計回りで２回行った。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．０２μｍ以下であった。
（実施例４）
実施例４では、１段目で螺旋の傾斜角が４５度未満（１２度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを２本準備し、ガラス基板積層体に対し、２箇所で、前記２本のブラシを同時に接触させて外周端面研磨を行った。２段目は比較例１で使用した螺旋の傾斜角が７０度であるブラシ（左肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシと、螺旋の傾斜角が７０度（右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いて前記２本のブラシを同時に接触させて外周端面研磨を行った。条件は実施例１と同様とした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．０２μｍ以下であった。
実施例４では、１段目で螺旋の傾斜角が４５度未満（１２度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを２本準備し、ガラス基板積層体に対し、２箇所で、前記２本のブラシを同時に接触させて外周端面研磨を行った。２段目は比較例１で使用した螺旋の傾斜角が７０度であるブラシ（左肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシと、螺旋の傾斜角が７０度（右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いて前記２本のブラシを同時に接触させて外周端面研磨を行った。条件は実施例１と同様とした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．０２μｍ以下であった。
（実施例５）
実施例５では、１段目は比較例１で使用した螺旋の傾斜角が７０度であるブラシ（左肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシと、螺旋の傾斜角が７０度（右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いて前記２本のブラシを同時に接触させて外周端面研磨を行った。２段目で螺旋の傾斜角が４５度未満（１２度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを２本準備し、ガラス基板積層体に対し、２箇所で、前記２本のブラシを同時に接触させて外周端面研磨を行った。条件は、実施例１と同様とした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．０２μｍ以下であった。
実施例５では、１段目は比較例１で使用した螺旋の傾斜角が７０度であるブラシ（左肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシと、螺旋の傾斜角が７０度（右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）を用いて前記２本のブラシを同時に接触させて外周端面研磨を行った。２段目で螺旋の傾斜角が４５度未満（１２度右肩上がり、反時計回転：回転数１０００ｒｐｍ）であるブラシを２本準備し、ガラス基板積層体に対し、２箇所で、前記２本のブラシを同時に接触させて外周端面研磨を行った。条件は、実施例１と同様とした。
その結果、側面部と面取り部の表面粗さの差はＲａ＝０．０２μｍ以下であった。
〔ＤＦＨタッチダウン試験〕
次に、上記工程を経て作製されたガラス基板を用いて磁気ディスクを作製し、クボタコンプス社製ＨＤＦテスター(Head/Disk Flyability Tester)を用いて、ＤＦＨヘッド素子部のタッチダウン試験を行った。この試験は、ＤＦＨ機構によって素子部を徐々に突き出していき、ＡＥセンサーによって磁気ディスク表面との接触を検知することによって、ヘッド素子部が磁気ディスク表面と接触するときの距離を評価するものである。ヘッドは３２０ＧＢ／Ｐ磁気ディスク（２．５インチサイズ）向けのＤＦＨヘッドを用いた。素子部の突き出しがない時の浮上量は１０ｎｍである。また、その他の条件は以下の通り設定した。
次に、上記工程を経て作製されたガラス基板を用いて磁気ディスクを作製し、クボタコンプス社製ＨＤＦテスター(Head/Disk Flyability Tester)を用いて、ＤＦＨヘッド素子部のタッチダウン試験を行った。この試験は、ＤＦＨ機構によって素子部を徐々に突き出していき、ＡＥセンサーによって磁気ディスク表面との接触を検知することによって、ヘッド素子部が磁気ディスク表面と接触するときの距離を評価するものである。ヘッドは３２０ＧＢ／Ｐ磁気ディスク（２．５インチサイズ）向けのＤＦＨヘッドを用いた。素子部の突き出しがない時の浮上量は１０ｎｍである。また、その他の条件は以下の通り設定した。
磁気ディスク：２．５インチ（内径２０ｍｍ、外径６５ｍｍ、板厚０．８ｍｍ）のガラス基板を製造し、当該ガラス基板に記録層等を成膜
評価半径：２２ｍｍ
磁気ディスクの回転数：５４００ＲＰＭ
温度：２５℃
湿度：６０％
ＤＦＨタッチダウン試験の結果より、ガラス基板の端面品質を向上させるとともに、端面由来のパーティクル数を効果的に低減できた基板（実施例１〜５）を用いた場合に、ヘッド素子部と磁気ディスクが接触した距離を１．０ｎｍ以下と小さくすることができた。
評価半径：２２ｍｍ
磁気ディスクの回転数：５４００ＲＰＭ
温度：２５℃
湿度：６０％
ＤＦＨタッチダウン試験の結果より、ガラス基板の端面品質を向上させるとともに、端面由来のパーティクル数を効果的に低減できた基板（実施例１〜５）を用いた場合に、ヘッド素子部と磁気ディスクが接触した距離を１．０ｎｍ以下と小さくすることができた。
なお、上記実施の形態及び実施例における材料、サイズ、処理手順、検査方法、組み合わせなどは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法に適用可能である。磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法に適用可能である。また、これらの製造方法によって得られた磁気記録媒体及び磁気ディスク並びに磁気記録装置及び磁気ディスク装置に適用可能である。
１ ガラス基板
２ 側面部
３ 面取り部
４ 端面凹部
５ スペーサ
１０ ガラス基板積層体
２０ ブラシ
２１ 回転軸
２２ ブラシ毛
θ 螺旋の傾斜角
２ 側面部
３ 面取り部
４ 端面凹部
５ スペーサ
１０ ガラス基板積層体
２０ ブラシ
２１ 回転軸
２２ ブラシ毛
θ 螺旋の傾斜角
Claims (8)
- ガラス基板の端面とブラシとの間に、研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給し、前記ガラス基板の端面と前記ブラシとを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の端面を加工する研磨加工工程を含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記ブラシは、回転軸と、該回転軸の周囲に螺旋状に配置されたブラシ毛とを有し、
前記螺旋の傾斜角が０度以上４５度未満であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ａ）と、
前記螺旋の傾斜角が４５度以上９０度以下であるブラシを用いて前記ガラス基板の端面を研磨する処理（処理Ｂ）と、を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記処理Ａと、前記処理Ｂは、
いずれか一方の処理を実施した後、他方の処理を実施することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記処理Ａと、前記処理Ｂは、
同時に実施することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記処理Ａと、前記処理Ｂは、
ガラス基板の端面に対し、前記螺旋の傾斜の向きが互いに逆向きになるように研磨を行う処理であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記端面は、面取り部と側面部とを含み、
前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、前記面取り部を主体とした研磨加工処理、前記側面部を主体とした研磨加工処理、前記面取り部及び前記側面部の双方を主体とした研磨加工処理、のうちのいずれかであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、前記ガラス基板の内周端面を研磨する処理、前記ガラス基板の外周端面を研磨する処理、前記ガラス基板の内周端面及び外周端面を研磨する処理、のうちのいずれかであることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記ガラス基板の端面を研磨する処理は、ガラス基板の複数枚を直接またはスペーサを介して複数枚積層してなるガラス基板積層体の端面を研磨する処理であることを特徴とする請求項１から６いずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板の主表面上に、磁性層を形成することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013204453A JP2015069684A (ja) | 2013-09-30 | 2013-09-30 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2013204453A JP2015069684A (ja) | 2013-09-30 | 2013-09-30 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015069684A true JP2015069684A (ja) | 2015-04-13 |
Family
ID=52836193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013204453A Pending JP2015069684A (ja) | 2013-09-30 | 2013-09-30 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2015069684A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7375526B2 (ja) | 2019-12-23 | 2023-11-08 | 住友ゴム工業株式会社 | 空気入りタイヤの研磨装置 |
-
2013
- 2013-09-30 JP JP2013204453A patent/JP2015069684A/ja active Pending
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