JP6020754B1 - 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
前記外周端面が外周側面部、及び前記外周側面部と前記主表面との間に配置された外周面取り部を有し、
前記一対の主表面と垂直で、かつ前記磁気記録媒体用ガラス基板の中心軸を通る断面において、
前記主表面と平行な軸をX軸とし、前記外周端面の最外周位置のX座標を0、前記外周端面の最外周位置よりも、前記磁気記録媒体用ガラス基板の中心軸側のX座標を正とした場合に、
前記外周端面のうち、X座標が5μmの点と、X座標が10μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が81°以上85°以下、
前記外周端面のうち、X座標が10μmの点と、X座標が20μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が69°以上83°以下、
前記外周端面のうち、X座標が20μmの点と、X座標が30μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が52°以上72°以下、
前記外周端面のうち、X座標が30μmの点と、X座標が40μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が51°以上68°以下、
である磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
(磁気記録媒体用ガラス基板)
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の一構成例について説明を行う。
ここで、一対の主表面と垂直で、かつ磁気記録媒体用ガラス基板の中心軸を通る断面において、主表面と平行な軸をX軸とし、外周端面の最外周位置のX座標を0、外周端面の最外周位置よりも、磁気記録媒体用ガラス基板の中心軸側のX座標を正とする。
また、外周端面のうち、X座標が10μmの点と、X座標が20μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が69°以上83°以下とすることができる。
また、外周端面のうち、X座標が20μmの点と、X座標が30μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が52°以上72°以下とすることができる。
(工程1)ガラス素板から、中央部に円孔を有する円板形状のガラス基板に加工する形状付与工程。
(工程2)ガラス基板の内周と外周の端面部分の面取りを行う面取り工程。
(工程3)ガラス基板の端面(内周端面及び外周端面)を研磨する端面研磨工程。
(工程4)ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程。
(工程5)ガラス基板を洗浄して乾燥する洗浄・乾燥工程。
[磁気記録媒体]
次に、本実施形態の磁気記録媒体の一構成例について説明する。
以下の各実験例で作製したガラス基板の外周端面の形状について、輪郭形状測定器(東京精密社製 型式:CONTOURECORD 1600DH)により測定を行った。なお、測定の際の触針先端Rは30μm、スキャン速度は0.3mm/secとした。
(2)急激な温度変化による割れ発生率評価
各実験例で作製したガラス基板に、急激な温度変化を加えた際の割れ発生率について、以下の手順により評価を実施する。
(3)磁性層成膜後の外周チッピング発生率
後述のように、各実験例で作製したガラス基板の主表面上に磁性層等を成膜し、磁気記録媒体の作製を行っている。
(4)磁気記録媒体の評価
作製した磁気記録媒体について、ミッシングビットによる磁気ディスク評価を実施している。
[実験例1]
以下の順に各工程を実施して、磁気記録媒体用ガラス基板、および磁気記録媒体の作製を行う。
(1)磁気記録媒体用ガラス基板
(形状付与工程)
フロート法で成形された、SiO2を主成分とする表2に示したガラス組成Aを有するアルミノシリケートガラス素板を用意する。そして、該ガラス素板から、外径65mm、内径20mm、板厚0.8mmの磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように、中央部に円孔を有するドーナツ形状を有するガラス基板に加工する。
(面取り工程)
形状付与工程で得られたガラス基板の内周端面と外周端面とに、それぞれ内周面取り部、及び外周面取り部を形成する。
(主表面研磨工程:一次ラップ工程)
研磨具として鋳鉄定盤と、アルミナ砥粒を含有する研削液とを用いて、16B型両面研磨装置により、ガラス基板の上下の主表面の研削を行う。1次ラップ工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研削液その他の汚れを除去する。
(端面研磨工程:外周端面研磨工程)
外周側面部と外周面取り部とを、研磨ブラシと平均粒子直径(以下、平均粒径と略す)が約1.5μmの酸化セリウム砥粒を含有する研磨剤とを用いて研磨し、外周側面及び外周面取り部の疵を除去し、鏡面となるように外周端面を研磨加工する。
(端面研磨工程:内周端面研磨工程)
内周端面については、ガラス基板の内周側面部と内周面取り部とを、研磨ブラシと平均粒径約1.5μmの酸化セリウム砥粒を含有する研磨剤とを用いて研磨を行っている。これにより、内周側面及び内周面取り部の疵を除去し、鏡面となるように内周端面を研磨加工している。
(主表面研磨工程:二次ラップ工程)
研磨具として平均粒径4μmのダイヤモンド粒子を含有する固定砥粒工具と、界面活性剤を含有する研削液とを用いて、16B型両面研磨装置によりガラス基板の上下の主表面を研削する。
(主表面研磨工程:一次ポリッシュ工程)
主表面研磨工程(一次ポリッシュ工程)では、研磨具として、軟質ウレタン製研磨パッド(スウェード系研磨パッド)と、平均粒径が約1.0μmの酸化セリウムを主成分として含有する研削液とを用いて、16B型の両面研磨装置によりガラス基板の上下の主表面をポリッシュする。
(主表面研磨工程:二次ポリッシュ工程)
主表面研磨工程(二次ポリッシュ工程)では、研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、平均粒径が20nmのコロイダルシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて、16B型の両面研磨装置によりガラス基板の上下の主表面をポリッシュする。
(洗浄・乾燥工程)
主表面研磨工程(二次ポリッシュ工程)を行ったガラス基板は、アルカリ性洗剤によるスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い(精密洗浄)、次いで、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥を行う。
(2)磁気記録媒体
得られたガラス基板を精密洗浄して表面のパーティクルを除去し、その後インライン型スパッタリング装置により、ガラス基板の主表面上に密着層を、Crをターゲットとして、10nmの膜厚で成膜する。
[実験例2、実験例3]
(1)磁気記録媒体用ガラス基板
面取り工程において、外周端面研削用砥石の溝の形状が異なる点、及び端面研磨工程の外周端面の研磨量が異なる点以外は、実験例1と同様にしてガラス基板を作製し、評価を行う。
(2)磁気記録媒体
各実験例で作製した磁気記録媒体用ガラス基板を用いる点以外は、実験例1と同様にして磁気記録媒体を作製する。
[実験例4、5]
(1)磁気記録媒体用ガラス基板
ガラス素板以外は、実験例2と同様にしてガラス基板を作製し、評価を行う。
(2)磁気記録媒体
各実験例で作製した磁気記録媒体用ガラス基板を用いる点以外は、実験例1と同様にして磁気記録媒体を作製する。
[実験例6〜9]
(1)磁気記録媒体用ガラス基板
面取り工程において、外周端面研削用砥石の溝の形状が異なる点、及び端面研磨工程の外周端面の研磨量が異なる点以外は、実験例1と同様にしてガラス基板を作製し、評価を行う。
(2)磁気記録媒体
各実験例で作製した磁気記録媒体用ガラス基板を用いる点以外は、実験例1と同様にして磁気記録媒体を作製する。
121、122 主表面
13 外周端面
131、133 外周面取り部
132 外周側面部
14 内周端面
Claims (8)
- 一対の主表面、外周端面、及び内周端面を有するドーナツ形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、
前記外周端面が外周側面部、及び前記外周側面部と前記主表面との間に配置された外周面取り部を有し、
前記一対の主表面と垂直で、かつ前記磁気記録媒体用ガラス基板の中心軸を通る断面において、
前記主表面と平行な軸をX軸とし、前記外周端面の最外周位置のX座標を0、前記外周端面の最外周位置よりも、前記磁気記録媒体用ガラス基板の中心軸側のX座標を正とした場合に、
前記外周端面のうち、X座標が5μmの点と、X座標が10μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が81°以上85°以下、
前記外周端面のうち、X座標が10μmの点と、X座標が20μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が69°以上83°以下、
前記外周端面のうち、X座標が20μmの点と、X座標が30μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が52°以上72°以下、
前記外周端面のうち、X座標が30μmの点と、X座標が40μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が51°以上68°以下、
である磁気記録媒体用ガラス基板。 - 前記外周端面のうち、X座標が5μmの点と、X座標が10μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が81°以上84°以下、
前記外周端面のうち、X座標が10μmの点と、X座標が20μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が75°以上82°以下、
前記外周端面のうち、X座標が20μmの点と、X座標が30μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が55°以上72°以下、
前記外周端面のうち、X座標が30μmの点と、X座標が40μmの点とを結んだ直線と、前記X軸とが形成する角度が51°以上68°以下、
である請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。 - 50℃以上350℃以下の温度域における平均熱膨張係数が50×10−7/℃未満のガラス材料からなる、請求項1または2記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- エネルギーアシスト磁気記録媒体用の磁気記録媒体用ガラス基板である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- モル百分率表示で、SiO2を62%以上74%以下、Al2O3を7%以上18%以下、B2O3を2%以上15%以下含有し、MgOを0以上10%以下、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で1%以上21%以下含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量合計が8%以上21%以下、上記7成分の含有量合計が95%以上のガラス材料からなる請求項1乃至4の何れか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- モル百分率表示でSiO2を62%以上74%以下、Al2O3を7%以上18%以下、B2O3を0以上2%未満、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量合計が5%以上18%以下、上記7成分の含有量合計が95%以上のガラス材料からなる請求項1乃至4の何れか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- モル百分率表示で、SiO2を60%以上75%以下、Al2O3を7%以上17%以下、B2O3を0以上2%未満、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量合計が18%超26%以下、上記7成分の含有量合計が95%以上のガラス材料からなる請求項1乃至4の何れか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板を含む磁気記録媒体。
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