JP2015055905A - 透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】気相成長した無機膜と樹脂層との密着性を高め、かつ、露光光である紫外線の吸収機能を有する透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法を提供する。【解決手段】透明導電性積層体１０は、基板１１と、基板１１の上に位置する塗工膜である第１の樹脂層１２ａと、基板１１の下に位置する塗工膜である第２の樹脂層１２ｂと、第１の透明電極層１３ａを含む層であって、第１の樹脂層１２ａ上に位置する第１の構成層と、第２の透明電極層１３ｂを含む層であって、第２の樹脂層１２ｂ下に位置する第２の構成層と、を備える。第１の樹脂層１２ａは、紫外線を透過し、第２の樹脂層１２ｂは、有機系紫外線吸収体を含み、第１の樹脂層１２ａと接する層は、気相成長した無機膜であり、第２の樹脂層１２ｂと接する層は、塗工された有機無機ハイブリッド膜である。【選択図】図１

Description

本開示の技術は、樹脂層を含む透明導電性積層体、透明導電性積層体を備えたタッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法に関する。

一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、静電容量の変化を検出するための２つの電極を備えている。２つの電極は、例えば特許文献１に記載のように、１枚の透明な基板を挟んで互いに対向している。これら２つの電極は、基板に成膜された透明な導電膜のパターニングによって形成され、導電膜のパターニングにはフォトリソグラフィが用いられる。

フォトリソグラフィにおける露光工程では、露光光を出射する露光源が、２つの導電膜の各々の上に形成された２つのレジストを露光する。この際に、特許文献１に記載の技術では、基板と導電膜との間に形成された樹脂層が、露光光である紫外線を吸収する機能を有する。そして、基板と導電膜との間に形成された樹脂層は、一方のレジストを露光する光のうち、一方のレジストを透過した光を吸収する。それゆえに、露光光を出射する露光源が、２つのレジストの各々を同時に露光しても、一方のレジストに対する露光光によって、他方のレジストが感光することが抑えられる。

特許第４６８３１６４号

ところで、基板と導電膜との間に位置する樹脂層には、紫外線を吸収する機能の他に、樹脂層に積層される他の層との良好な密着性が要求される。しかしながら、有機系紫外線吸収体が添加された塗工膜である樹脂層は、気相成長した無機膜とは大きく異なる化学的な表面状態を有する。そして、有機系紫外線吸収体が添加された塗工膜である樹脂層と、気相成長した無機膜との密着性は、有機系紫外線吸収体の添加されていない樹脂層のそれと比べて低い。特に、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）などからなる導電膜が、スパッタリングによって直接樹脂層に積層される構成では、紫外線を吸収する機能と、他の層との密着性を保つ機能とを１つの樹脂層で両立させることは極めて困難である。

本開示の技術は、気相成長した無機膜と樹脂層との密着性を高め、かつ、露光光である紫外線の吸収機能を有する透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するための透明導電性積層体は、基板と、前記基板の上に位置する塗工膜である第１の樹脂層と、前記基板の下に位置する塗工膜である第２の樹脂層と、第１の透明電極層を含む層であって、前記第１の樹脂層上に位置する第１の構成層と、第２の透明電極層を含む層であって、前記第２の樹脂層下に位置する第２の構成層と、を備える。前記第１の樹脂層は、紫外線を透過し、前記第２の樹脂層は、有機系紫外線吸収体を含み、前記第１の構成層が含む層のうち、前記第１の樹脂層と接する層は、気相成長した無機膜である。そして、前記第２の構成層が含む層のうち、前記第２の樹脂層と接する層は、塗工された有機無機ハイブリッド膜である。

上記構成において、透明導電性積層体が備える２つの樹脂層の機能は互いに異なる。第１の樹脂層は、紫外線を透過する塗工膜であり、第２の樹脂層は、有機系紫外線吸収体を含む塗工膜である。そして、第１の樹脂層に、気相成長した無機膜が積層され、第２の樹脂層に、塗工された有機無機ハイブリッド膜が積層される。したがって、気相成長した無機膜が、有機系紫外線吸収体を含む塗工膜に積層される従来の構成と比べて、第１の樹脂層と第１の樹脂層に積層される層との密着性、第２の樹脂層と第２の樹脂層に積層される層との密着性が高まる。

なお、こうした構成からなる透明導電性積層体の紫外線露光に際しては、例えば、第１の構成層上のレジストと、第２の構成層上のレジストとにおいて、一方のレジストを透過した紫外線は、他方のレジストに到達する前に第２の樹脂層で吸収される。したがって、一方のレジストに対する紫外線が他方のレジストに到達することが抑えられるため、２つのレジストをこれらレジストの現像前にまとめて露光することができる。結果として、樹脂層と樹脂層に積層される他の層との密着性を高めることと、一方のレジストに対する紫外線が他方のレジストに到達することを抑えることとの両立が可能でもある。

上記透明導電性積層体において、前記第１の構成層は、透明導電性積層体における可視光の透過特性を調整する光学調整層を含み、前記光学調整層が、前記第１の樹脂層と接する層であり、前記第２の透明電極層が、前記第２の樹脂層と接する層であることが好ましい。

上記構成によれば、光学調整層によって透明導電性積層体における視認性が向上され、かつ、光学調整層と第１の樹脂層との密着性、および、導電性を有する有機無機ハイブリッド膜である第２の透明電極層と第２の樹脂層との密着性が高まる。

上記透明導電性積層体において、前記第１の透明電極層は、気相成長した無機膜であり、前記第２の透明電極層は、塗工された有機無機ハイブリッド膜であることが好ましい。
上記構成によれば、２つの透明電極層が、互いに異なる特性を有する。したがって、透明導電性積層体は、それぞれの膜が有する利点を享受することができる。

上記透明導電性積層体において、前記第１の樹脂層は、有機無機ハイブリッド膜であり、前記第２の樹脂層は、アクリル系樹脂を含むことが好ましい。
上記構成によれば、第１の樹脂層に有機無機ハイブリッド樹脂が含まれるため、気相成長した無機膜と第１の樹脂層との密着性が良好である。また、第２の樹脂層に含まれるアクリル系樹脂によって、第２の樹脂層に対する有機系紫外線吸収体の添加が容易である。

上記透明導電性積層体において、前記第２の樹脂層は、耐ブロッキング性を有することが好ましい。
上記構成によれば、第２の樹脂層が耐ブロッキング性を有するため、透明導電性積層体の製造の途中にて、樹脂層が重ねられる場合であっても、ブロッキングが発生することが抑えられる。結果として、樹脂層と樹脂層に積層される他の層との密着性が高められ、かつ、ブロッキングの発生が抑えられる。

上記課題を解決するためのタッチパネルは、上記透明導電性積層体を備える。
上記構成によれば、タッチパネルの備える透明導電性積層体において、樹脂層と樹脂層に積層される層との密着性を有している。

上記課題を解決するための透明導電性積層体の製造方法は、基板の第１の面に、紫外線を透過する第１の樹脂層を塗工によって形成する工程と、前記基板の第２の面に、有機系紫外線吸収体を含む第２の樹脂層を塗工によって形成する工程と、前記第１の樹脂層に、第１の透明導電層を含む第１の積層層を積層する工程と、前記第２の樹脂層に、第２の透明導電層を含む第２の積層層を積層する工程と、を含む。前記第１の積層層を積層する工程は、前記第１の樹脂層の面上に気相成長によって無機膜を形成する工程を含み、前記第２の積層層を積層する工程は、前記第２の樹脂層の面上に塗工によって有機無機ハイブリッド膜を形成する工程を含む。

上記方法によれば、紫外線を透過する塗工膜である第１の樹脂層に、気相成長した無機膜が積層され、紫外線を吸収する塗工膜である第２の樹脂層に、塗工された有機無機ハイブリッド膜が積層される。したがって、第１の樹脂層と第１の樹脂層に積層される層との密着性が良好となる。また、第２の樹脂層と第２の樹脂層に積層される層との密着性も確保される。

なお、こうした構成からなる透明導電性積層体の紫外線露光に際しては、例えば、第１の積層層上のレジストと、第２の積層層上のレジストとにおいて、一方のレジストを透過した紫外線は、他方のレジストに到達する前に第２の樹脂層で吸収される。したがって、一方のレジストに対する紫外線が他方のレジストに到達することが抑えられるため、２つのレジストをこれらレジストの現像前にまとめて露光することができる。結果として、樹脂層と樹脂層に積層される他の層との密着性を高めることと、一方のレジストに対する紫外線が他方のレジストに到達することを抑えることとの両立が可能でもある。

本開示の技術によれば、気相成長した無機膜と樹脂層との密着性が高められ、かつ、紫外線の吸収機能を有する透明導電性積層体が得られる。

本開示の技術における一実施形態での透明導電性積層体の断面構造を示す断面図である。 本開示の技術における一実施形態でのタッチパネルの断面構造を示す断面図である。 一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、第１樹脂層の形成工程を示す図である。 一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、第２樹脂層の形成工程を示す図である。 一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、第１透明導電層の形成工程を示す図である。 一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、金属層の形成工程を示す図である。 一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、第２透明導電層の形成工程を示す図である。 一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの形成工程を示す図である。 一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光工程を示す図である。 一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、現像工程を示す図である。 一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、エッチング工程を示す図である。 変形例での透明導電性積層体の断面構造を示す断面図である。 変形例での透明導電性積層体の断面構造を示す断面図である。

図１〜図１１を参照して、透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法の一実施形態について説明する。
［透明導電性積層体の構成］
図１を参照して、透明導電性積層体の構成について説明する。透明導電性積層体は、例えば、タッチパネルの構成部材の１つとして用いられる。

図１に示されるように、透明導電性積層体１０は、透明な基板１１と、基板１１を挟んで互いに対向する２つの塗工膜である第１樹脂層１２ａ、および、第２樹脂層１２ｂを備えている。また、透明導電性積層体１０は、基板１１、第１樹脂層１２ａ、および、第２樹脂層１２ｂからなる積層体を挟んで、互いに対向する２つの導電膜である第１透明電極層１３ａと第２透明電極層１３ｂとを備えている。

基板１１の表面である第１の面には、第１樹脂層１２ａと第１透明電極層１３ａとが、この順に積層されている。基板１１の裏面である第２の面には、第２樹脂層１２ｂと第２透明電極層１３ｂとが、この順に積層されている。第１透明電極層１３ａは、第１の構成層の一例であり、第２透明電極層１３ｂは、第２の構成層の一例である。

基板１１としては、例えば、ガラスや樹脂フィルムが用いられる。樹脂フィルムに用いられる樹脂は、成膜工程および後工程にて基板に要求される強度をフィルムとして有し、表面の平滑性が良好である範囲において限定されない。樹脂フィルムに用いられる樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレート、環状ポリオレフィン、または、ポリイミド等が挙げられる。基板１１は、透明導電性積層体１０の薄型化を図るとともに基板１１の可撓性を保持するために、１０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。

基板１１は、種々の添加剤や安定剤を含んでもよい。添加剤や安定剤としては、例えば、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、または、易接着剤等が挙げられる。基板１１に対しては、基板１１に積層される層と基板１１との密着性を向上させるために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、または、薬品処理等が施されてもよい。

第１樹脂層１２ａ、および、第２樹脂層１２ｂの各々は、透明導電性積層体１０の機械的強度を向上させる機能を有する。第１樹脂層１２ａを構成する樹脂、および、第２樹脂層１２ｂを構成する樹脂の各々は、透明性の他に、適度な硬度、および、機械的強度を有することが好ましい。

第１樹脂層１２ａは、透明導電性積層体１０の機械的強度を向上させる機能に加えて、紫外領域の波長を有する光である紫外線を透過する機能を有している。なお、紫外領域の波長は約２００ｎｍ〜約３８０ｎｍであり、可視領域の波長は約３８０ｎｍ〜約７８０ｎｍである。また、第１樹脂層１２ａは、スパッタリングなどによって気相成長した無機膜との密着性が第２樹脂層１２ｂよりも高い性質を有している。

第１樹脂層１２ａの形成材料は、有機系紫外線吸収体を含まず、かつ、樹脂を構成する主鎖や側鎖に紫外線を吸収する骨格を有しない樹脂を含む。第１樹脂層１２ａの形成材料は、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂などの有機系樹脂、有機系樹脂にシリカ粒子や金属酸化物粒子などの無機粒子が添加された有機無機ハイブリッド樹脂からなる群から選択されるいずれか１つである。気相成長によって形成される無機膜との密着性が高い観点から、第１樹脂層１２ａの形成材料は、無機粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂であることが好ましい。

第１樹脂層１２ａの厚みは、特に限定されないが、透明導電性積層体１０の薄型化を図るためには、１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
なお、塗工などの液相成長した無機膜は、予め定められた一次粒子径を有する無機粒子同士の焼結した膜であり、液相成長に用いられる無機粒子間の粒界を少なからず有する。一方で、気相成長によって形成される無機膜は、気相中の無機粒子の積み重なった膜であり、通常、液相成長に用いられる無機粒子よりも十分に小さい無機粒子の積み重なった膜である。そのため、気相成長した無機膜は、こうした無機粒子の粒径に応じた粒界を有さない。

第２樹脂層１２ｂは、透明導電性積層体１０の機械的強度を向上させる機能に加えて、紫外線を吸収する機能を有している。第２樹脂層１２ｂは、気相成長によって形成される無機膜との密着性が第１樹脂層１２ａよりも低い。また、第２樹脂層１２ｂは、第１樹脂層１２ａよりも高い耐ブロッキング性を有している。耐ブロッキング性は、耐ブロッキング性を有する層と他の層とが重なる状態で、耐ブロッキング性を有する層に対して他の層から荷重が加えられ、その後に、耐ブロッキング性を有する層とそれに重なる他の層とが容易に離せる性質である。

第２樹脂層１２ｂの厚みは、特に限定されないが、透明導電性積層体１０の薄型化を図るためには、１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。基板１１と第２樹脂層１２ｂとの積層体は、３６５ｎｍの波長の光の透過率が０％以上１％以下であることが好ましい。なお、３６５ｎｍの波長の光の透過率は、日立ハイテク社製Ｕ４１００の分光光度計によって得られる値である。

第２樹脂層１２ｂのＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４による算術平均粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが好ましい。算術平均粗さが上記の範囲であれば、第２樹脂層１２ｂの表面の凹凸によって、第２樹脂層１２ｂに適切な耐ブロッキング性が付与される。なお、算術平均粗さは、菱化システム社製Ｖｅｒｔｓｃａｎによって得られる値である。測定方法は、ＪＩＳＢ０６０１−１９９４年版に準拠している。

第２樹脂層１２ｂの形成材料は、耐ブロッキング性を有する樹脂を含み、かつ、有機系紫外線吸収体を含む。耐ブロッキング性を有する樹脂は、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂などの有機系樹脂からなる群から選択される少なくとも１つである。耐ブロッキング性を有する樹脂がアクリル系樹脂であるとき、ヘイズ値や透明性が向上し、また、耐ブロッキング性が発現しやすいために好ましい。

有機系紫外線吸収体は、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系、トリアジン系、シアノアクリルレート系からなる群から選択される少なくとも１つである。有機系紫外線吸収体は、紫外線を吸収する機能を有した低化合物であってもよいし、紫外線を吸収する機能を有した樹脂であってもよいし、耐ブロッキング性を有する樹脂との共重合体であってもよい。有機系紫外線吸収体が、耐ブロッキング性を有する樹脂との共重合体であるとき、有機系紫外線吸収体は、モノマーの状態で重合性のビニル基を有していることが好ましい。こうした有機系紫外線吸収体は、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリルオキシエチルフェニル）２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−４−（メタクリルオキシ）ベンゾフェノン、フェニル−５−メタクリルオキシメチルサリシレートからなる群から選択される少なくとも１つである。有機系紫外線吸収体は、耐ブロッキング性を有する樹脂の一例であるアクリル系樹脂の側鎖にエステル結合していることが好ましい。紫外線吸収体を含む樹脂の分子量は、特に限定されないが、ブリードアウトの発生を抑えるためには、１００００以上であることが好ましい。

第１透明電極層１３ａは、スパッタリングなどによって気相成長した無機膜である。
第１透明電極層１３ａの形成材料は、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズからなる群から選択される少なくとも１つを含む。また、第１透明電極層１３ａの形成材料は、上記金属酸化物の他に、さらに添加物を含んでもよい。電気的特性の信頼性や形状加工の信頼性が高い観点から、第１透明電極層１３ａの形成材料は、酸化インジウムスズを含むことが好ましい。

第１透明電極層１３ａは、所定の形状にパターニングされている。例えば、第１透明電極層１３ａは、Ｘ方向に延びる複数の導電領域１４ａが、Ｘ方向と直交するＹ方向に隙間をあけて並設されたパターンを有する。導電領域１４ａは、例えば、直線形状や、複数のひし形が一方向に繋げられた形状に形成される。互いに隣接する２つの導電領域１４ａの間に形成された隙間は、導電領域１４ａの形成されていない非導電領域１５ａである。

第２透明電極層１３ｂは、液相成長した塗工された有機無機ハイブリッド膜である。
第２透明電極層１３ｂは、導電性を担う金属製のナノワイヤー等の繊維状の金属と、有機系樹脂とを含んでいる。導電性を担う金属としては、例えば、金、銀、銅、コバルトからなる群から選択される少なくとも１つである。第２透明電極層１３ｂに含まれる樹脂としては、アクリル系樹脂を主成分とするモノマーやオリゴマー等の、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が好ましい。樹脂部分には、重合開始剤等の添加剤が混合されていてもよい。第２透明電極層１３ｂは、最外層として金属を含まない樹脂層を含んでもよく、こうした構成であれば、繊維状の金属が樹脂層によって保護される。

第２透明電極層１３ｂは、例えば、Ｙ方向に延びる複数の導電領域１４ｂが、Ｘ方向に間をあけて並設されたパターンに形成されている。第２透明電極層１３ｂの導電領域１４ｂに含まれる繊維状の金属は、導電領域１４ｂ内で互いに接触しており、これによって、導電領域１４ｂは導電性を有している。導電領域１４ｂの各々は、第１透明電極層１３ａの導電領域１４ａと同様の形状に形成される。非導電領域１５ｂは、複数の導電領域１４ｂの間の領域であって、導電領域１４ｂの各々と絶縁されている。

導電領域１４ａ，１４ｂの各々は、導電領域１４ａ，１４ｂの間に形成される静電容量の変化を、電流の変化によって検出する回路に接続されている。人の指等が導電領域１４ａ，１４ｂに接近すると、静電容量が変化する。この静電容量の変化が検出されることに基づいて、人の指等の接触位置が判定される。

図２に示されるように、第１透明電極層１３ａには、接着層を介してガラス等からなるカバー層３０等が積層されて、タッチパネル３１が構成される。カバー層３０の表面が、人の指等の接触面となる。さらに、第２透明電極層１３ｂには、液晶パネル等の表示パネル３２が積層されて、タッチパネル３１と表示パネル３２とから表示装置３３が構成される。なお、第２透明電極層１３ｂにカバー層３０が積層され、第１透明電極層１３ａに表示パネル３２が積層されてもよい。

［透明導電性積層体の製造方法］
図３〜図１１を参照して、透明導電性積層体の製造方法について説明する。
図３に示されるように、まず、基板１１の表面に第１樹脂層１２ａが形成される。

第１樹脂層１２ａの形成方法では、まず、主成分である紫外線透過性樹脂等が溶剤に溶解した溶液が、基板１１の表面に塗工される。次いで、基板１１の表面にて塗膜が硬化することによって、第１樹脂層１２ａが形成される。

溶剤は、上記の主成分の樹脂等を溶解するものであれば、限定されない。溶剤の具体例としては、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコール、または、モノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上の溶剤を混合して用いてもよい。

塗工方法としては、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、または、マイクログラビアコーター等の公知の塗工法が用いられる。第１樹脂層１２ａを硬化するために用いられる紫外線照射機としては、例えば、メタルハライドランプや、高圧水銀ランプ等が用いられる。

図４に示されるように、基板１１の裏面に第２樹脂層１２ｂが形成される。第２樹脂層１２ｂの形成方法では、まず、耐ブロッキング性を有する樹脂と有機系紫外線吸収体とを含む溶液、あるいは、有機系紫外線吸収体を含む耐ブロッキングを有した樹脂を含む溶液が、基板１１の裏面に塗工される。次いで、基板１１の裏面にて塗膜が硬化することによって、第２樹脂層１２ｂが形成される。

この際に、第２樹脂層１２ｂの塗工に際し、例えば、耐ブロッキング性を有する樹脂と有機系紫外線吸収体とは、溶剤に各別に溶解されて用いられる。溶剤としては、これらの構成材料を溶解するものであれば、特に限定しない。溶剤の具体例としては、先の第１樹脂層１２ａの形成方法にて例示した溶剤が挙げられる。

有機系紫外線吸収体（Ａ）と耐ブロッキング性を有する樹脂（Ｂ）と溶剤（Ｃ）との配合比率は、第２樹脂層１２ｂに耐ブロッキング性と紫外線吸収機能とを適切に付与するためには、Ａ：Ｂ：Ｃ＝１０重量％以上３０重量％以下：３５重量％以上５５重量％以下：２０重量％以上５０重量％以下であることが好ましい。

第２樹脂層１２ｂには、相分離樹脂が５重量％以上１０重量％以下、アクリル系樹脂が５０重量％以上７５重量％以下、有機系紫外線吸収体が１５重量％以上４５重量％以下、の割合で、それぞれ含まれることが好ましい。こうした含有比率を実現するには、例えば、溶剤に各構成材料が溶解された溶液に、相分離樹脂が１．８重量％以上２．５重量％以下、アクリル系樹脂が１６重量％以上２３重量％以下、有機系紫外線吸収体が５重量％以上１３重量％以下、の割合で、それぞれ含まれればよい。なお、相分離樹脂は、溶液が塗工された直後は、層内にて他の構成材料と共に分散している一方で、溶剤の揮発に伴って他の構成材料から分離して析出する。こうした形成方法であれば、第２樹脂層１２ｂの表面に、上述した表面粗さが形成されやすい。

塗工方法としては、先の第１樹脂層１２ａの形成方法にて例示した塗工方法を用いることができる。
ここで、第２樹脂層１２ｂは、耐ブロッキング性を有している。そのため、例えば、ロール・ツー・ロール方式によって、第１樹脂層１２ａおよび第２樹脂層１２ｂが形成される場合等、製造工程において第２樹脂層１２ｂに他の層が重ねられる場合であっても、ブロッキングが発生することが抑えられる。

図５に示されるように、基板１１の表面側において、第１樹脂層１２ａの面上に第１透明導電層１６ａが形成される。第１透明導電層１６ａは、スパッタリングなどの気相成長法によって形成される。第１透明導電層１６ａは、第１の積層層の一例である。

図６に示されるように、基板１１の表面側において、第１樹脂層１２ａの面上に金属層１７が形成される。金属層１７は、繊維状の金属が分散された溶液が第１樹脂層１２ａに塗工されることによって形成される。繊維状の金属を分散させる溶剤としては、水、アルコール系、具体的にはメタノール、エタノール、イソプロパノールといった親水性の高い溶剤が好ましい。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上の溶剤を混合して用いてもよい。塗工方法としては、公知の塗工法や印刷法が用いられる。

図７に示されるように、金属層１７の上に樹脂を含む溶液が塗工されて、第２透明導電層１６ｂが形成される。金属層１７に塗工された溶液は、金属層１７が含む繊維状の金属の隙間にも浸透する。溶液の溶剤としては、第２透明電極層１３ｂの樹脂部分の構成材料を溶解するものであれば、特に限定しない。溶剤の具体例としては、先の第１樹脂層１２ａの形成方法にて例示した溶剤が挙げられる。塗工方法としては、公知の塗工法や印刷法が用いられる。第２透明導電層１６ｂは、第２の積層層の一例である。

なお、第１樹脂層１２ａと第１透明導電層１６ａとは、第２樹脂層１２ｂが形成される前に、基板１１の表面に連続して形成されてもよい。また、第２樹脂層１２ｂと第２透明導電層１６ｂとは、第１樹脂層１２ａが形成される前に、基板１１の裏面に連続して形成されてもよい。要は、レジストが形成される前に、基板１１の表面に、第１樹脂層１２ａと第１透明導電層１６ａとを備え、基板１１の裏面に、第２樹脂層１２ｂと第２透明導電層１６ｂとを備える積層体が形成されればよい。

図８に示されるように、次に、基板１１の表面側において、第１透明導電層１６ａの面上に第１レジスト１８ａが形成され、基板１１の裏面側において、第２透明導電層１６ｂの面上に第２レジスト１８ｂが形成される。

レジスト１８ａ，１８ｂとしては、ネガ型のレジストを用いてもよいし、ポジ型のレジストを用いてもよい。レジスト１８ａ，１８ｂには、公知の材料が用いられ、レジスト１８ａ，１８ｂは、公知の方法によって形成される。

図９に示されるように、次に、レジスト１８ａ，１８ｂに光を照射する２つの光源２１ａ，２１ｂの間に、レジスト１８ａ，１８ｂが形成された積層体が配置される。光源２１ａ，２１ｂは、紫外領域の波長の光と可視領域の波長の光とからなる光を発する。

基板１１の表面側において、第１レジスト１８ａと第１光源２１ａとの間には、第１レジスト１８ａに近い方から、第１透明電極層１３ａの導電領域１４ａの形状に合った孔を有する第１マスク１９ａと、可視領域の波長の光を遮断する第１光学フィルター２０ａとが、この順に配置される。基板１１の裏面側において、第２レジスト１８ｂと第２光源２１ｂとの間には、第２レジスト１８ｂに近い方から、第２透明電極層１３ｂの導電領域１４ｂの形状に合った孔を有する第２マスク１９ｂと、可視領域の波長の光を遮断する第２光学フィルター２０ｂとが、この順に配置される。

そして、第１光源２１ａから第１レジスト１８ａに対して光が照射されることによって、第１レジスト１８ａが露光される。また、第２光源２１ｂから第２レジスト１８ｂに対して光が照射されることによって、第２レジスト１８ｂが露光される。このとき、光学フィルター２０ａ，２０ｂによって可視領域の波長の光が遮断されるため、レジスト１８ａ，１８ｂは、光源２１ａ，２１ｂから発せられた光のうちの紫外領域の波長の光によって露光される。なお、第１レジスト１８ａの露光と第２レジスト１８ｂの露光とは、ほぼ同時に行われてもよいし、別々に行われてもよく、第１レジスト１８ａの現像、および、第２レジスト１８ｂの現像の前にまとめて実施されればよい。

ここで、第１樹脂層１２ａは、紫外線を吸収しない一方で、第２樹脂層１２ｂは、紫外線を吸収する機能を有している。そのため、第１光源２１ａから第１光学フィルター２０ａを介して第１レジスト１８ａに照射された光のうち、第１レジスト１８ａに吸収されなかった光は、第２樹脂層１２ｂに吸収される。また、第２光源２１ｂから第２光学フィルター２０ｂを介して第２レジスト１８ｂに照射された光のうち、第２レジスト１８ｂに吸収されなかった光は、第２樹脂層１２ｂに吸収される。結果として、一方のレジストに照射された光が積層体を透過して他方のレジストを感光させることが抑えられる。

また、光学フィルター２０ａ，２０ｂによって遮断される光の波長と、第２樹脂層１２ｂが吸収する光の波長とが調整されることによって、露光光の波長と、第２樹脂層１２ｂが吸収する光の波長とが合わせられる。そのため、レジスト１８ａ，１８ｂの露光と不要な露光光の吸収とが的確に行われる。

図１０に示されるように、レジスト１８ａ，１８ｂがネガ型の場合には、レジスト１８ａ，１８ｂの露光によって感光していない部分が、現像液によって除去される。あるいは、レジスト１８ａ，１８ｂがポジ型の場合には、レジスト１８ａ，１８ｂの露光によって感光した部分が、現像液によって除去される。これによって、レジスト１８ａ，１８ｂに、マスク１９ａ，１９ｂの形状に合ったパターンが形成される。すなわち、レジスト１８ａ，１８ｂは、導電領域１４ａ，１４ｂのパターンに合ったレジストマスクに加工される。

図１１に示されるように、第１レジスト１８ａのパターンに応じて、第１透明導電層１６ａの露出部分がエッチングされ、第２レジスト１８ｂのパターンに応じて、第２透明導電層１６ｂの露出部分のうちの金属層１７がエッチングされる。エッチング方法は、公知の方法が用いられる。これによって、第１透明導電層１６ａがパターニングされて第１透明電極層１３ａが形成される。そして、第１透明導電層１６ａの残存部分が、第１透明電極層１３ａにおける導電領域１４ａとなり、第１透明導電層１６ａの除去部分を非導電領域１５ａとして区画する。また、第２透明導電層１６ｂがパターニングされて第２透明電極層１３ｂが形成される。そして、金属層１７の残存部分が、第２透明電極層１３ｂにおける導電領域１４ｂとなり、金属層１７の除去部分を非導電領域１５ｂとして区画する。なお、非導電領域１５ｂは、導電領域１４ｂと絶縁された状態であればよく、非導電領域１５ｂにおいて、繊維状の金属は完全に除去されていなくてもよい。

最後に、レジスト１８ａ，１８ｂが除去されることによって、透明導電性積層体１０が得られる。なお、上記の各工程は、ロール・ツー・ロール方式によって行われることが好ましい。これによれば、透明導電性積層体を効率よく製造することができるため、透明導電性積層体１０の製造にかかる時間が短縮される。

［作用］
上述の透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法がもたらす作用について説明する。

透明導電性積層体１０は、紫外線を透過する塗工膜である第１樹脂層１２ａに、気相成長した無機膜からなる第１透明電極層１３ａが積層され、紫外線を吸収する塗工膜である第２樹脂層１２ｂに、塗工された有機無機ハイブリッド膜である第２透明電極層１３ｂが積層されている。したがって、第１樹脂層１２ａと第１透明電極層１３ａとの密着性は、紫外線を吸収する樹脂製の塗工膜と第１透明電極層１３ａとの密着性よりも高められる。また、紫外線を吸収する塗工膜である第２樹脂層１２ｂと、導電性の塗工膜である第２透明電極層１３ｂとの密着性も保持される。

また、フォトリソグラフィによる露光工程では、一方のレジストを露光するために照射された光のうち、レジストに吸収されなかった光を、第２樹脂層１２ｂが吸収する。その結果、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストに到達することが抑えられる。したがって、２つの透明電極層１３ａ，１３ｂが互いに異なるパターンを有する場合であっても、一方のレジストに形成されるパターンが他方のレジストに形成されるパターンに影響を与えることが抑えられる。それゆえに、基板１１を挟んで対向する２つのレジスト１８ａ，１８ｂをまとめて露光することができる。結果として、レジストの形成や露光や現像等の工程を、透明導電層１６ａ，１６ｂが形成された面ごとに繰り返す製造方法と比較して、透明導電性積層体１０の製造工程の流れを簡素にすることができる。

このように、２つの樹脂層１２ａ，１２ｂ、および、２つの透明導電層１６ａ，１６ｂの各々が、互いに異なる機能を有することによって、樹脂層１２ａ，１２ｂと樹脂層１２ａ，１２ｂに積層される層との密着性が高められ、かつ、露光光の吸収機能を有する透明導電性積層体１０が実現される。

また、第２樹脂層１２ｂが耐ブロッキング性を有しているため、透明導電性積層体１０の製造工程において、第２樹脂層１２ｂに他の層が重ねられる場合であっても、ブロッキングが発生することが抑えられる。なお、ブロッキングは、製造工程中で第２樹脂層１２ｂにフィルムを付したり、製造工程における積層体の配置を変更したりすることによっても抑えられる。こうした場合には、第２樹脂層１２ｂは、耐ブロッキング性を有していなくてもよい。すなわち、第２樹脂層１２ｂは、耐ブロッキング性を有する樹脂を含んでいなくてもよい。

（実施例）
上述した透明性導電性積層体が有する特性について、以下に挙げる具体的な実施例、および、比較例を用いて説明する。

＜実施例＞
基板としてポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製：Ａ４３００−１２５）を用い、基板の表面に第１樹脂層を形成するための塗工液としてＵＮＩＤＩＣ Ｖ‐６８４１（ＤＩＣ社製）をＭＩＢＫに溶解させた塗工液を塗工した後、塗膜を硬化して、厚さが３μｍの第１樹脂層を形成した。さらに、基板の裏面に、第２樹脂層を形成するための塗工液として、有機系紫外線吸収体（チバ・ジャパン社製：ＴＩＮＵＶＩＮ９９‐２）と耐ブロッキング性を有する樹脂（日本ペイント社製：ＮＡＢ‐００１）と溶剤（東洋インキ社製：ＶＣ１０４）とを２０重量％：４０重量％：４０重量％で配合した塗工液を塗工した後、塗膜を硬化して、厚さが５．５μｍの第２樹脂層を形成した。

続いて、第１樹脂層の上に、第１透明導電層として、２５ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法を用いて積層した。さらに、第２樹脂層の上に、金ナノワイヤーを純水に分散させた塗工液を塗工した後、保護膜として紫外線硬化型アクリルＨＣをＩＰＡに溶解させた溶液を塗工、硬化して、２００ｎｍの第２透明導電層を形成した。そして、第１透明導電層をパターニングして第１透明電極層を形成し、第２透明導電層をパターニングして第２透明電極層を形成することによって、実施例の透明導電性積層体を得た。

＜比較例１＞
第２透明導電層として、第２樹脂層の上に、２５ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法を用いて積層し、それ以外の条件を実施例と同じくして比較例１の透明導電性積層体を得た。

＜比較例２＞
第２樹脂層として、基板の裏面に、ＵＮＩＤＩＣ Ｖ‐６８４１（ＤＩＣ社製）をＭＩＢＫに溶解させた塗工液を塗工した後、塗膜を硬化して、厚さが３μｍの樹脂層を形成し、それ以外の条件を実施例と同じくして比較例２の透明導電性積層体を得た。

＜評価方法＞
以下の方法で、樹脂層と透明電極層との密着性、および、透明導電性積層体の紫外線吸収性について評価した。その結果を表１に示す。なお、以下では、第１樹脂層と第１透明電極層とを第１構成層と表記し、第２樹脂層と第２透明電極層とを第２構成層と表記する。

［密着性］
実施例、および、比較例１，２の透明導電性積層体の各々を、耐候性試験機（東洋精機製作所社製：ウエザオメータＣｉ４０００）に投入し、耐候性試験を行った。耐候性試験の処理条件として、６５ｋＷ／ｍ^２の放射照度、５０％ＲＨの湿度、４０℃の温度、５００ｈの処理時間を設定し、耐候性試験を行う前後の試験片の第１構成層と第２構成層との各々に対し、密着性を評価した。

密着性の評価は次の手順で碁盤目試験を行った。これは、旧ＪＩＳ Ｋ５４００：１９９０に記載されている試験と同様である。まず、透明導電性積層体の試験片に切り込みを入れて、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作製し、切り込みを入れた透明電極層の表面にセロハンテープを貼りつける。そして、テープを付着させてから１分後にテープの端を持って透明電極層面に直角に保ち瞬間的に引き剥がし、透明電極層が剥離した碁盤目の数を計測する。

［紫外線吸収性］
実施例、および、比較例１，２の透明導電性積層体の各々を、分光光度計（日立ハイテク社製：Ｕ４１００）に投入し、各透明導電性積層体について、３６５ｎｍの波長の光の透過率を測定した。そして、透過率が５％以下の透明導電性積層体を紫外線の吸収性が有るものと判断し、透過率が５％を超える透明導電性積層体を紫外線の吸収性が無いものと判断した。

表１に示されるように、実施例の第１構成層、および、第２構成層の各々において、十分な密着性が認められ、その実施例の透明導電性積層体において、紫外線吸収性が認められた。これに対して、比較例１においては、第１構成層に十分な密着性が認められたが、第２構成層の密着性が耐候性試験後に失われることが認められた。また、比較例２においては、第１構成層、および、第２構成層の各々に十分な密着性が認められたが、紫外線吸収性を有していないことも認められた。

すなわち、有機系紫外線吸収体を含む塗工膜に気相成長した無機膜が積層された比較例１では、密着性が低くなり、有機系紫外線吸収体を含む塗工膜を有さない比較例２では、紫外線吸収性が得られない。これに対し、紫外線を透過する塗工膜である樹脂層に、気相成長した無機膜である透明電極層が積層され、有機系紫外線吸収体を含む塗工膜である樹脂層に、塗工された有機無機ハイブリッド膜である透明電極層が積層された透明導電性積層体では、良好な膜の密着性と紫外線の吸収機能の双方が得られることが示された。

以上説明したように、本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）気相成長した膜に対する密着性が高められた第１樹脂層１２ａに、気相成長した膜からなる層が積層され、露光光を吸収する機能を有する第２樹脂層１２ｂに、液相成長した膜からなる層が積層される。したがって、樹脂層１２ａ，１２ｂと樹脂層１２ａ，１２ｂに積層される層との密着性が良好となる。また、第２樹脂層１２ｂによって、透明導電性積層体１０に、露光光の吸収機能が付与される。

（２）第２樹脂層１２ｂが耐ブロッキング性を有するため、透明導電性積層体１０の製造工程にて樹脂層が重ねられる場合であっても、ブロッキングが発生することが抑えられる。

（３）２つの透明電極層１３ａ，１３ｂが、互いに異なる特性を有するため、透明導電性積層体１０は、それぞれの膜が有する利点を享受することができる。
（４）第１樹脂層１２ａが有機無機ハイブリッド樹脂を含み，第２樹脂層１２ｂが有機系紫外線吸収体を含む。これによって、第１樹脂層１２ａにて、気相成長した無機膜に対する密着性が高められ、また、第２樹脂層１２ｂに、露光光としての紫外領域の波長の光を吸収する機能を適切に付加することができる。

上記実施形態は、以下のように変更して実施することもできる。
・図１２に示されるように、透明導電性積層体１０は、第１樹脂層１２ａと第１透明電極層１３ａとの間に、光学調整層２２を備えていてもよい。光学調整層２２は、透明導電性積層体１０における可視光の透過特性を調整する機能を有する。光学調整層２２は、例えば、酸化物、硫化物、フッ化物、あるいは、窒化物等の無機化合物を材料として、気相成長した無機膜である。こうした構成によっても、第１樹脂層１２ａと第１樹脂層１２ａに積層される層との密着性が高められる。すなわち、第１樹脂層１２ａに接する層は、気相成長した無機膜であれば、第１透明電極層１３ａとは異なる層であってもよい。

なお、第１樹脂層１２ａと第１透明電極層１３ａとの間に、気相成長した無機膜が挟まれる構成であれば、第１透明電極層１３ａは、塗布膜であってもよい。要は、第１樹脂層１２ａと接する層が、気相成長した無機膜からなる層であれば、紫外線の吸収機能を有しない第１樹脂層１２ａと、気相成長した無機膜との密着性は、第１樹脂層１２ａが紫外線の吸収機能を有する構成と比べて高まる。なお、光学調整層２２は、第１の構成層の一例であり、第１の積層層の一例である。

・気相成長した無機膜は、例えば、酸化ケイ素膜、酸窒化ケイ素膜、窒化ケイ素膜などのように導電性を有しない透明膜であってもよい。
・透明導電性積層体１０は、第２樹脂層１２ｂと第２透明電極層１３ｂとの間に、第２透明電極層１３ｂとは異なる層として、塗工された有機無機ハイブリッド膜を備えてもよい。

第２樹脂層１２ｂと第２透明電極層１３ｂとの間に、塗工された有機無機ハイブリッド膜が挟まれる構成であれば、第２透明電極層１３ｂは、気相成長した無機膜であってもよい。要は、第２樹脂層１２ｂと接する層が、塗工された有機無機ハイブリッド膜からなる層であれば、紫外線の吸収機能を有する第２樹脂層１２ｂと、有機無機ハイブリッド膜との密着性は得られ、透明導電性積層体において紫外線吸収機能も保たれる。

・塗工された有機無機ハイブリッド膜に含まれる無機化合物は、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、酸化チタンなどのように導電性を有しない無機粒子であってもよい。
・図１３に示されるように、基板１１は、複数の層からなる積層体であってもよい。図１３に示される透明導電性積層体２３にて、基板１１は２つの副基板１１ａ，１１ｂと、副基板１１ａと副基板１１ｂとを貼り合わせる粘着層２４とから構成される。粘着層２４に用いられる樹脂としては、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、または、ゴム系樹脂等が挙げられる。粘着層２４には、クッション性や透明性に優れた樹脂を用いることが好ましい。

なお、こうした透明導電性積層体の製造方法では、副基板１１ａの表面に第１樹脂層１２ａと第１透明導電層１６ａとが積層され、副基板１１ｂの表面に第２樹脂層１２ｂと第２透明導電層１６ｂとが積層される。そして、各構成部材が積層された副基板１１ａの裏面と副基板１１ｂの裏面とが粘着層２４によって貼り合わせられる。以後、先の図８〜図１１に示される工程と同様の工程を経て透明導電性積層体２３が製造される。

１０，２３…透明導電性積層体、１１…基板、１１ａ，１１ｂ…副基板、１２ａ，１２ｂ…樹脂層、１３ａ，１３ｂ…透明電極層、１４ａ，１４ｂ…導電領域、１５ａ，１５ｂ…非導電領域、１６ａ，１６ｂ…透明導電層、１７…金属層、１８ａ，１８ｂ…レジスト、１９ａ，１９ｂ…マスク、２０ａ，２０ｂ…光学フィルター、２１ａ，２１ｂ…光源、２２…光学調整層、２４…粘着層、３０…カバー層、３１…タッチパネル、３２…表示パネル、３３…表示装置。

Claims (7)

1. 基板と、
   前記基板の上に位置する塗工膜である第１の樹脂層と、
   前記基板の下に位置する塗工膜である第２の樹脂層と、
   第１の透明電極層を含む層であって、前記第１の樹脂層上に位置する第１の構成層と、
   第２の透明電極層を含む層であって、前記第２の樹脂層下に位置する第２の構成層と、を備え、
   前記第１の樹脂層は、紫外線を透過し、
   前記第２の樹脂層は、有機系紫外線吸収体を含み、
   前記第１の構成層が含む層のうち、前記第１の樹脂層と接する層は、気相成長した無機膜であり、
   前記第２の構成層が含む層のうち、前記第２の樹脂層と接する層は、塗工された有機無機ハイブリッド膜である
   透明導電性積層体。
2. 前記第１の構成層は、透明導電性積層体における可視光の透過特性を調整する光学調整層を含み、
   前記光学調整層が、前記第１の樹脂層と接する層であり、
   前記第２の透明電極層が、前記第２の樹脂層と接する層である
   請求項１に記載の透明導電性積層体。
3. 前記第１の透明電極層は、気相成長した無機膜であり、
   前記第２の透明電極層は、塗工された有機無機ハイブリッド膜である
   請求項１または２に記載の透明導電性積層体。
4. 前記第１の樹脂層は、有機無機ハイブリッド膜であり、
   前記第２の樹脂層は、アクリル系樹脂を含む
   請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明導電性積層体。
5. 前記第２の樹脂層は、耐ブロッキング性を有する
   請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明導電性積層体。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の透明導電性積層体を備えるタッチパネル。
7. 基板の第１の面に、紫外線を透過する第１の樹脂層を塗工によって形成する工程と、
   前記基板の第２の面に、有機系紫外線吸収体を含む第２の樹脂層を塗工によって形成する工程と、
   前記第１の樹脂層に、第１の透明導電層を含む第１の積層層を積層する工程と、
   前記第２の樹脂層に、第２の透明導電層を含む第２の積層層を積層する工程と、を含み、
   前記第１の積層層を積層する工程は、前記第１の樹脂層の面上に気相成長によって無機膜を形成する工程を含み、
   前記第２の積層層を積層する工程は、前記第２の樹脂層の面上に塗工によって有機無機ハイブリッド膜を形成する工程を含む
   透明導電性積層体の製造方法。

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