JP2015039774A - 液体吐出ヘッド及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
Description
液体の流路を形成する第1流路形成部材と第2流路形成部材とを接着剤で接合した液体吐出ヘッドにおいて、
前記第1流路形成部材の接合面には第1表面処理膜が形成され、
前記第2流路形成部材の接合面には第2表面処理膜が形成され、
前記第1表面処理膜及び前記第2表面処理膜は、いずれも、Siを含む酸化膜であり、
前記酸化膜は、Siと酸素を介して結合した不動態膜を形成する遷移金属を含み、
前記第1表面処理膜における遷移金属に対するSiの配合比率と、前記第2表面処理膜における遷移金属に対するSiの配合比率とが異なる
構成とした。
また、不動態膜を形成することで、表面処理膜40は、表面に安定した耐腐食性膜が形成されるため、液体に触れても処理膜表面が溶解することなく長期的に安定する。
40B 第2表面処理膜
50 接着剤
100 液体吐出ヘッド
101 ノズル
102 ノズル板(流路形成部材)
103 圧力室
104 流路板(流路形成部材)
105 振動板(流路形成部材)
140 電気機械変換素子
233 キャリッジ
234a、234b 記録ヘッド
Claims (10)
- 液体の流路を形成する第1流路形成部材と第2流路形成部材とを接着剤で接合した液体吐出ヘッドにおいて、
前記第1流路形成部材の接合面には第1表面処理膜が形成され、
前記第2流路形成部材の接合面には第2表面処理膜が形成され、
前記第1表面処理膜及び前記第2表面処理膜は、いずれも、Siを含む酸化膜であり、
前記酸化膜は、Siと酸素を介して結合した不動態膜を形成する遷移金属を含み、
前記第1表面処理膜における遷移金属に対するSiの配合比率と、前記第2表面処理膜における遷移金属に対するSiの配合比率とが異なる
ことを特徴とする液体吐出ヘッド。 - 前記配合比率が異なる部位は、前記接着剤と接する最表面のみであることを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記第1流路形成部材は、液滴を吐出するノズルが形成されたノズル板であり、
前記第2流路形成部材は、前記ノズルが通じる個別液室を形成する流路板であり、
前記流路板に形成された第2表面処理膜における遷移金属に対するSiの配合比率は、前記ノズル板に形成された第1表面処理膜における遷移金属に対するSiの配合比率よりも高い
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の液体吐出ヘッド。 - 前記第1表面処理膜及び前記第2表面処理膜の少なくともいずれかは、前記遷移金属に対するSiの配合比が、表面処理膜の前記接着剤側の表面において、表面処理膜の内部よりも高い
ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。 - 前記第1表面処理膜及び前記第2表面処理膜の少なくともいずれかは、前記遷移金属に対するOの配合比が、表面処理膜の前記接着剤側の表面において、表面処理膜の内部よりも高い
ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。 - 前記第1表面処理膜及び前記第2表面処理膜は、第4族又は第5族から選ばれる遷移金属を少なくとも一種以上含んでいることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 前記第1表面処理膜及び前記第2表面処理膜は、Hf、Ta、Zrのうち、少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項6に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記表面処理膜は、ALD(Atomic Layer Deposition)法で成膜された膜であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 前記表面処理膜は、スパッタ(Physical Vapor Deposition)法で成膜された膜であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 請求項1ないし9の記載のいずれか液体吐出ヘッドを備えていることを特徴とする画像形成装置。
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