JP2015036451A - 蒸着用マスクおよび表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】マスクパターンの位置精度を向上させることが可能な蒸着用マスクを提供する。【解決手段】蒸着用マスクは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、マスク本体を保持すると共に、マスク本体の通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備える。調整フレームは、枠状の基材と、基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、マスク本体の外縁部と接着されると共に、基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、可動部材の選択的な領域に１または複数の切り込みが設けられている。【選択図】図８Ａ

Description

本開示は、蒸着等に用いられるマスクに加える応力を調整する蒸着用マスク、これを搭載したマスク装置、このマスク装置の製造装置および製造方法に関する。

例えば有機ＥＬ（Electro-Luminescence）素子を用いた表示装置の製造工程では、基板上に、蒸着用マスクを用いた真空蒸着法によって、赤（Ｒ），緑（Ｇ）および青（Ｂ）の画素毎に有機膜のパターンが形成される。

この蒸着用マスクは例えば次のように作製される。まず、電気鋳造法あるいはフォトエッチング法等によって、多数の微細な通過孔（開口）がパターン形成されたマスク本体（マスク箔）が形成される。この後、マスク本体に張力が付加された状態で、マスク本体がフレームに溶接などにより固定される。

ところが、マスク本体がフレームに固定された後には、マスク部分の張力を調整することが難しく、変形が生じた場合などに対応しにくい。また、マスク面内では、通過孔の形成密度あるいは膜厚分布等によって、応力にばらつきが生じる。更に、フレーム自体の変形量にも個体差があるため、予めマスクの変形量を予測することは困難である。そこで、マスクをフレームに固定後、その通過孔の位置を修正する手法が提案されている（特許文献１）。

上記特許文献１に記載の手法では、フレームに保持されるマスク本体と、マスク本体の少なくとも１辺に接着されたガイド部材と、ガイド部材を介してマスク本体に所定の張力を付加する張力付加手段とを備える。張力付加手段は、ガイド部材の側壁に形成されたネジ孔と、そのネジ孔に挿入可能であり先端部がフレームの側面に当接するネジとを含む。作業者がネジを締めたり緩めたりすることで、マスク本体に張力を加えることができる（例えば、特許文献１の明細書段落[００３１]〜[００３５]および図４参照）。

特開２００４−６２５７号公報

このような蒸着用マスクでは、パネルの量産化，大型化および高精細化等に伴い、マスク本体にパターン形成された通過孔（マスクパターン）の位置精度を向上することが望まれている。

本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、マスクパターンの位置精度を向上させることが可能な蒸着用マスクおよびそのような蒸着用マスクを用いた表示装置の製造方法を提供することにある。

本開示の第１の蒸着用マスクは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、マスク本体を保持すると共に、マスク本体の通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、調整フレームは、枠状の基材と、基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、マスク本体の外縁部と接着されると共に、基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、可動部材の選択的な領域に１または複数の切り込みが設けられている。

本開示の第１の蒸着用マスクでは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、これを保持しつつ通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備える。調整フレームにおいて、基材の少なくとも一辺に沿って可動部材が設けられ、この可動部材にマスク本体の外縁部が接着されている。可動部材の選択的な領域に１または複数の切り込みが設けられていることにより、マスク本体の通過孔位置を局所的に調整することができる。

本開示の第２の蒸着用マスクは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、マスク本体を保持すると共に、マスク本体の通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、調整フレームは、枠状の基材と、基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、マスク本体の外縁部と接着されると共に、基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、可動部材は、パターン領域に近接して設けられている。

本開示の第２の蒸着用マスクでは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、これを保持しつつ通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備える。調整フレームにおいて、基材の少なくとも一辺に沿って可動部材が設けられ、この可動部材にマスク本体の外縁部が接着されている。可動部材が、パターン領域に近接して設けられていることにより、マスク本体の通過孔位置を局所的に調整することができる。

本開示の第３の蒸着用マスクは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、マスク本体を保持すると共に、マスク本体の通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、調整フレームは、枠状の基材と、基材の各辺に沿って設けられ、マスク本体の外縁部と接着されると共に、それぞれが基材上において少なくとも一部が変形可能である複数の可動部材とを有し、複数の可動部材同士は互いに連結して設けられている。

本開示の第３の蒸着用マスクでは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、これを保持しつつ通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備える。調整フレームにおいて、基材の各辺に沿って複数の可動部材が設けられ、各可動部材にマスク本体の外縁部が接着されている。これらの可動部材同士が互いに連結して設けられていることにより、例えば加熱時（蒸着時および洗浄時など）に、可動部材同士の相対的な位置ずれに起因してマスク本体に皺（シワ）が発生しにくくなる。

本開示の第４の蒸着用マスクは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、マスク本体を保持すると共に、マスク本体の通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、調整フレームは、枠状の基材と、基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、マスク本体の外縁部と接着されると共に、基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、可動部材のマスク本体との対向面に凹部を有する。

本開示の第４の蒸着用マスクでは、 複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、これを保持しつつ通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備える。調整フレームにおいて、基材の少なくとも一辺に沿って可動部材が設けられ、この可動部材にマスク本体の外縁部が接着されている。可動部材が、マスク本体との対向面に凹部を有することにより、例えばマスク本体を調整フレームに接着する際などに生じる通過孔の変位が抑制される。

本開示の第１の表示装置の製造方法は、第１電極を形成する工程と、第１電極上に、発光層を含む有機層を上記本開示の第１の蒸着用マスクを用いて形成する工程と、有機層上に第２電極を形成する工程とを含むものである。

本開示の第２の表示装置の製造方法は、第１電極を形成する工程と、第１電極上に、発光層を含む有機層を上記本開示の第２の蒸着用マスクを用いて形成する工程と、有機層上に第２電極を形成する工程とを含むものである。

本開示の第３の表示装置の製造方法は、第１電極を形成する工程と、第１電極上に、発光層を含む有機層を上記本開示の第３の蒸着用マスクを用いて形成する工程と、有機層上に第２電極を形成する工程とを含むものである。

本開示の第４の表示装置の製造方法は、第１電極を形成する工程と、第１電極上に、発光層を含む有機層を上記本開示の第４の蒸着用マスクを用いて形成する工程と、有機層上に第２電極を形成する工程とを含むものである。

本開示の第１の蒸着用マスクでは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、これを保持しつつ通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備える。調整フレームでは、基材の少なくとも一辺に沿って設けられた可動部材にマスク本体の外縁部が接着されている。この可動部材の選択的な領域に１または複数の切り込みが設けられているので、マスク本体の通過孔位置を局所的に調整することができ、通過孔の位置を極め細やかに調整可能となる。よって、マスクパターンの位置精度を向上させることが可能となる。

本開示の第２の蒸着用マスクでは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、これを保持しつつ通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備える。調整フレームでは、基材の少なくとも一辺に沿って設けられた可動部材にマスク本体の外縁部が接着されている。この可動部材が、パターン領域に近接して設けられていることにより、マスク本体の通過孔位置を局所的に調整することができ、通過孔の位置を極め細やかに調整可能となる。よって、マスクパターンの位置精度を向上させることが可能となる。

本開示の第３の蒸着用マスクでは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、これを保持しつつ通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備える。調整フレームにおいて、基材の各辺に沿って設けられた複数の可動部材にマスク本体の外縁部が接着されている。これらの可動部材同士が互いに連結して設けられていることにより、例えば加熱時（蒸着時および洗浄時など）においてマスク本体に皺を生じにくくなる。よって、マスクパターンの位置精度を向上させることが可能となる。

本開示の第４の蒸着用マスクでは、複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、これを保持しつつ通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備える。調整フレームにおいて、基材の少なくとも一辺に沿って可動部材が設けられ、この可動部材にマスク本体の外縁部が接着されている。可動部材が、マスク本体との対向面に凹部を有することにより、例えばマスク本体を調整フレームに接着する際などに生じる通過孔の変位を抑制することができる。よって、マスクパターンの位置精度を向上させることが可能となる。

本開示の第１の表示装置の製造方法では、上記本開示の第１の蒸着用マスクを用いて有機層を形成するようにしたので、精度良く有機層のパターンを形成することができ、パネルの高精細化につながる。

本開示の第２の表示装置の製造方法では、上記本開示の第２の蒸着用マスクを用いて有機層を形成するようにしたので、精度良く有機層のパターンを形成することができ、パネルの高精細化につながる。

本開示の第３の表示装置の製造方法では、上記本開示の第３の蒸着用マスクを用いて有機層を形成するようにしたので、精度良く有機層のパターンを形成することができ、パネルの高精細化につながる。

本開示の第４の表示装置の製造方法では、上記本開示の第１の蒸着用マスクを用いて有機層を形成するようにしたので、精度良く有機層のパターンを形成することができ、パネルの高精細化につながる。

本開示の第１の実施の形態に係る蒸着用マスクの斜視図である。 マスク本体に形成された通過孔パターンの一例を示す拡大図である。 図１に示した調整フレームの斜視図である。 図１に示した調整フレームのＸＹ平面図である。 図３ＡにおけるＩ−Ｉ線における断面図である。 図１に示した調整機構の付近の構成を表すＸＹ平面図である。 図５に示したII−II線における断面図である。 図５に示したIII−III線における断面図である。 可動部材の固定機構の一例を示す断面図である。 可動部材の固定機構の一例を示す断面図である。 可動部材の固定機構の一例を示す断面図である。 可動部材のＸＹ拡大平面図である。 可動部材の拡大斜視図である。 図１に示した蒸着用マスクの作製方法の流れを表す図である。 図１に示した蒸着用マスクの作製方法を工程順に説明するための模式図である。 図１０Ａに続く工程を表す模式図である。 図１０Ｂに続く工程を表す模式図である。 図１０Ｃに続く工程を表す模式図である。 図１０Ｄに続く工程を表す模式図である。 局所的な位置ずれを説明するための模式図である。 局所的な位置調整を説明するための模式図である。 シミュレーションに用いた蒸着用マスクのＸＹ平面図である。 位置調整前のシミュレーション結果を表す特性図である。 辺全体の位置調整後のシミュレーション結果を表す特性図である。 辺全体の位置調整後のシミュレーション結果を表す特性図である。 局所的な位置調整を説明するための模式図である。 局所的な位置調整の詳細を説明するための模式図である。 局所的な位置調整の詳細を説明するための模式図である。 局所的な位置調整の詳細を説明するための模式図である。 本開示の第２の実施の形態に係る蒸着用マスクのＸＹ平面図である。 可動部材およびパターン領域間の距離と軸力との関係を表す特性図である。 シミュレーションに用いた蒸着用マスクのＸＹ平面図である。 図２１に示した蒸着用マスクにおける局所的な位置調整前のシミュレーション結果を表す特性図である。 図２１に示した蒸着用マスクにおける局所的な位置調整後のシミュレーション結果を表す特性図である。 本開示の第３の実施の形態に係る蒸着用マスク（調整フレーム）の斜視図である。 図２４Ａに示した連結部の拡大図である。 可動部材の当接面の構成を表す模式図である。 可動部材の裏面の構成を表す模式図である。 可動部材の裏面の構成を表す模式図である。 比較例に係る蒸着用マスク（調整フレーム）の斜視図である。 連結部の他の構成例を表す模式図である。 連結部の他の構成例を表す模式図である。 連結部の他の構成例を表す模式図である。 連結部の他の構成例を表す模式図である。 本開示の第４の実施形態に係る蒸着用マスクの断面図である。 比較例に係る蒸着用マスクの断面図である。 段差部の角部の構造の一例を表す断面模式図である。 段差部の角部の構造の一例を表す断面模式図である。 段差部の角部の構造の一例を表す断面模式図である。 図３３に示した蒸着用マスクの溶接前後の実測結果を表す特性図である。 図３２に示した蒸着用マスクの溶接前後の実測結果を表す特性図である。 位置調整装置の構成を表す図である。 図３７に示した操作装置を示す斜視図である。 位置調整装置に蒸着用マスクがセットされた状態を示す斜視図である。 適用例１に係る表示装置（有機ＥＬ表示装置）の構成を表す断面図である。 図４０に示したサブ画素の２次元配置例を表す模式図である。 図４０に示したサブ画素の２次元配置例を表す模式図である。 図４０に示した表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。 テレビジョン装置の構成を表す斜視図である。 デジタルスチルカメラの構成を表す斜視図である。 デジタルスチルカメラの構成を表す斜視図である。 パーソナルコンピュータの外観を表す斜視図である。 ビデオカメラの外観を表す斜視図である。 携帯電話機の構成を表す平面図である。 携帯電話機の構成を表す平面図である。 スマートフォンの構成を表す斜視図である。 スマートフォンの構成を表す斜視図である。

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。尚、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（切り込みを有する可動部材を用いた蒸着用マスクの例）
２．第２の実施の形態（通過孔のパターン領域に近接して可動部材を設けた蒸着用マスクの例）
３．第３の実施の形態（互いに連結された可動部材を用いた蒸着用マスクの例）
４．第４の実施の形態（マスク本体との対向面に凹部を有する可動部材を用いた蒸着用マスクの例）
５．適用例１（有機ＥＬ表示装置の例）
６．適用例２（電子機器の例）

＜第１の実施の形態＞
［構成］
図１は、本開示の第１の実施形態に係る蒸着用マスク（蒸着用マスク１）の斜視図である。蒸着用マスク１は、例えば有機ＥＬ素子を用いた表示デバイス（後述の有機ＥＬ表示装置）の製造過程において、有機層を蒸着形成する際に用いられるものである。この蒸着用マスク１は、例えばマスク本体５５と、このマスク本体５５を保持すると共に、所定の位置調整機能を有する調整フレーム５０とを備える。

マスク本体５５は、例えばニッケル（Ｎｉ）、インバー（Ｆｅ／Ｎｉ合金）および銅（Ｃｕ）などのうちの少なくとも１種を含む材料からなる金属箔であり、厚みは、例えば１０〜５０μｍ程度である。このマスク本体５５には、蒸着材料を通過させるための複数の通過孔（貫通孔）５５ａからなるパターン領域５５２が形成されている。

パターン領域５５２は、例えばマトリクス状、千鳥状に２次元配置された複数の通過孔５５ａからなり、１つの通過孔５５ａが、表示デバイスの１つの画素領域を形成するための要素領域に対応する。通過孔５５ａの形状（平面形状）は、例えば矩形状、方形状、円形状等である。図２に、通過孔５５ａの一例として、矩形状の通過孔（黒色の部分）を示す。この通過孔５５ａを介して、例えば低分子有機材料等の蒸着がなされる。例えば表示デバイスにおいて、ＲＧＢの３色の画素が形成される場合、その色数に応じた数（３つ）のマスクパターンが用いられる。図１に示した例では、３つのパターン領域５５２が例えばＹ軸方向に沿って配列（１×３の２次元配列）して形成されている。これらの３つのパターン領域５５２は、例えばＲ，Ｇ，Ｂのいずれかの色のパターンに相当している。このような構成により、例えば３枚の表示パネルに対して、一度に有機層の蒸着を行うことができるようになっている。

但し、パターン領域５５２の数は３つに限られず、１つであってもよいし、２つまたは４つ以上であってもよい。また、ここでは、パターン領域５５２が一軸方向（Ｙ軸方向）に沿ってのみ配列した構成を例示しているが、２軸方向（Ｘ軸方向およびＹ軸方向）に沿って２次元配列した構成であってもよい。詳細は後述するが、本実施の形態では、パターン領域５５２同士の間隙（パターン領域５５２の角に対応する部分）付近などに局所的に生じる応力に起因するマスクパターンの位置ずれを調整可能である。このため、後述する本実施の形態に特有の構成は、マスク本体５５に２つ以上のパターン領域５５２が形成される場合に特に有効である。

このようなパターン領域５５２を有するマスク本体５５は、例えば所定の張力が付加された状態で、調整フレーム５０に固着、支持されている。具体的には、マスク本体５５の外縁部５５３が、調整フレーム５０（詳細には後述の可動部材２０Ｘ，２０Ｙ）に、例えばスポット溶接（例えば電気抵抗またはレーザによるもの）により接着されている。以下、調整フレーム５０の具体的な構成について説明する。

（調整フレーム５０）
図３Ａおよび図３Ｂは、調整フレーム５０の構成を表したものである。尚、マスク本体５５およびパターン領域５５２に対応する部分を破線で示している。調整フレーム５０は、マスク本体５５の通過孔５５ａの位置を調整可能な機構を有している。この調整フレーム５０は、例えば開口１０ａを有する枠状のベースフレーム１０（基材）を有する。このベースフレーム１０上には、ベースフレーム１０の各辺の少なくとも一辺に沿って、可動部材が設けられている。ここでは、ベースフレーム１０の外形が例えば矩形状または方形状であり、その４つの辺のそれぞれに沿って可動部材２０Ｘ，２０Ｙが設けられている。

各可動部材２０Ｘ，２０Ｙは、概ね同じ構造を有している。可動部材２０Ｘは、Ｘ軸方向に沿って延在する細長い形状を有しており、可動部材２０Ｙは、Ｙ軸方向に沿って延在する細長い形状を有している。可動部材２０Ｘ，２０Ｙのいずれも、両端部にＺ軸方向に沿って貫通するネジ孔を有している。このネジ孔に固定ボルト２１が挿入され、可動部材２０Ｘ，２０Ｙがその両端部においてベースフレーム１０に固定されている（図４）。

可動部材２０Ｘ，２０Ｙは、ベースフレーム１０上において少なくとも一部が変形（湾曲）可能となっている。換言すると、可動部材２０Ｘ，２０Ｙは、例えばその両端部が固定された状態で、両端部以外の領域がＸ軸方向（またはＹ軸方向）に沿って移動可能となっている。可動部材２０Ｘ，２０Ｙには、後述の支持部材３０および調整機構４０を用いて引っ張り力または押圧力が付加されるようになっており、これにより上記変形（または移動、シフト）を生じさせる。

これらの可動部材２０Ｘ，２０Ｙにより構成される枠の外形のサイズは、マスク本体５５の外形のサイズと比べ概ね同じか、または多少大きく形成され、例えばＸ軸方向およびＹ軸方向における一辺が、例えば４００ｍｍ程度である。これらの可動部材２０Ｘ，２０Ｙの上面に、マスク本体５５の外縁部５５３が接着される。Ｚ軸方向において、ベースフレーム１０の開口１０ａ内に、マスク本体５５の３つのパターン領域５５２が収まるように、マスク本体５５が可動部材２０に固定される。

ベースフレーム１０上には、可動部材２０Ｘ，２０Ｙの側壁（外側の壁面）に沿って支持部材３０が設けられており、この支持部材３０の選択的な領域に調整機構４０が設けられている。ここでは、支持部材３０は、ベースフレーム１０の各辺に沿って４つ設けられており、それぞれが細長い形状を有する。各支持部材３０には、Ｚ軸方向に沿って貫通するネジ孔が所定の間隔で多数設けられている。このネジ孔に固定ボルト３０ａが挿入され、各支持部材３０がベースフレーム１０に固定されている。このように、支持部材３０は、ベースフレーム１０と別部材により構成されているが、支持部材３０とベースフレーム１０とが一体成型により形成されていてもよい。

ベースフレーム１０、支持部材３０および可動部材２０Ｘ，２０Ｙ等の材料は、処理対象となる素子基板（有機材料が蒸着される基板）の材料の熱膨張係数と同等の熱膨張係数を有する材料により構成されることが望ましい。例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）あるいはインバー材等が挙げられる。これは、蒸着時の温度変化に伴い、蒸着用マスク１と素子基板とを同期して膨張収縮させるとともに、膨張および収縮によるサイズの変化量を同等にするためである。また、ベースフレーム１０は、十分な厚みと高い剛性を有することで、その変形量を極力小さくできることができる。あるいは、搬送やハンドリング性を考慮して重量が設定されてもよい。また、可動部材２０Ｘ，２０Ｙの材料としては、比較的柔らかい、つまりヤング率が低い材料が使用されることが望ましい。高精度な微調整が可能になるからである。

調整機構４０は、支持部材３０を介して、可動部材２０Ｘ，２０Ｙ（即ちマスク本体５５）に張力（引っ張り力）を加える引きボルト４１と、押圧力を加える押しボルト４２とを備える。図５は、この調整機構４０付近のＸＹ平面構成を表したものである。図６Ａは、図５におけるＩ−Ｉ線断面図であり、図６Ｂは、図５におけるII−II線断面図である。尚、ここでは、可動部材２０Ｘ，２０Ｙのうち、可動部材２０Ｙに設けられた調整機構４０を例に挙げて説明する。また、図６Ａおよび図６Ｂでは、マスク本体５５と可動部材２０Ｙとの溶接ポイントをＬで示している。

引きボルト４１および押しボルト４２はペア（一組）となって隣り合って配置され、これらの引きボルト４１および押しボルト４２の複数組が、Ｘ軸方向およびＹ軸方向（ここではＹ軸方向）に沿って所定ピッチで配列されている。引きボルト４１および押しボルト４２としては、例えばＭ２（直径２ｍｍ）〜Ｍ５（直径５ｍｍ）のボルトが用いられるが、これらに限られない。引きボルト４１および押しボルト４２間の距離、および１組のボルト（４１および４２）ごとのピッチは適宜設定可能である。

支持部材３０および可動部材２０Ｙは、所定の距離（間隙）ｔを介して配置されている。距離ｔは、可動部材２０Ｙの変形量（Ｙ軸方向に沿ったシフト量）、引きボルト４１および押しボルト４２の寸法等を考慮して適宜設定され得る。

引きボルト４１は、図６Ａに示したように、ヘッド４１ａを有する。可動部材２０ＹにはＸ軸方向に沿ってネジ孔２２が設けられ、支持部材３０には、ネジ孔２２と同軸方向に沿って貫通孔３２が設けられている。貫通孔３２にはネジ山は設けられていない。引きボルト４１は、貫通孔３２によって支持されると共に、可動部材２０Ｙのネジ孔２２に装着されている。ヘッド４１ａが支持部材３０に当接した状態で引きボルト４１が締められることで、引きボルト４１の動力が可動部材２０Ｙに作用し、可動部材２０Ｙが支持部材３０に接近する方向（外側）に向かってシフトするようになっている。

通過孔５５ａの位置を調整する際には、この引きボルト４１を用いることにより、マスク本体５５（可動部材２０Ｙ）に、その外縁部５５３からマスク本体５５の外側へ向かって引っ張り力（張力）を付加できる。その結果、通過孔５５ａの位置が、マスク本体５５の外側へ向かってシフトするように調整される。

押しボルト４２は、図６Ｂに示したように、ヘッド４２ａを有する。支持部材３０にはＸ軸方向に沿ってネジ孔３３が設けられており、押しボルト４２はそのネジ孔３３に装着されることにより、支持部材３０により支持される。押しボルト４２の先端（端部）４２ｂは、可動部材２０Ｙの側面２４に当接している（可動部材２０Ｙは、押しボルト４２の先端４２ｂの当接領域２４ａを有する）。押しボルト４２の先端４２ｂが可動部材２０Ｙの側面２４に当接した状態で、押しボルト４２が締められることにより、押しボルト４２の動力が可動部材２０Ｙに作用し、可動部材２０Ｙは支持部材３０から離れる方向（内側）に向かってシフトするようになっている。

通過孔５５ａの位置を調整する際には、この押しボルト４２を用いることにより、マスク本体５５（可動部材２０Ｙ）に、その外縁部５５３からマスク本体５５の内側（中心側）に向かって押圧力を付加できる。その結果、通過孔５５ａの位置が、マスク本体５５の内側へ向かってシフトするように調整される。

これらの引きボルト４１および押しボルト４２のネジ部分には、ナットが螺着されていてもよい。その場合、ナットの回転動力が、そのボルトを介して可動部材２０Ｙに伝達される。

上記のように、引きボルト４１および押しボルト４２を含む調整機構４０により、マスク本体５５に張力および押圧力の両方の応力を加えることができる。このような調整機構４０が可動部材２０Ｘ，２０Ｙの双方に設けられることにより、マスク本体５５の通過孔５５ａの位置を２軸方向（Ｘ軸方向およびＹ軸方向）に沿って調整することができる。

蒸着用マスク１は、マスクパターンの位置調整後の、通過孔５５ａの位置を保持する保持機構（可動部材２０Ｘ，２０Ｙの固定機構）を備えていてもよい。図７Ａ〜図７Ｃは、その固定機構の例をそれぞれ示す断面図である。

図７Ａに示す例では、可動部材２０Ｙの上面側から、挿入孔２０ｂに固定ボルト２５が挿入され、ベースフレーム１０のネジ孔１０ｃに装着されることにより、ベースフレーム１０に可動部材２０Ｙが固定される。挿入孔２０ｂのサイズは、可動部材２０Ｙが、マスクパターンの位置調整のためにＸ軸方向に沿って動いたとしても、ネジ孔１０ｃが可動部材２０Ｙによって覆われないようなサイズとなっている。

図７Ｂに示す例では、支持部材３０の上面側から止めネジ３５により押しボルト４２が固定される。図示しないが、引きボルト４１も同様に止めネジで固定される。

図７Ｃに示す例では、例えば押しボルト４２にナット４３が締結されている。図示しないが引きボルト４１にも、同様にナットが締結される。

なお、可動部材２０Ｘ，２０ＹのエッジにはＲ加工または段差加工が施されていてもよい。可動部材２０Ｘ，２０Ｙをシフトさせる際に、ベースフレーム１０との引っかかりを防止できるためである。また、可動部材２０Ｘ，２０Ｙのベースフレーム１０と摺接する部分には、摩擦抵抗を低くする加工が施されていてもよい。

図８Ａおよび図８Ｂは、可動部材（ここでは可動部材２０Ｙを例に挙げる）の詳細構成を表したものである。蒸着用マスク１では、上記のような可動部材２０Ｘ，２０Ｙのうちの選択的な領域に、切り込み（スリット）２３が形成されている。切り込み２３は、例えば可動部材２０Ｙの幅方向（Ｘ軸方向）に沿って延在するように設けられている。この切り込み２３は、例えば、図３Ｂに示した選択的な領域Ａ内に、１または複数設けられている。具体的には、切り込み２３は、Ｘ軸方向における両側に（２つの側面に開口して）設けられている。可動部材２０Ｙの固定機構を構成するネジ孔２０ｂは、切り込み２３同士の間の領域に配置されている（切り込み２３は、固定ボルト２５（ネジ孔２０ｂ）等（固定機構）の設置箇所を避けて形成されている）。また、切り込み２３の端部には、切り込み２３に連通して、孔２３ａが形成されている。

切り込み２３の幅ｄは、例えば１〜１０ｍｍ程度とすることができる。但し、マスク本体５５との溶接スペースおよび固定機構の設置スペースを確保するために、幅ｄはできるだけ小さい方が望ましい。また、孔２３ａと可動部材２０Ｙ側面と間の距離（幅）Ｚ（Ｚ＝（可動部材の幅）−（切り込み長さＬ））は、例えば０．５〜２ｍｍ程度である。孔２３ａのＸＹ平面形状は例えば円形状であり、その径（直径）は、切り込み２３の幅ｄよりも大きく、例えば２〜５ｍｍである。孔２３ａの径についても、溶接スペース等を考慮してできるだけ小さく設計されることが望ましい。

（マスク作製、位置調整方法）
上記のような調整フレーム５０を有する蒸着用マスク１は、例えば次のようにして作製され、通過孔５５ａの位置が調整（修正）される。図９は、蒸着用マスク１の作製、洗浄、位置調整の各工程の流れを表したものである。図１０Ａ〜図１０Ｅは、各工程を模式的に表したものである。このように、まず、所定の通過孔５５ａからなるパターン領域５５２を含むマスク本体５５を、例えば電鋳（電気鋳造）により形成する（ステップＳ１１，図１０Ａ）。この後、形成したマスク本体５５を架張する（所定の張力Ｔを印加する）（ステップＳ１２，図１０Ｂ）。この一方で、調整フレーム５０を用意する。あるいは、必要な場合には、調整フレーム５０を組み立てる（ステップＳ１６）。

続いて、マスク本体５５に張力を付加した状態で、調整フレーム５０への溶接を行う（ステップＳ１３，図１０Ｃ）。このとき、マスク本体５５と調整フレーム５０の可動部材２０Ｘ，２０Ｙとを溶接ポイントＬを介して接着する。溶接後、マスク本体５５の張力を解放する（ステップＳ１４，図１０Ｄ）。これにより、マスク本体５５が調整フレーム５０に固着される。

この後、形成したパターン領域５５２（通過孔５５ａの位置）を、カメラ１１１を用いて測定する（ステップＳ１５，図１０Ｅ）。そして、通過孔５５ａの位置精度が許容範囲内であるか判定し（ステップＳ１７）、位置精度が不十分な場合（ステップＳ１７のＮ）には、通過孔５５ａの位置を調整（修正）する（ステップＳ１８）。この通過孔５５ａの調整（修正）ステップについては後述する。ステップＳ１８の修正後は、再びステップＳ１５へ戻る。

一方、十分な位置精度が得られている場合（ステップＳ１７のＹ）には、蒸着用マスク１が蒸着処理に使用される。蒸着処理後には、蒸着用マスク１を洗浄し（ステップＳ１９）、洗浄後、上記と同様の測定（ステップＳ２０）および位置精度の判定（ステップＳ２１）を行う。位置精度が不十分であれば（ステップＳ２１のＮ）、通過孔５５ａの位置を調整（修正）する（ステップＳ２２）。位置精度が十分であれば（ステップＳ２１のＹ）、マスクの位置調整を終了する。

（位置調整の詳細）
本実施の形態では、上述のように、調整フレーム５０が可動部材２０Ｘ，２０Ｙおよび調整機構４０を備えることにより、マスク本体５５のフレーム溶接後に通過孔５５ａの位置を調整することができる（ステップＳ１８，Ｓ２２）。この際、例えば可動部材２０Ｙの選択的な領域Ａに切り込み２３が設けられていることにより、通過孔５５ａの位置を局所的に調整することが可能となる。

ここで、図１１に、フレーム溶接後のマスク本体５５の一部を拡大したものを模式的に示す。このように、マスク本体５５では、パターン領域５５２の角部（矩形状の四隅）付近において、他の部分よりも通過孔５５ａの位置ずれ（図１１中のＸ）が生じ易い。これは、通過孔５５ａの形成領域と非形成領域との間で、剛性に差があるためである。また、この剛性差に起因する位置ずれは、特に張力解放時に生じ易い。このような局所的な位置ずれＸは、発生箇所については特定し易いものの、そのずれ量にばらつきがあり、予め見積もっておくことは困難である。位置ずれＸを調整するために、図１２に示したように選択的な領域Ａに、ずれ量に応じた張力Ｔ１を印加することが望まれる。

以下、シミュレーション結果を示す。図１３は、シミュレーションに用いた蒸着用マスク１のＸＹ平面構成を表したものである。１×３のパターン領域５５２の形成領域の外縁（１８０ｍｍ×３００ｍｍ）の各点ｐ１の位置を測定した。図１４は、フレーム溶接後（張力解放後）、位置調整前の測定点ｐ１の位置を表したものである。目標値（位置ずれのない本来の通過孔５５ａの位置）に対し、実測値では、全体的に内側へ凹むように位置ずれが生じており、そのずれ量は約−１６μｍ〜＋１６μｍとなった。一方、図１５は、図１４の位置ずれに対し、可動部材２０Ｘ，２０Ｙの各辺全体を調整機構４０を用いてシフトさせ、位置調整を行った後の測定点ｐ１の位置を表したものである。これにより、ずれ量を約−８μｍ〜＋８μｍの範囲に抑制することができるが、パターン領域５５２の角部に対応する領域Ａにおいて生じた局所的な位置ずれ（図１６）を解消できず、改善が望まれる。

そこで、本実施の形態では、可動部材２０Ｙの領域Ａに切り込み２３を有することにより、図１７に示したように、可動部材２０Ｙを容易に局所的に変形させる（シフトさせる）ことが可能となる。これは以下のような理由による。図１８Ａ〜図１８Ｃを参照して、領域Ａ付近の作用について説明する。尚、図１８Ａ〜１８Ｃにおける矢印は、調整のために加える力の方向を模式的に表しており、図１８Ａの右図に示したような可動部材２０Ｙの局所的な変形を生じさせるために、領域Ａの中央付近と、その上下の各部分とに対して互いに逆向きに力を加えることを表している。

即ち、可動部材２０Ｙを局所的にシフトさせる場合（図１８Ａの右図）、圧縮または引張応力が、領域ａ１に集中する（図１８Ａの左図）。このため、図１８Ｂに示したように、可動部材２０Ｙに切り込み２３を加えることで、上記のような領域ａ１への応力集中を緩和することができる。

一方、切り込み２３を加えた場合、切り込み２３の端部（領域ａ２）に応力が集中する（図１８Ｂ）。このため、切り込み２３の長さＬを大きくし過ぎると可動部材２０Ｙが破断することがある。一方で、切り込み２３の長さＬが小さ過ぎると、可動部材２０Ｙの変形に要する力が増大する。そこで、図１８Ｃに示したように、切り込み２３の端部に孔２３ａを加える。これにより、切り込み２３の端部における応力集中を抑制することができる。よって、可動部材２０Ｙを破断させることなく、距離Ｚを上述したような値（０．５ｍｍ〜２ｍｍ程度）に設定することができ、切り込み２３を十分な長さで形成可能となる。

上記のような理由から、可動部材２０Ｙに切り込み２３および孔２３ａを設けることにより、それらを設けない場合に比べ、可動部材２０Ｙの局所的な変形に要する力（例えばボルト軸力）を軽減することができる。これにより、図１２に示したように、領域Ａにずれ量に応じた張力Ｔ１を印加して局所的な位置ずれを修正することができる。

例えば、孔２３ａの径を３ｍｍとし、距離Ｚを１ｍｍとした場合には、ボルト軸力を約１／１０以下にまで軽減することができる。具体的には、通過孔５５ａの１０μｍ程度の局所的な位置ずれを調整する際には、可動部材２０Ｙの幅が約１６ｍｍである場合、２０ｍｍ幅の領域内において、可動部材２０Ｙを８０μｍ程度シフトさせる必要がある。ここで、可動部材２０Ｙの幅（Ｘ軸方向に沿った長さ）を小さくしていくことにより、調整に要する軸力を低減することは可能であるが、溶接スペースあるいは固定機構のスペースを確保するために、幅の狭小化にも限界がある。さらに、可動部材２０Ｙの材料をヤング率の小さいものに変更することによっても、上記軸力を低減することはできる。しかしながら、溶接が行われること、および被蒸着基板との熱膨張係数差が小さいことが求められるため、可動部材２０Ｙの材料として樹脂やアルミニウム等を用いることは困難である。可動部材２０Ｙとしては、上述したように熱膨張係数の観点からＳＵＳやインバーなどの材料が用いられることが望ましい。このため、可動部材２０Ｙに切り込み２３が設けられていないと、必要なボルト軸力はおよそ１トンとなり、調整機構がかなり大がかりなものとなる。本実施の形態では、切り込み２３および孔２３ａを有することにより、そのようなボルト軸力を大幅に軽減することができ、上述の調整機構４０（引きボルト４１および押しボルト４２）を用いて容易に局所的な位置調整が可能となる。

また、可動部材２０Ｙに切り込み２３を加えることにより、可動部材２０Ｙそのものの剛性は低下するものの、位置調整後には可動部材２０Ｙが例えば図７Ａ〜図７Ｃに示したような固定機構により固定されることから、蒸着用マスク１としては十分な剛性を維持することが可能である。

特に、マスク本体５５のＸ軸方向およびＹ軸方向の少なくとも一方に沿って、２以上のパターン領域５５２が形成される場合（多面取りの場合）に、局所的な位置ずれＸの発生箇所が増えることから、切り込み２３を設けるメリットが大きくなる。更なる生産性の向上および製造コストの削減などのニーズに対応することが可能となる。また、ここでは、パターン領域５５２のＸＹ配列が１×３の場合について説明したが、このような構成に限らず、ＸＹ配列がｍ×ｎ（ｍ，ｎは１以上の整数）の場合に広く適用可能である。また、切り込み２３は、全ての可動部材２０Ｘ，２０Ｙに設けられていてもよいし、選択的な軸方向の可動部材（２０Ｘまたは２０Ｙ）にのみ設けられていてもよい。但し、局所的な位置ずれが多く発生する軸方向に沿って延在する可動部材（本実施の形態では可動部材２０Ｙ）に、切り込み２３が設けられていることが効果的である。

以上説明したように、本実施の形態では、複数の通過孔５５ａからなるパターン領域５５２を含むマスク本体５５と、これを保持しつつ通過孔５５ａの位置を調整可能な機構を有する調整フレーム５０とを備える。調整フレーム５０では、ベースフレーム１０の各辺に沿って可動部材２０Ｘ，２０Ｙが設けられ、この可動部材２０Ｘ，２０Ｙにマスク本体５５の外縁部５５３が接着されている。これらの可動部材２０Ｘ，２０Ｙのうちの選択的な領域（例えば可動部材２０Ｙの領域Ａ）に、複数の切り込み２３が設けられているので、マスク本体の通過孔位置を局所的に調整することができ、通過孔５５ａの位置を極め細やかに調整可能となる。よって、マスクパターンの位置精度を向上させることが可能となる。

また、可動部材に切り込み２３を加えた構造とすることにより、マスク本体５５の設計（応力緩和領域、テスト開口など）を維持したまま、上記の局所的調整を行うことができる。

更に、マスクを製造する工程において電気鋳造の際に生じる内部残留歪み、あるいはフォトエッチングの各処理毎の位置の精度劣化に応じた精度劣化も修正可能となる。また、マスクの製造工程において、マスクパターンの位置精度のスペックアウトの発生を抑制でき、製造における歩留り改善につながる。さらに蒸着用マスク１を後述のように蒸着処理に使用した後、洗浄工程などを経ることによりマスクパターンの位置がずれてしまったとしても、本開示によればそのずれを修正することができる。これにより、マスク装置の延命にも貢献できる。

加えて、後述の有機ＥＬ表示装置において、開口率と精細度とは互いにトレードオフの関係にある。製造工程において、本実施形態に係る蒸着用マスク１が用いられることにより、通過孔の位置精度が向上することから、上記トレードオフの限界ラインを超え、高開口率および高精細の表示デバイスを実現できる。開口率がアップするということは、つまり、有機ＥＬ表示デバイスの高輝度化および長寿命化が可能となる。

以下、本開示の他の実施の形態（第２〜第４の実施の形態）の蒸着用マスクについて説明する。尚、上記第１の実施の形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、適宜説明を省略する。

＜第２の実施の形態＞
図１９は、本開示の第２の実施形態に係る蒸着用マスクのＸＹ平面図である。但し、マスク本体５５については破線で示している。本実施の形態の蒸着用マスクも、上記第１の実施の形態と同様、例えば有機ＥＬ素子を用いた表示デバイスの製造過程において用いられるものであり、例えばマスク本体５５と、このマスク本体５５を保持すると共に、所定の位置調整機能を有する調整フレーム５０とを備える。調整フレーム５０は、ベースフレーム１０上に可動部材２０Ｘ，２０Ｙおよび支持部材３０を備えると共に、調整機構４０を有している。

上記第１の実施の形態では、可動部材２０Ｙに切り込み２３を設けることにより、局所的な通過孔位置を調整したが、本実施の形態では、切り込み２３を設けることなく、上記と同様の局所的な位置調整を実現可能なマスク構成について説明する。

具体的には、本実施の形態では、可動部材２０Ｘ，２０Ｙのうちの少なくとも一方が、パターン領域５５２に近接して配置されている（パターン領域５５２の近傍に配置されている）。ここでは、可動部材２０Ｙが、上記第１の実施の形態の場合よりもパターン領域５５２に近接した構成となっている。本実施の形態では、可動部材２０Ｙが切り込み２３および孔２３ａを有していない点、およびその可動部材２０Ｙ（詳細には溶接ポイント）とパターン領域５５２の端部との間の距離ｓが所定の値以下となるように設計されている点で、上記第１の実施の形態と異なっている。

図２０に、距離ｓとボルトが発揮する軸力Ｎとの関係の一例について示す。このように、どのような種類のボルトを用いた場合であっても、その軸力Ｎと距離ｓとの間には相関があることから、局所的な位置調整のために必要とされる軸力（Ｎ１）から最適距離（ｓ１）を設定することができる。

このように、本実施の形態では、可動部材２０ＹのＸ軸方向における位置が、必要とされる軸力に応じて適切に設定することにより、より小さな軸力で局所的な位置調整を実現できる。換言すると、距離ｓの適切な設定により、局所的な位置調整を行うために必要な軸力をコントロールすることができる。

以下、本実施の形態のシミュレーション結果を示す。図２１は、シミュレーションに用いた蒸着用マスクのＸＹ平面構成を表したものである。開口１０ａが９００ｍｍ×９００ｍｍのベースフレーム１０を用い、マスク本体５５としては、厚み１２ｍｍのインバーよりなる箔に１×２のパターン領域５５２を形成したものを用いた。また、可動部材２０Ｙとパターン領域５５２との間の距離ｓを３０ｍｍとした。このようなマスクパターンにおいて、１×２のパターン領域５５２の外縁の各点ｐ２の位置を測定した。図２２は、フレーム溶接後（張力解放後）、局所的な位置調整前の測定点ｐ２の位置を表したものである。目標値に対し、実測値では、局所的な領域において位置ずれが生じており、そのずれ量（最大値）はＸ軸方向において約−１３μｍ〜＋１３μｍ、Ｙ軸方向において約−６μｍ〜＋６μｍであった。一方、図２３は、図２２の位置ずれに対し、局所的な位置調整を行った後の測定点ｐ２の位置を表したものである。ずれ量を、Ｘ軸方向において約−３μｍ〜＋３μｍ、Ｙ軸方向において約−２μｍ〜＋２μｍの範囲にまで抑制することができた。

以上のように本実施の形態では、マスク本体５５の通過孔位置を調整可能な機構を有する調整フレーム５０において、ベースフレーム１０の少なくとも一辺に沿って設けられた可動部材（例えば可動部材２０Ｙ）が、パターン領域５５２に近接して設けられている。これにより、マスク本体５５の通過孔位置を局所的に調整することができ、通過孔５５ａの位置を極め細やかに調整可能となる。よって、上記第１の実施の形態と同等の効果を得ることができる。

上記第１および第２の実施の形態では、通過孔５５ａの位置を局所的に調整するための手法として、互いに異なる２つの手法について述べたが、これらの手法は、それぞれ単独で用いられてもよいし、組み合わせて用いられてもよい。例えば、上記第２の実施の形態において説明したような可動部材とパターン領域端部との距離を最適化する手法は、実際には、適用が困難なケースが存在する。具体的には、マスク本体５５のパターン領域５５２の周囲には、マスク架張時の応力を緩和するための開口（応力緩和領域）や、蒸着後のデバイス性能確認（ＥＬ発光等）のためのテスト用の開口が設けられている。このため、パターン領域５５２に近接して可動部材を配置しにくい場合がある。尚、応力緩和領域とは、例えばマスク組立工程（特に張力解放工程）において応力の集中を軽減するために設けられ、通過孔位置の設計目標値からのずれを低減することができる。マスクパターンによっては応力緩和領域を設けないと、架張時において大幅なずれが発生したり、応力の集中箇所でマスクが破断したりするおそれもある。また一方で、可動部材をパターン領域５５２に近づけることにより、可動部材のシフト量に対する位置調整の感度が高くなる。このため、可動部材のシフトをより高精度にコントロールすることが望ましく、調整のための工数が増したり、調整装置のコストアップに繋がる可能性もある。これらの場合には、上記第１の実施の形態において説明したような切り込み２３を設ける構造を併用してもよい。即ち、可動部材およびパターン領域５５２の位置関係を考慮しつつ、切り込み２３および孔２３ａの寸法および形状を適切に設定することにより、通過孔５５ａの位置精度を設計目標値に近づけるようにしてもよい。

＜第３の実施の形態＞
図２４Ａは、本開示の第３の実施形態に係る蒸着用マスク（調整フレーム５０Ａ）のＸＹ平面図である。但し、マスク本体５５の図示を省略し、パターン領域５５２に対応する領域を破線で示している。本実施の形態の蒸着用マスクも、上記第１の実施の形態と同様、例えば有機ＥＬ素子を用いた表示デバイスの製造過程において用いられるものである。調整フレーム５０Ａは、上記第１の実施の形態の調整フレーム５０と同様、マスク本体５５を保持すると共に、例えばベースフレーム１０上に可動部材２０Ｘ，２０Ｙおよび支持部材３０を備えると共に、調整機構４０を有している。

但し、本実施の形態では、ベースフレーム１０上に、可動部材２０Ｘ，２０Ｙが互いに連結して設けられている（可動部材２０Ｘ，２０Ｙが連結部Ｃを介して設けられている）点で、上記第１の実施の形態と異なっている。つまり、本実施の形態では、マスク組み立て工程において、可動部材２０Ｘ，２０Ｙが一体化された状態で、ベースフレーム１０の所定の位置に設置される。

図２４Ｂは、連結部Ｃ付近を拡大したものである。連結部Ｃは、可動部材２０Ｘ，２０Ｙが互いに当接する面に、一体化のための機構を有している。例えば、図示したように、可動部材２０Ｘ，２０Ｙのそれぞれに、互いに連通するねじ孔が設けられており、これらのねじ孔にボルト２６が装着されることにより、可動部材２０Ｘ，２０Ｙが連結した構成となっている。

図２５は、可動部材２０Ｘの可動部材２０Ｙとの当接面の構成を拡大した模式図である。このように、可動部材２０Ｘの当接面には、ボルト２６を挿入するためのネジ孔２７ａが設けられると共に、凹部２７ｂが形成されている。凹部２７ｂのパターン形状は特に限定されないが、可動部材２０Ｙと連結した状態で空隙を形成し、洗浄液などを排出するための（排液用の）溝として機能するように構成されている。このような凹部２７ｂは、可動部材２０Ｘ，２０Ｙの各当接面のうち一方にのみ形成されていてもよいし、両方に形成されていてもよい。

図２６Ａは、可動部材２０Ｙの裏面（ベースフレーム１０側の面）の構成を模式的に表したものである。図２６Ｂは、可動部材２０Ｘの裏面（ベースフレーム１０側の面）の構成を模式的に表したものである。このように、可動部材２０Ｘ，２０Ｙの裏面にも、上記凹部２７ｂと同様の排液用の凹部２７ｃ１，２７ｃ２，２７ｄが設けられている。凹部２７ｃ１，２７ｃ２，２７ｄの各形状パターンは特に限定されないが、例えば、図２６Ａに示したように、可動部材２０Ｙでは、固定ボルト２５の挿入されるネジ孔２０ｂを有する場合、このネジ孔２０ｂの付近には、ストライプ状あるいは格子状の凹部２７ｃ２が設けられている。ネジ孔２０ｂから比較的離れた箇所では、広い底面積で凹部２７ｃ１が設けられている。また、図２６Ｂに示したように、可動部材２０Ｘでは、例えば延在方向（Ｘ軸方向）に沿ってストライプ状の凹部２７ｄが設けられている。

本実施の形態では、上記のように、調整フレーム５０Ａにおいて可動部材２０Ｘ，２０Ｙが連結された（一体化された）構造を有することにより、例えば加熱時（蒸着時および洗浄時など）に、マスク本体５５に皺（シワ）などが発生することを抑制することができる。

ここで、本実施の形態の比較例として、図２７に、可動部材２０Ｘ，２０Ｙを個々に（一体化せずに）、ベースフレーム１０上へ設置してなる調整フレームの一例を示す。この例では、例えばベースフレーム１０上の各所定の位置に、計４本の可動部材２０Ｘ，２０Ｙが個別に設置され、例えば可動部材２０Ｘ，２０Ｙの各両端が固定ボルト２１により固定される。このようにして組み立てた調整フレームにマスク本体５５を溶接して作製した蒸着用マスクでは、加熱時に皺が発生することがある。この結果、被蒸着基板（ガラスなど）とマスク本体５５との密着性が損なわれ、蒸着時にパターンの位置精度が低下することがある。

これに対し、本実施の形態の調整フレーム５０Ａでは、可動部材２０Ｘ，２０Ｙが連結部Ｃにより一体化された状態で、ベースフレーム１０上に設置され、固定される。このため、加熱により、マスク本体５５あるいは調整フレーム５０Ａの温度が上昇し、Ｘ軸方向およびＹ軸方向における張力バランスが変化した場合にも、可動部材２０Ｘ，２０Ｙ同士のＸ，Ｙ軸方向における相対的なずれ（相対的な位置ずれ）が生じにくい。また、通過孔５５ａの位置調整（修正）時などに、マスク本体５５の四隅を微調整した場合にも上記のような相対的なずれが生じにくい。これにより、マスク本体５５の皺の発生を抑制できる。よって、マスクパターンの位置精度を向上させることが可能となる。

一方で、可動部材２０Ｘ，２０Ｙを一体化した場合には、洗浄時などに蒸着装置に残液が生じ易い。このため、可動部材２０Ｘ，２０Ｙの当接面および裏面などに、排液用の凹部（例えば上述の凹部２７ｂ，２７ｃ１，２７ｃ２，２７ｄ）が設けられていることにより、上記のような残液を抑制することができる。

尚、連結部Ｃの構造としては、上記のボルト２６を用いるものの他にも、様々な連結構造を用いることができる。その一例を、図２８〜図３１に示す。図２８および図２９の例では、可動部材２０Ｘ，２０Ｙの当接面（当接部分）に、互いに嵌合する凹凸形状が作り込まれている。このような可動部材２０Ｘ，２０Ｙの嵌め合いによって、それらが連結されていてもよい。また、図３０および図３１に示したように、可動部材２０Ｘ，２０Ｙが他の接続用部品２０ＸＹ（接続用部材）を用いて連結されていてもよい。接続用部品２０ＸＹは、可動部材２０Ｘ，２０Ｙのそれぞれと嵌合する形状を有し、可動部材２０Ｘ，２０Ｙに埋め込まれている。また、これらの形状の嵌め合いと、ボルトとの組み合わせにより連結部Ｃが構成されていてもよい。

＜第４の実施の形態＞
図３２は、本開示の第４の実施形態に係る蒸着用マスクの断面構造を表したものである。本実施の形態の調整フレームを含む蒸着用マスクも、上記第１の実施の形態と同様、例えば有機ＥＬ素子を用いた表示デバイスの製造過程において用いられるものである。また、本実施の形態の調整フレームは、上記第１の実施の形態の調整フレーム５０と同様、マスク本体５５を保持すると共に、ベースフレーム１０上に可動部材（可動部材２１Ｘ，２１Ｙおよび支持部材３０を備えると共に、調整機構４０を有している。

但し、本実施の形態では、可動部材２１Ｘ，２１Ｙのマスク本体５５との対向面に、段差部２８（凹部）を有している。段差部２８は、例えば可動部材２１Ｘ，２１Ｙの上面のうち外側（支持部材３０に近い側）の選択的な領域に設けられている。これにより、可動部材２１Ｘ，２１Ｙのそれぞれと、マスク本体５５との接触面積（溶接面積）を低減することができる。溶接ポイントＬは、可動部材２１Ｘ，２１Ｙの段差部２８を避けて（凸面に）設けられている。尚、可動部材２１Ｘ，２１Ｙは、マスク本体５５との対向面に段差部２８を有していること以外は、上記第１の実施の形態の可動部材２０Ｘ，２０Ｙと同様の構成を有している。

尚、段差部２８の角部（凹部のマスク本体側の縁部分）には、図３４Ａに示したような曲面が形成されていることが望ましい。あるいは、図３４Ｂおよび図３４Ｃに示したような傾斜面（テーパ面）が形成されていてもよい。このような構成により、段差によるマスク本体５５の損傷等が生じることを抑制することができる。

本実施の形態では、上記のように、可動部材２１Ｘ，２１Ｙがマスク本体５５との対向面に段差部２８を有することにより、例えばマスク本体５５を調整フレームに接着する際などに生じる通過孔５５ａの変位を、後述するメカニズムにより、抑制することができる。よって、マスクパターンの位置精度を向上させることが可能となる。

ここで、本実施の形態の比較例として、図３３に、調整フレームとして段差部２８を持たない可動部材２０Ｘ，２０Ｙを用いた蒸着用マスクの断面構成を示す。上述したように、マスク本体を調整フレームに接着する際には、マスク本体５５に張力を付加した状態で、マスク本体５５を調整フレームに溶接（例えば電気抵抗またはレーザ等による）する。このとき、マスク本体５５と可動部材２０Ｘ，２０Ｙの上面とが面内の全域Ｅにおいて均等に接触せず、浮き（非接触部分）などが生じ易い。このような場合、力を加えて強制的に浮きをなくし、可動部材２０Ｘ，２０Ｙとマスク本体５５とを接触させることがあり、これによって通過孔５５ａが変位してしまうことがある。

そこで、本実施の形態では、可動部材２１Ｘ，２１Ｙがマスク本体５５との対向面に段差部２８を有することにより、可動部材２１Ｘ，２１Ｙのそれぞれと、マスク本体５５との接触面積（溶接面積）を低減する。これにより、上記のような浮き（非接触部分）の発生を抑制することができ、マスク本体５５を調整フレームに接着する際などに生じる通過孔５５ａの変位を抑制することができる。よって、マスクパターンの位置精度を向上させることが可能となる。

以下、本実施の形態のマスクパターンの実測結果を示す。この際、開口１０ａが９００ｍｍ×９００ｍｍ、厚みが１２ｍｍのベースフレーム１０を用い、マスク本体５５としては、厚み１２ｍｍのインバーよりなる箔に１つのパターン領域５５２を形成したものを用いた。このようなマスクパターンにおいて、パターン領域５５２の外縁の各点の位置を測定した。図３５は、図３３に示した可動部材を用いた場合のフレーム溶接直後の測定点の位置を表したものである。溶接前の基準値に対し、溶接後には位置ずれが生じており、そのずれ量（最大値）はＸ軸方向において約−７μｍ〜＋７μｍ、Ｙ軸方向において約−１０μｍ〜＋１０μｍであった。一方、図３６は、本実施の形態の可動部材２１Ｘ，２１Ｙを用いた場合のフレーム溶接直後の測定点の位置を表したものである。ずれ量を、Ｘ軸方向において約−３μｍ〜＋３μｍ、Ｙ軸方向において約−５μｍ〜＋５μｍとなり、段差を設けない場合に比べ位置ずれ量を約５０％も低減することができた。

上記第１〜第４の実施の形態に係る蒸着用マスクでは、上述したような位置調整が手動で行われてもよいし、以下に説明するような装置（位置調整装置）を用いて自動で行われてもよい。

[位置調整装置の例]
図３７は、上述した各実施の形態の蒸着用マスクを作成するための位置調整装置（位置調整装置４００）の構成を表したものである。位置調整装置４００は、支持ベース４０１と、支持ベース４０１上に設けられたベースフレーム支持部４０４と、ベースフレーム支持部４０４の外側に配置された、調整機構４０を操作する操作装置４５０とを備える。また、位置調整装置４００は、操作装置４５０を駆動するモータドライバ４０５と、上部に配置されたカメラ４２０と、制御部４１０とを有する。

操作装置４５０は、矩形の支持ベース４０１の４辺の方向に沿って複数配列されている。また、支持ベース４０１上には、操作装置４５０の位置を変更可能にするガイド機構４０３が設けられている。ガイド機構４０３はガイドレールを有し、このガイドレールにより、各辺に沿って操作装置４５０の位置がそれぞれ変更可能とされ、操作装置４５０は所望の位置においてボルト等により固定できるようになっている。

図３８は、１つの操作装置４５０を示す斜視図である。操作装置４５０は、減速機（例えば減速ギア）を備えたモータ４５１と、このモータ４５１の出力軸に取り付けられたレンチアダプタ４５２とを有する。レンチアダプタ４５２の端部は、上述の調整機構４０の引きボルト４１および押しボルト４２に接続され得る。例えばレンチアダプタ４５２の端部に図示しない凹部が設けられ、引きボルト４１および押しボルト４２の各ヘッド４１ａおよび４２ａ（図６ＡおよびＢ参照）が、そのレンチアダプタ４５２の端部の凹部に嵌合することで、操作装置４５０が調整機構４０（図１参照）と接続される。

モータ４５１としては、例えばステッピングモータ、あるいはサーボモータが用いられる。一般的なステッピングモータは、減速ギアを搭載していることが多い。

減速機による減速比は、例えば１／６０〜１／４０程度、典型的には１／５０に設定される。減速比１／５０を有する操作装置４５０の場合、Ｍ３ボルトが使用される場合には、１０μｍ/revolutionの駆動量を得ることができる。これにより、μｍオーダの位置調整を容易に行うことができる。

なお、モータ４５１にはハンドル４５３も備えられ、人手により手動でハンドル４５３を回すことによって、操作装置４５０が調整機構４０を駆動することもできる。

カメラ４２０は、支持ベース４０１により支持されたマスク装置１００（図２２参照）のうち、特にマスク本体５５のパターン領域５５２を撮影することにより、マスクパターンの位置情報（実位置情報）を検出する。カメラ４２０は、Ｘ軸およびＹ軸に移動してもよい。

制御部４１０は、例えば予め記憶したマスク本体５５の設計情報のうち、マスクパターンの位置情報である設計位置情報を少なくとも記憶する。また、制御部４１０は、カメラ４２０で検出された上記マスクパターンの実位置情報を取得し、この実位置情報と上記設計位置情報とに基づき、後述する所定の演算を実行する。

制御部４１０は、典型的にはＣＰＵ、ＲＡＭおよびＲＯＭ等のコンピュータにより構成されればよい。マスクパターンの設計位置情報は、この制御部４１０に有線または無線により接続された他の記憶デバイスに記憶されていてもよい。

操作装置４５０は、例えば支持ベース４０１の１辺のみに少なくとも１つ設けられていてもよいし、少なくとも２辺に少なくとも１つずつ設けられていてもよい。操作装置４５０の数および配置は、パターン領域５５２の形状や配列に応じて、適宜設定され得る。

上記のような位置調整装置４００の使用時には、例えば図３９に示したように、図１等に示した蒸着用マスク１が、ベースフレーム支持部４０４上に載置され、図示しない固定具等で固定される。そして、ガイド機構４０３での各操作装置４５０の位置が設定され、位置決めされる。この後、操作装置４５０のレンチアダプタ４５２が、調整機構４０の引きボルト４１および押しボルト４２に接続される。尚、蒸着用マスク１が、上述した位置保持機構（図７Ａ〜Ｃ等）を備えている場合、位置調整装置４００による自動の位置調整が行われた後、その位置保持機構によって、調整後のマスクパターンの位置が保持される。

＜適用例１＞
次に、上記第１〜第４の実施の形態に係る蒸着用マスクの適用例１（表示装置の製造方法）について説明する。本開示の表示装置としては、例えば以下に説明するような有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬ表示装置２）が挙げられる。

図４０は、有機ＥＬ表示装置２の構成例を表したものである。有機ＥＬ表示装置２は、例えば上面発光方式（いわゆるトップエミッション方式）により、カラーの映像表示を行う表示デバイスである。この有機ＥＬ表示装置２では、例えば赤（Ｒ），緑（Ｇ），Ｂ（青）の３原色のサブピクセル（サブ画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ）に加え、高輝度を示すサブピクセル（例えば白（Ｗ）のサブ画素２Ｗ）を含めた４色のサブ画素を用いて上記映像表示が行われる。これらのサブ画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ，２Ｗは、駆動基板１０上に例えばマトリクス状に配設され、いずれも発光素子として例えば有機ＥＬ素子２ａを含んでいる。これらの有機ＥＬ素子２ａは、封止基板２０によって駆動基板１０上に封止されている

図４１Ａおよび図４１Ｂは、サブ画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ，２Ｗの２次元配置例を表したものである。図４１Ａに示したように、例えば方形状または矩形状のサブ画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ，２Ｗが２行２列の構成で配置されている。あるいは、図４１Ｂに示したように、矩形状のサブ画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ，２Ｗが、一軸方向に沿って配列した構成であってもよい。いずれの構成例においても、サブ画素２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ，２Ｗの組が、一つの画素（ピクセル）Ｐを構成する。

各有機ＥＬ素子２ａでは、第１電極１０１上に、画素間絶縁膜１０２、有機層１０３および第２電極１０４が積層されている。有機ＥＬ表示装置２では、これらの有機ＥＬ素子２ａを覆うように保護膜１０５が形成され、この保護膜１０５上に、カラーフィルタ層１０６などを介して封止基板１０７が貼り合わせられている。有機層１０３は、図示しない正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子輸送層などを含む。これらのうち発光層は、例えばサブ画素毎に異なる色光を発する発光層（赤色発光層、緑色発光層、青色発光層あるいは白色発光層）であり、サブ画素毎に所定のパターンで塗り分けられている。カラーフィルタ層１０６は、サブ画素２Ｒに対応する領域に赤色フィルタ１０６Ｒを、サブ画素２Ｇに対応する領域には緑色フィルタ１０６Ｇを、サブ画素２Ｂに対応する領域には青色フィルタ１０６Ｂをそれぞれ有している。また、カラーフィルタ層１０６の各サブ画素間の領域には、ブラックマトリクス層１０６Ｍが設けられている。尚、このカラーフィルタ層１０６は、コントラスト等の観点から設けられていてもよいが、必ずしも設けられている必要はない。

このような構成の有機ＥＬ表示装置２の製造工程では、例えばまず、駆動基板１００上に電極材料を例えばスパッタリング法を用いて成膜した後、例えばフォトリソグラフィ法を用いたエッチングによりパターニングして第１電極１０１を形成する。続いて、駆動基板１００の全面に画素間絶縁膜１０２を成膜した後、パターニングすることにより、第１電極１０１上の領域を開口する。この後、第１電極１０１上に、有機層１０３を例えば真空蒸着法により形成する。その後、有機層１０３上に、第２電極を例えば全面に形成し、続いて保護膜１０５を成膜する。最後に、カラーフィルタ１０６を介して封止基板１０７を貼り合わせることにより、図１に示した有機ＥＬ表示装置を製造することができる。

上記製造過程において、有機層１０３（あるいは有機層１０３を構成する上述の各層の一部）を形成する際、上記実施の形態等において説明した蒸着用マスクのいずれかを用いることにより、サブ画素毎に有機層１０３をパターン形成することができる。上述のように、蒸着用マスクのパターン精度が向上することから、有機ＥＬ表示装置の高精細化を実現できる。また、上記第１および第２の実施の形態の蒸着用マスクを用いることにより、パネルの量産化にも有利となる。

＜適用例２＞
上記表示装置（有機ＥＬ表示装置２）は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、映像として表示するあらゆる分野の電子機器に用いることができる。その際、例えば図４２に示したようなモジュールとして、以下に挙げるようなスマートフォン、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなどの電子機器に組み込まれる。図４２において、駆動基板１００には、例えば２次元配置されたサブ画素を含む有効画素領域１１０と、その周辺回路部として信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０等とが形成されており、その駆動基板１００の一辺に、封止基板１０７から露出した領域２１０を有している。この領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）が形成されている。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられている。

図４３は、テレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有している。映像表示画面部３００が、上記有機ＥＬ表示装置２により構成されている。

図４４Ａおよび図４４Ｂは、デジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４７０、表示部４６０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有している。表示部４２０が、上記有機ＥＬ表示装置２により構成されている。

図４５は、ノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有している。表示部５３０が、上記有機ＥＬ表示装置２により構成されている。

図４６は、ビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有している。表示部６４０が、上記有機ＥＬ表示装置２により構成されている。

図４７Ａおよび図４７Ｂは、携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。ディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０が、上記有機ＥＬ表示装置２により構成されている。

図４８Ａおよび図４８Ｂは、スマートフォンの外観を表したものである。このスマートフォンは、例えば、表示部８１０および非表示部（筐体）８２０と、操作部８３０とを備えている。操作部８３０は、非表示部８２０の前面に設けられていてもよいし（図４８Ａ）、上面に設けられていてもよい（図４８Ｂ）。表示部８１０が、上記有機ＥＬ表示装置２により構成されている。

以上、実施の形態および適用例について説明したが、本開示内容はこれらの実施の形態等に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、蒸着用マスクは、有機ＥＬ表示装置の製造過程で用いられる例について説明した。しかし本開示の蒸着用マスクは、有機材料に限られず、例えば金属材料、誘電体材料等の蒸着工程に適用されてもよい。あるいは、蒸着用途だけでなく、露光用あるいは印刷用のマスクとして用いられてもよい。張力を付与した箔を枠体（フレーム）等に貼りつける工程を経て製造されるもののパターン位置調整に広く応用することが可能である。

また、上記実施形態等では、調整機構４０として、１つの引きボルト４１と１つの押しボルト４２とを交互に（１組として）配置した構成について説明した。しかし、複数の引きボルト４１が連続して配置され、また、複数の押しボルト４２が連続して配置されてもよい。

更に、上記実施形態等では、可動部材（２０Ｘ，２０Ｙ）を、ベースフレーム１０の４辺の全てに沿って設けた例について説明したが、本開示の可動部材は、ベースフレーム１０の少なくとも１辺に沿って設けられていればよい。例えば対向する２辺に２つの可動部材が設けられていてもよい。

加えて、上記実施の形態等（特に、第１，２，４の実施の形態）では、可動部材２０Ｘ，２０Ｙがベースフレーム１０の各辺にそれぞれ設置された構成を例示したが、可動部材がして、枠状となるように一体成型されていてもよい。但し、材料や製造コスト等を考慮すると、可動部材は辺毎に（細長い形状で）それぞれ用意されることが多い。

また、上記実施形態等では、引きボルト４１および押しボルト４２を用いた調整機構４０を例示したが、本開示の調整機構は、これに限定されず、他の機構、例えば圧電素子を用いたものであってもよい。

更に、上記実施の形態等では、位置保持機構（固定機構）としてボルト（固定ボルト）を用いたが、その他にも、例えばクランプ機構あるいは圧電素子などを用いることもできる。

なお、以上説明した各形態の特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。

本開示は以下のような構成もとることができる。
（１）
複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
前記調整フレームは、
枠状の基材と、
前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
前記可動部材の選択的な領域に１または複数の切り込みが設けられている
蒸着用マスク。
（２）
前記切り込みは、前記可動部材の幅方向に沿って延在するように設けられている
上記（１）に記載の蒸着用マスク。
（３）
前記複数の切り込みは、前記可動部材の前記幅方向における両側に開口して設けられている
上記（２）に記載の蒸着用マスク。
（４）
前記切り込みの端部に連通して前記切り込みの幅よりも大きな径を有する孔が設けられている
上記（１）〜（３）のいずれかに記載の蒸着用マスク。
（５）
前記可動部材を前記基材に固定するための固定機構を更に有し、
前記固定機構は、前記切り込み同士の間に設けられている
上記（１）〜（４）のいずれかに記載の蒸着用マスク。
（６）
前記マスク本体には、複数の前記パターン領域が配置され、
前記切り込みは、前記可動部材のうちの前記パターン領域同士の間の領域に対向して設けられている
上記（１）〜（５）のいずれかに記載の蒸着用マスク。
（７）
前記調整フレームは、
前記基材上または前記基材と一体的に設けられ、前記可動部材を支持する支持部と、
前記可動部材に対し、前記支持部を介して一軸方向に沿って引っ張り力または押圧力を加える調整機構とを有する
上記（１）〜（６）のいずれかに記載の蒸着用マスク。
（８）
複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
前記調整フレームは、
枠状の基材と、
前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
前記可動部材は、前記パターン領域に近接して設けられている
蒸着用マスク。
（９）
複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
前記調整フレームは、
枠状の基材と、
前記基材の各辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、それぞれが前記基材上において少なくとも一部が変形可能である複数の可動部材とを有し、
前記複数の可動部材同士は互いに連結して設けられている
蒸着用マスク。
（１０）
前記可動部材同士がボルトにより連結されている
上記（９）に記載の蒸着用マスク。
（１１）
前記可動部材同士の各当接面が、互いに嵌合する形状を有する
上記（９）または（１０）記載の蒸着用マスク。
（１２）
前記可動部材同士の各当接面に嵌合する接続用部材を更に有する
上記（９）〜（１１）のいずれかに記載の蒸着用マスク。
（１３）
前記可動部材同士の各当接面のうちの少なくとも一方に、排液用の凹部を有する
上記（９）〜（１２）のいずれかに記載の蒸着用マスク。
（１４）
前記可動部材の前記基材側の面に、排液用の凹部を有する
上記（９）〜（１３）のいずれかに記載の蒸着用マスク。
（１５）
複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
前記調整フレームは、
枠状の基材と、
前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
前記可動部材の前記マスク本体との対向面に凹部を有する
蒸着用マスク。
（１６）
前記凹部の前記マスク本体側の縁部分が曲面または傾斜面を有する
上記（１５）に記載の蒸着用マスク。
（１７）
第１電極を形成する工程と、
前記第１電極上に、発光層を含む有機層を蒸着用マスクを用いて形成する工程と、
前記有機層上に第２電極を形成する工程とを含み、
前記蒸着用マスクは、
複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
前記調整フレームは、
枠状の基材と、
前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
前記可動部材の選択的な領域に１または複数の切り込みが設けられている
表示装置の製造方法。
（１８）
第１電極を形成する工程と、
前記第１電極上に、発光層を含む有機層を蒸着用マスクを用いて形成する工程と、
前記有機層上に第２電極を形成する工程とを含み、
前記蒸着用マスクは、
複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
前記調整フレームは、
枠状の基材と、
前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
前記可動部材は、前記パターン領域に近接して設けられている
表示装置の製造方法。
（１９）
第１電極を形成する工程と、
前記第１電極上に、発光層を含む有機層を蒸着用マスクを用いて形成する工程と、
前記有機層上に第２電極を形成する工程とを含み、
前記蒸着用マスクは、
複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
前記調整フレームは、
枠状の基材と、
前記基材の各辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、それぞれが前記基材上において少なくとも一部が変形可能である複数の可動部材とを有し、
前記複数の可動部材同士は連結して設けられている
表示装置の製造方法。
（２０）
第１電極を形成する工程と、
前記第１電極上に、発光層を含む有機層を蒸着用マスクを用いて形成する工程と、
前記有機層上に第２電極を形成する工程とを含み、
前記蒸着用マスクは、
複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
前記調整フレームは、
枠状の基材と、
前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
前記可動部材の前記マスク本体との対向面に凹部を有する
表示装置の製造方法。

１…蒸着用マスク、５５…マスク本体、５０…調整フレーム、１０…ベースフレーム、１０ａ…開口、２０Ｘ，２０Ｙ…可動部材、２１，３０ａ…固定ボルト、２３…切り込み、２３ａ…孔、２４ａ…当接領域、２６…ボルト、２７ａ…ねじ孔、２７ｂ，２７ｃ１，２７ｃ２，２７ｄ…凹部（排液用）２８…段差部、３０…支持部材、４０…調整機構、４１…引きボルト、４２…押しボルト、５５２…パターン領域、５５ａ…通過孔、５５３…外縁部、Ａ…領域、Ｃ…連結部。

Claims (20)

1. 複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
   前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
   前記調整フレームは、
   枠状の基材と、
   前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
   前記可動部材の選択的な領域に１または複数の切り込みが設けられている
   蒸着用マスク。
2. 前記切り込みは、前記可動部材の幅方向に沿って延在するように設けられている
   請求項１に記載の蒸着用マスク。
3. 前記複数の切り込みは、前記可動部材の前記幅方向における両側に開口して設けられている
   請求項２に記載の蒸着用マスク。
4. 前記切り込みの端部に連通して前記切り込みの幅よりも大きな径を有する孔が設けられている
   請求項１に記載の蒸着用マスク。
5. 前記可動部材を前記基材に固定するための固定機構を更に有し、
   前記固定機構は、前記切り込み同士の間に設けられている
   請求項１に記載の蒸着用マスク。
6. 前記マスク本体には、複数の前記パターン領域が配置され、
   前記切り込みは、前記可動部材のうちの前記パターン領域同士の間の領域に対向して設けられている
   請求項１に記載の蒸着用マスク。
7. 前記調整フレームは、
   前記基材上または前記基材と一体的に設けられ、前記可動部材を支持する支持部と、
   前記可動部材に対し、前記支持部を介して一軸方向に沿って引っ張り力または押圧力を加える調整機構とを有する
   請求項１に記載の蒸着用マスク。
8. 複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
   前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
   前記調整フレームは、
   枠状の基材と、
   前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
   前記可動部材は、前記パターン領域に近接して設けられている
   蒸着用マスク。
9. 複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
   前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
   前記調整フレームは、
   枠状の基材と、
   前記基材の各辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、それぞれが前記基材上において少なくとも一部が変形可能である複数の可動部材とを有し、
   前記複数の可動部材同士は互いに連結して設けられている
   蒸着用マスク。
10. 前記可動部材同士がボルトにより連結されている
    請求項９に記載の蒸着用マスク。
11. 前記可動部材同士の各当接面が、互いに嵌合する形状を有する
    請求項９に記載の蒸着用マスク。
12. 前記可動部材同士の各当接面に嵌合する接続用部材を更に有する
    請求項９に記載の蒸着用マスク。
13. 前記可動部材同士の各当接面のうちの少なくとも一方に、排液用の凹部を有する
    請求項９に記載の蒸着用マスク。
14. 前記可動部材の前記基材側の面に、排液用の凹部を有する
    請求項９に記載の蒸着用マスク。
15. 複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
    前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
    前記調整フレームは、
    枠状の基材と、
    前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
    前記可動部材の前記マスク本体との対向面に凹部を有する
    蒸着用マスク。
16. 前記凹部の前記マスク本体側の縁部分が曲面または傾斜面を有する
    請求項１５に記載の蒸着用マスク。
17. 第１電極を形成する工程と、
    前記第１電極上に、発光層を含む有機層を蒸着用マスクを用いて形成する工程と、
    前記有機層上に第２電極を形成する工程とを含み、
    前記蒸着用マスクは、
    複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
    前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
    前記調整フレームは、
    枠状の基材と、
    前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
    前記可動部材の選択的な領域に１または複数の切り込みが設けられている
    表示装置の製造方法。
18. 第１電極を形成する工程と、
    前記第１電極上に、発光層を含む有機層を蒸着用マスクを用いて形成する工程と、
    前記有機層上に第２電極を形成する工程とを含み、
    前記蒸着用マスクは、
    複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
    前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
    前記調整フレームは、
    枠状の基材と、
    前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
    前記可動部材は、前記パターン領域に近接して設けられている
    表示装置の製造方法。
19. 第１電極を形成する工程と、
    前記第１電極上に、発光層を含む有機層を蒸着用マスクを用いて形成する工程と、
    前記有機層上に第２電極を形成する工程とを含み、
    前記蒸着用マスクは、
    複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
    前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
    前記調整フレームは、
    枠状の基材と、
    前記基材の各辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、それぞれが前記基材上において少なくとも一部が変形可能である複数の可動部材とを有し、
    前記複数の可動部材同士は連結して設けられている
    表示装置の製造方法。
20. 第１電極を形成する工程と、
    前記第１電極上に、発光層を含む有機層を蒸着用マスクを用いて形成する工程と、
    前記有機層上に第２電極を形成する工程とを含み、
    前記蒸着用マスクは、
    複数の通過孔からなるパターン領域を含むマスク本体と、
    前記マスク本体を保持すると共に、前記マスク本体の前記通過孔の位置を調整可能な機構を有する調整フレームとを備え、
    前記調整フレームは、
    枠状の基材と、
    前記基材の少なくとも一辺に沿って設けられ、前記マスク本体の外縁部と接着されると共に、前記基材上において少なくとも一部が変形可能である可動部材とを有し、
    前記可動部材の前記マスク本体との対向面に凹部を有する
    表示装置の製造方法。
    
    

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