JP2015023273A - 積層セラミックキャパシタ及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】積層セラミックキャパシタのESRを容易に制御する。
【解決手段】実装面に対して垂直方向に積層された複数の誘電体層112を含み、対向する厚さ方向の第1及び第2主面、長さ方向の第3及び第4端面及び幅方向の第5及び第6側面を有するセラミック本体と、上記セラミック本体の上記第1主面に離隔されて形成された第1及び第2外部電極と、上記セラミック本体の上記第2主面に離隔されて形成された第3及び第4外部電極と、上記セラミック本体内において上記誘電体層を介して対向するように配置され、上記第1から第4外部電極と電気的に連結された複数の第1及び第2内部電極を含むキャパシタ部と、上記セラミック本体内において実装面に対して垂直方向に少なくとも一つ以上介在されたESR制御層と、を含む積層セラミックキャパシタ。
【選択図】図2c

Description

本発明は、積層セラミックキャパシタ及びその製造方法に関する。
積層チップ電子部品の一つである積層セラミックキャパシタ(MLCC、multi−layered ceramic capacitor)は、小型でありながら、高容量が保障され、実装が容易であるという長所により、多様な電子装置の部品として用いられることができる。
例えば、上記積層セラミックキャパシタは、液晶表示装置(LCD、liquid crystal display)及びプラズマ表示装置パネル(PDP、plasma display panel)などの映像機器、コンピュータ、個人携帯用端末機(PDA、personal digital assistants)及び携帯電話などの多様な電子製品の印刷回路基板に装着されて電気を充填または放電させる役割をするチップ形態のコンデンサとして用いられることができる。
しかし、コンピュータなどの中央処理装置(CPU)のための電源供給装置には、低い電圧を提供する過程において負荷電流の急激な変化による電圧ノイズが発生するという問題がある。
このため、上記電圧ノイズを抑制するためのデカップリングキャパシタの用途として、積層型キャパシタが電源供給装置に広く用いられている。
上記デカップリング用積層セラミックキャパシタには、動作周波数の増加に伴い、より低いESL値を有することが求められ、このようなESLを減少させるための多くの研究が活発に行われている。
また、デカップリング用積層セラミックキャパシタには、さらなる安定的な電源供給のために、調節可能なESR特性が求められる。
積層セラミックキャパシタのESR値が求められる水準より低い場合は、キャパシタのESL及びマイクロプロセッサパッケージのプレーン・キャパシタンス(plane capacitance)によって発生する並列共振周波数におけるインピーダンスピークが高まり、キャパシタの直列共振周波数におけるインピーダンスは過度に低くなるという問題がある。
したがって、使用者が電力分配網の平坦な(flat)インピーダンス特性を具現できるように、デカップリング用積層セラミックキャパシタのESR特性を容易に調節して提供することが好ましい。
このようなESRの調節に関連し、外部電極及び内部電極として高い電気的な抵抗を有する材料を用いる方法を考慮することができる。上記のような材料変更による方法は、従来の低ESL構造を維持しつつ、高いESR特性を提供できるという長所を有する。
しかし、高抵抗物質を外部電極として用いる場合は、ピンホール(pin hole)による電流集中現象がもたらす局部的熱点(localized heat spot)が発生するという問題点がある。
また、内部電極として高抵抗材料を用いる場合、高容量化によるセラミック材料とのマッチングのために、内部電極の材料を引き続き変更しなければならないという短所がある。
このように、従来のESR調節方法には上記のような短所があるため、ESRを調節することができる積層セラミックキャパシタに対する研究が依然として必要な実情にある。
一方、最近は、タブレット(Tablet)PCやウルトラブック(Ultra Book)などのモバイル(Mobile)端末の急速な発展に伴い、マイクロプロセッサ(Micro Processor)も小型高集積製品に転換しつつある。
その結果、印刷回路基板への実装時に、印刷回路基板の面積が減少するとともにデカップリングキャパシタの実装空間も制限されるため、これを満たすことができる積層セラミックキャパシタに対するニーズが高まっている。
下記特許文献1は、積層セラミックキャパシタを開示しているが、ESRを制御するための構造は開示していない。
韓国公開特許第2009−0026174号公報
当技術分野では、積層セラミックキャパシタのESRを効果的に制御することができる新たな方法が求められてきた。
本発明の一側面は、実装面に対して垂直方向に積層された複数の誘電体層を含み、対向する厚さ方向の第1及び第2主面、長さ方向の第3及び第4端面及び幅方向の第5及び第6側面を有するセラミック本体と、上記セラミック本体の上記第1主面に離隔されて形成された第1及び第2外部電極と、上記セラミック本体の上記第2主面に離隔されて形成された第3及び第4外部電極と、上記セラミック本体内において上記誘電体層を介して対向するように配置され、上記第1から第4外部電極と電気的に連結された複数の第1及び第2内部電極を含むキャパシタ部と、上記セラミック本体内において実装面に対して垂直方向に少なくとも一つ以上介在されたESR制御層と、を含む積層セラミックキャパシタを提供する。
本発明の一実施形態において、上記第1内部電極は、上記第1主面に露出して上記第1外部電極と電気的に連結されることができる。
本発明の一実施形態において、上記第2内部電極は、上記第2主面に露出して上記第4外部電極と電気的に連結されることができる。
本発明の一実施形態において、上記ESR制御層は、上記第1及び第3外部電極と上記第2及び第4外部電極とをそれぞれ連結する第1及び第2内部連結導体を有することができる。
本発明の一実施形態において、上記積層セラミックキャパシタの実装面は、上記セラミック本体の第2主面であることができる。
本発明の一実施形態において、上記第1及び第2内部連結導体は、直線状に形成されることができる。
本発明の他の側面は、実装面に対して垂直方向に積層された複数の誘電体層を含み、対向する厚さ方向の第1及び第2主面、長さ方向の第3及び第4端面及び幅方向の第5及び第6側面を有するセラミック本体と、上記セラミック本体の上記第1主面に離隔されて形成された第1及び第2外部電極と、上記セラミック本体の上記第2主面に離隔されて形成された第3及び第4外部電極と、上記セラミック本体内において上記誘電体層を介して対向するように配置され、上記第1及び第2主面にそれぞれ露出して上記第2及び第4外部電極とそれぞれ電気的に連結された複数の第1及び第2内部電極を含むキャパシタ部と、上記セラミック本体内において幅方向に少なくとも一つ以上介在され、上記第2及び第3外部電極と上記第1及び第4外部電極とをそれぞれ連結する第1及び第2内部連結導体を有するESR制御層と、を含む積層セラミックキャパシタを提供する。
本発明の一実施形態において、上記第1内部連結導体は、上記セラミック本体の上記第2主面及び第4端面に沿って形成され、上記第2内部連結導体は、上記セラミック本体の上記第4端面及び第1主面に沿って形成されることができる。
本発明の一実施形態において、上記第1及び第2内部連結導体は、上記セラミック本体の長さ方向に沿って上下ジグザグ(zigzag)に形成されることができる。
本発明の一実施形態によると、セラミック本体内に介在されるESR制御層の形状及び個数を調節することで、積層セラミックキャパシタのESRを容易に制御することができる。
これにより、従来構造に比べてより広い周波数領域におけるインピーダンス(Impedance)の低減及び調節が容易になり、印刷回路基板への実装時の部品減少によって実装空間と費用を減らすことができる効果がある。
また、垂直実装に伴う非接触端子(No Contact terminal)によるダウンサイジング(Downsizing)の妨害がないため、製品の小型化に有利な効果がある。
本発明の一実施形態による積層セラミックキャパシタを概略的に示した斜視図である。 図1の積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体を示した平面図である。 図1の積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体を示した平面図である。 図1の積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体を示した平面図である。 図1の積層セラミックキャパシタの等価回路図である。 本発明の一実施形態による積層セラミックキャパシタが適用された実装基板の一例を概略的に示した斜視図である。 図4の積層セラミックキャパシタの実装基板の相互インダクタンスを概略的に示した斜視図である。 本発明の他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。 本発明の他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。 本発明の他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。 本発明の他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。 本発明の他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。 本発明の他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。 本発明のさらに他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。 本発明のさらに他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。 本発明のさらに他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。 本発明のさらに他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。 本発明のさらに他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部連結導体の他の実施形態を示した平面図である。 本発明のさらに他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部連結導体の他の実施形態を示した平面図である。 本発明のさらに他の実施形態による積層セラミックキャパシタの等価回路図である。
以下では、添付の図面を参照し、本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。
本発明の実施形態を明確に説明するために、六面体の方向を定義すると、図面に示されるL、W及びTは、それぞれ長さ方向、幅方向及び厚さ方向を示す。
積層セラミックキャパシタ
図1は本発明の一実施形態による積層セラミックキャパシタを概略的に示した斜視図であり、図2の(a)から(c)は図1の積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体を示した平面図である。
本実施形態による積層セラミックキャパシタ100は、複数の誘電体層111が幅方向に積層されたセラミック本体110と、第1から第4外部電極131、132、133、134と、複数の第1及び第2内部電極121、122を含むキャパシタ部と、少なくとも一つのESR制御層と、を含む。このとき、上記ESR制御層は、一対の第1及び第2内部連結導体123、124を有することができる。即ち、本実施形態の積層セラミックキャパシタ100は、全て4つの外部電極を有する、いわゆる4端子キャパシタとみなすことができる。
図1を参照すると、セラミック本体110は、複数の誘電体層111を積層してから焼成したもので、隣接するそれぞれの誘電体層111間の境界が確認できないほど一体化されていることができる。
また、セラミック本体110は、六面体状を有することができる。本実施形態では、セラミック本体110の対向する厚さ方向の端面を第1及び第2主面1、2、第1及び第2主面1、2を連結し、対向する長さ方向の端面を第3及び第4端面3、4、対向する幅方向の端面を第5及び第6側面5、6と定義する。
誘電体層111は、高誘電率のセラミック材料を含むことができる。例えば、チタン酸バリウム(BaTiO)系セラミック粉末などを含むことができるが、十分な静電容量が得られるものであれば、本発明はこれに限定されない。
また、誘電体層111には、上記セラミック粉末とともに、必要に応じて、遷移金属酸化物または炭化物、希土類元素、マグネシウム(Mg)またはアルミニウム(Al)などのような多様な種類のセラミック添加剤、有機溶剤、可塑剤、結合剤、分散剤などがさらに添加されることができる。
図2の(a)及び(b)を参照すると、上記キャパシタ部を構成する第1及び第2内部電極121、122は、異なる極性を有する電極であり、誘電体層111を形成するセラミックシート上の少なくとも一面に形成されて積層され、セラミック本体100内においてそれぞれの誘電体層111を介して厚さ方向の第1及び第2主面1、2に交互に露出する第1及び第2リード部121a、122aを有する。第1及び第2リード部121a、122aは、対角線に対向するように形成されることができる。
このとき、第1及び第2内部電極121、122はその間に配置された誘電体層111によって電気的に絶縁され、積層セラミックキャパシタ100の静電容量は上記キャパシタ部において第1及び第2リード部121a、122aを除いて誘電体層111の積層方向に沿って重畳する第1及び第2内部電極121、122の面積に比例するようになる。
また、第1及び第2内部電極121、122は、導電性金属で形成され、例えば、銀(Ag)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)及び銅(Cu)のうち一つまたはこれらの合金からなるものを用いることができるが、本発明はこれに限定されない。
図2の(c)を参照すると、上記ESR制御層は、セラミック本体110において幅方向に少なくとも一つ以上介在され、積層セラミックキャパシタ100の等価直列抵抗(ESR)を調節する。
このようなESR制御層は、誘電体層112の少なくとも一面に第1及び第3外部電極131、133を連結するように両端が第1及び第2主面1、2に露出した第1内部連結導体123と、誘電体層112の少なくとも一面に第2及び第4外部電極132、134を連結するように両端が第1及び第2主面1、2に露出した第2内部連結導体124と、を含む。
このとき、第1及び第2内部連結導体123、124は、誘電体層112の第1及び第2主面1、2を連結する直線状に形成されることができるが、本発明はこれに限定されない。
また、第1及び第2内部連結導体123、124は、導電性金属で形成され、例えば、銀(Ag)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)及び銅(Cu)のうち一つまたはこれらの合金などからなるものを用いることができるが、本発明はこれに限定されない。
第1及び第2外部電極131、132はセラミック本体110の第1主面1に離隔されて形成され、第3及び第4外部電極133、134はセラミック本体110の第2主面2に離隔されて形成される。
このとき、第1外部電極131には第1内部電極121の第1リード部121a及び第1主面1に露出した第1内部連結導体123の上端部が接続され、第2外部電極132には第1主面1に露出した第2内部連結導体124の上端部が接続される。
また、第3外部電極133には第2主面2に露出した第1内部連結導体123の下端部が接続され、第4外部電極134には第2内部電極122の第2リード部122a及び第2主面2に露出した第2内部連結導体124の下端部が接続される。
このような第1から第4外部電極131、132、133、134は、導電性金属を含む導電性ペーストによって形成されることができる。
上記導電性金属は、これに制限されないが、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、スズ(Sn)またはこれらの合金であることができる。
上記導電性ペーストは絶縁性物質をさらに含むことができ、例えば、上記絶縁性物質はガラス(glass)であることができるが、これに制限されない。
このとき、第1から第4外部電極131、132、133、134を形成する方法としては、特に制限されず、セラミック本体110をディッピング(dipping)して形成することができ、必要に応じて、めっきなどの他の方法を用いて形成することもできる。
一方、本実施形態によると、積層セラミックキャパシタ100の実装面は、セラミック本体110の第2主面2であることができる。
即ち、本実施形態による積層セラミックキャパシタ100は、垂直実装形態として理解されることができるが、本発明はこれに限定されず、必要に応じて、多様な形態に実装されることができる。
図3は図1の積層セラミックキャパシタの等価回路図である。
図3を参照すると、キャパシタ部を構成する第1及び第2内部電極121、122は、第1及び第4外部電極131、132、133、134によって並列連結されることができ、ESR層を構成する第1及び第2内部連結導体123、124とは直列連結されることができる。
上記のような連結により、第1及び第2内部連結導体123、124によって積層セラミックキャパシタ100の等価直列抵抗(ESR)が調節されることができる。
一方、本実施形態によると、セラミック本体110の第2主面2に形成された第3及び第4外部電極133、134は電源ラインとの連結のための外部端子として用いられることができ、セラミック本体110の第1主面1に形成された外部電極131、132はESR調整用外部電極として用いられることができる。
上記ESR調整用外部電極として用いられることができる第1及び第2外部電極131、132は、上記の通り、電源ラインと連結されない非接触端子(No Contact terminal)であり、実装された状態からみたときに積層セラミックキャパシタ100の上部面、即ち、第1主面1に位置することができる。
即ち、上記非接触端子(No Contact terminal)である第1及び第2外部電極131、132が積層セラミックキャパシタ100の側面ではない実装面に相対する上面、即ち、第1主面1に形成されることから、非接触端子のダウンサイジング(Downsizing)の妨害がないため、製品の小型化に有利であるとともに、実装時に高密度実装が可能であり、はんだブリッジなどの実装不良を防止できる効果がある。
一方、第3及び第4外部電極133、134上に第1及び第2めっき層(図示せず)を形成することができる。
上記第1及び第2めっき層は、第3及び第4外部電極133、134上に形成されたニッケル(Ni)めっき層と、上記ニッケルめっき層上に形成されたスズ(Sn)めっき層と、を含むことができる。
このような第1及び第2めっき層は、積層セラミックキャパシタ100を印刷回路基板などにはんだで実装するとき、相互間の接着強度を高めるためのものである。また、めっき処理は、公知の方法によって行われることができ、環境に優しい鉛フリーめっきを施すことが好ましいが、本発明はこれに限定されない。
積層セラミックキャパシタの製造方法
以下では、本発明の一実施形態による積層セラミックキャパシタの製造方法について説明する。
まず、複数のセラミックシートを用意する。上記セラミックシートは、セラミック本体110の誘電体層111、112を形成するためのもので、セラミック粉末、ポリマー及び溶剤などを混合してスラリーを製造し、上記スラリーをドクターブレードなどの工法を通じてキャリアフィルム上に塗布及び乾燥して数μmの厚さを有するシート(sheet)状に製作する。
次に、上記複数のセラミックシートの少なくとも一面に所定の厚さで導電性ペーストを印刷して第1及び第2内部電極121、122を形成する。
このとき、第1及び第2内部電極121、122は、セラミックシートの左右側面にそれぞれ露出するように形成する。
また、上記導電性ペーストの印刷方法としては、スクリーン印刷法やグラビア印刷法などを用いることができるが、本発明はこれに限定されない。
その後、一部セラミックシートの少なくとも一面に所定の厚さで導電性ペーストを印刷してから所定の間隔を置いて平行に左右側面に露出するように第1及び第2内部連結導体123、124を形成することでESR制御層を用意する。
このとき、第1及び第2内部連結導体123、124は、セラミックシートの長さ方向に対向するように配置され、それぞれ直線状に形成されることができる。また、第1及び第2内部連結導体123、124は、セラミックシートの長さ方向に対向配置され、それぞれジグザグ(zigzag)に形成されることができる。
続いて、第1及び第2内部電極121、122が形成された複数のセラミックシートを幅方向に積層し、その間に少なくとも一つの第1及び第2内部連結導体123、124が形成されたセラミックシートを介在させて積層して左右から加圧することで積層体を用意する。
次いで、上記積層体を1個のキャパシタに対応する領域ごとに切断してチップ化し、高温で焼成することで、対向する第1及び第2内部電極121、122が交互に露出する厚さ方向の第1及び第2主面1、2、長さ方向の第3及び第4端面3、4及び幅方向の第5及び第6側面5、6を有するセラミック本体110を用意する。
次に、セラミック本体110の第1主面1に第1内部電極121が露出した部分と接触して電気的に連結されるように第1外部電極131を形成し、第1外部電極131から離隔して第2内部連結導体124の上側に露出した部分と接触して電気的に連結されるように第2外部電極132を形成する。
このとき、必要に応じて、第1及び第2外部電極131、132を形成する段階の後に、第1及び第2外部電極131、132の表面を電気めっきなどの方法でめっき処理して第1及び第2めっき層(図示せず)を形成することができる。
同様に、セラミック本体110の第2主面2に第2内部電極122及び第2内部連結導体124の下側に露出した部分と接触して電気的に連結されるように第4外部電極134を形成し、第4外部電極134から離隔して第1内部連結導体123の下側に露出した部分と接触して電気的に連結されるように第3外部電極133を形成することで積層セラミックキャパシタを完成する。
このとき、必要に応じて、第3及び第4外部電極133、134を形成する段階の後に、第1及び第2外部電極133、134の表面を電気めっきなどの方法でめっき処理して第1及び第2めっき層(図示せず)を形成することができる。
図4は本発明の一実施形態による積層セラミックキャパシタが適用された実装基板の一例を概略的に示した斜視図である。
図4を参照すると、本実施形態の積層セラミックキャパシタ100が適用された実装基板は、積層セラミックキャパシタ100が実装される印刷回路基板210と、印刷回路基板210の上面に離隔されるように形成された第1及び第2電極パッド220と、を含む。
ここで、積層セラミックキャパシタ100は、セラミック本体110の第2主面が印刷回路基板210と相対するように実装され、第3及び第4外部電極133、134が第1及び第2電極パッド220上に接触されるように位置した状態で、はんだ(図示せず)によって印刷回路基板210と電気的に連結されることができる。
また、図5を参照すると、本実施形態による積層セラミックキャパシタが適用された実装基板は、図面に「矢印」で示されているように、ESR制御層の内部連結導体間に発生する相互インダクタンス(mutual inductance)の作用(磁束の相殺作用)によってESLの増加を防止することができる。
変形例
本発明の第1及び第2内部連結導体は、多様なパターンの形状を有することができる。また、このようなパターンの形状によってESR特性をより精密に制御することができる。
図6の(a)から(f)は本発明の他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。
ここで、セラミック本体110、第1及び第2内部電極121、122及び第1から第4外部電極131、132、133、134が形成された構造は、上述した一実施形態と同一である。よって、重複を避けるためにこれに対する具体的な説明を省略し、上述した実施形態と異なる構造を有する第1及び第2内部連結導体123'、124'を図面に示して具体的に説明する。
図6の(a)から(f)を参照すると、本実施形態は、第1及び第2内部連結導体123'、124'が直線状に形成されるのではなく、厚さ方向に沿って左右ジグザグ(zigzag)に形成されることができる。
また、セラミック本体100内において第1内部連結導体123'、第1内部電極121、第2内部電極122、第1内部電極121、第2内部電極122及び第2内部連結導体124'が順に繰り返し配置されることができるが、本発明はこれに限定されず、第1及び第2内部連結導体123'、124'の配置順序は必要に応じて適切に変更されることもできる。
図7の(a)から(d)は本発明のさらに他の実施形態による積層セラミックキャパシタに適用される第1及び第2内部電極と第1及び第2内部連結導体の配置構造を示した平面図である。
ここで、セラミック本体110及び第1から第4外部電極131、132、133、134が形成された構造は、上述した一実施形態と同一である。よって、重複を避けるためにこれに対する具体的な説明を省略し、上述した実施形態と異なる構造を有する第1及び第2内部電極1210、1220及び第1及び第2内部連結導体1230、1240を図面に示して具体的に説明する。
図7の(a)から(d)を参照すると、本実施形態は、第1内部電極1210の第1リード部1210aはセラミック本体110の第1主面1に露出して第2外部電極132と接続され、第2内部電極1220は上述した一実施形態と同様に第2リード部1220aがセラミック本体110の第2主面2に露出して第4外部電極134と接続される。
また、第1内部連結導体1230は、セラミック本体110の第2主面及び第4端面に沿って「┘」状に形成され、第2内部連結導体1240はセラミック本体110の第4端面及び第1主面に沿って「┐」状に形成されることができる。
図8の(a)及び(b)を参照すると、他の実施形態として第1及び第2内部連結導体1250、1260は、セラミック本体110の長さ方向に沿って上下ジグザグに形成されることができる。
図9は図7(a)から図8(b)の積層セラミックキャパシタの等価回路図である。
図9を参照すると、上記キャパシタ部を構成する第1及び第2内部電極1210、1220は、第1から第4外部電極131、132、133、134によって並列連結されることができ、ESR層を構成する第1及び第2内部連結導体1230、1240とは直列連結されることができる。
上記のような連結により、第1及び第2内部連結導体1230、1240によって積層セラミックキャパシタ100の等価直列抵抗(ESR)が調節されることができる。
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有するものには明らかである。
100 積層セラミックキャパシタ
110 セラミック本体
111、112 誘電体層
121、1210 第1内部電極
122、1220 第2内部電極
121a、1210a 第1リード部
122a、1220a 第2リード部
131、132、133、134 第1から第4外部電極
123、1230、1250 第1内部連結導体
124、1240、1260 第2内部連結導体
210 印刷回路基板
220 第1及び第2電極パッド

Claims (10)

  1. 実装面に対して垂直方向に積層された複数の誘電体層を含み、対向する厚さ方向の第1及び第2主面、長さ方向の第3及び第4端面及び幅方向の第5及び第6側面を有するセラミック本体と、
    前記セラミック本体の前記第1主面に離隔されて形成された第1及び第2外部電極と、
    前記セラミック本体の前記第2主面に離隔されて形成された第3及び第4外部電極と、
    前記セラミック本体内において前記誘電体層を介して対向するように配置され、前記第1から第4外部電極と電気的に連結された複数の第1及び第2内部電極を含むキャパシタ部と、
    前記セラミック本体内において実装面に対して垂直方向に少なくとも一つ以上介在されたESR制御層と、を含む、積層セラミックキャパシタ。
  2. 前記第1内部電極は、前記第1主面に露出して前記第1外部電極と電気的に連結される、請求項1に記載の積層セラミックキャパシタ。
  3. 前記第2内部電極は、前記第2主面に露出して前記第4外部電極と電気的に連結される、請求項1または2に記載の積層セラミックキャパシタ。
  4. 前記ESR制御層は、前記第1及び第3外部電極と前記第2及び第4外部電極とをそれぞれ連結する第1及び第2内部連結導体を有する、請求項1から3のいずれか1項に記載の積層セラミックキャパシタ。
  5. 前記積層セラミックキャパシタの実装面は、前記セラミック本体の前記第2主面である、請求項1から4のいずれか1項に記載の積層セラミックキャパシタ。
  6. 前記第1及び第2内部連結導体は、直線状に形成される、請求項4に記載の積層セラミックキャパシタ。
  7. 実装面に対して垂直方向に積層された複数の誘電体層を含み、対向する厚さ方向の第1及び第2主面、長さ方向の第3及び第4端面及び幅方向の第5及び第6側面を有するセラミック本体と、
    前記セラミック本体の前記第1主面に離隔されて形成された第1及び第2外部電極と、
    前記セラミック本体の前記第2主面に離隔されて形成された第3及び第4外部電極と、
    前記セラミック本体内において前記誘電体層を介して対向するように配置され、前記第1及び第2主面にそれぞれ露出して前記第2及び第4外部電極とそれぞれ電気的に連結された複数の第1及び第2内部電極を含むキャパシタ部と、
    前記セラミック本体内において幅方向に少なくとも一つ以上介在され、前記第2及び第3外部電極と前記第1及び第4外部電極とをそれぞれ連結する第1及び第2内部連結導体を有するESR制御層と、を含む、積層セラミックキャパシタ。
  8. 前記積層セラミックキャパシタの実装面は、前記セラミック本体の前記第2主面である、請求項7に記載の積層セラミックキャパシタ。
  9. 前記第1内部連結導体は前記セラミック本体の前記第2主面及び第4端面に沿って形成され、前記第2内部連結導体は前記セラミック本体の前記第4端面及び第1主面に沿って形成される、請求項7または8に記載の積層セラミックキャパシタ。
  10. 前記第1及び第2内部連結導体は、前記セラミック本体の長さ方向に沿って上下ジグザグ(zigzag)に形成される、請求項7から9のいずれか1項に記載の積層セラミックキャパシタ。
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