JP2015012258A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015012258A5
JP2015012258A5 JP2013138760A JP2013138760A JP2015012258A5 JP 2015012258 A5 JP2015012258 A5 JP 2015012258A5 JP 2013138760 A JP2013138760 A JP 2013138760A JP 2013138760 A JP2013138760 A JP 2013138760A JP 2015012258 A5 JP2015012258 A5 JP 2015012258A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
image
region
area
exposing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013138760A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6261207B2 (ja
JP2015012258A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013138760A priority Critical patent/JP6261207B2/ja
Priority claimed from JP2013138760A external-priority patent/JP6261207B2/ja
Publication of JP2015012258A publication Critical patent/JP2015012258A/ja
Publication of JP2015012258A5 publication Critical patent/JP2015012258A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6261207B2 publication Critical patent/JP6261207B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2013138760A 2013-07-02 2013-07-02 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法 Expired - Fee Related JP6261207B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013138760A JP6261207B2 (ja) 2013-07-02 2013-07-02 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013138760A JP6261207B2 (ja) 2013-07-02 2013-07-02 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015012258A JP2015012258A (ja) 2015-01-19
JP2015012258A5 true JP2015012258A5 (enExample) 2016-08-18
JP6261207B2 JP6261207B2 (ja) 2018-01-17

Family

ID=52305132

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013138760A Expired - Fee Related JP6261207B2 (ja) 2013-07-02 2013-07-02 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6261207B2 (enExample)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6501680B2 (ja) * 2015-08-31 2019-04-17 キヤノン株式会社 露光方法、露光装置及び物品の製造方法
KR102318906B1 (ko) * 2016-07-19 2021-10-27 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 구분적 정렬 모델링 방법
JP2019079030A (ja) * 2017-10-24 2019-05-23 キヤノン株式会社 露光装置および物品の製造方法
JP2019079029A (ja) * 2017-10-24 2019-05-23 キヤノン株式会社 露光装置および物品の製造方法
CN110109325A (zh) * 2018-02-01 2019-08-09 李冰 一种拼接光波导结构及其制备方法
CN110471259B (zh) * 2019-06-19 2021-12-14 上海华力微电子有限公司 芯片拼接方法
JP7520785B2 (ja) * 2021-09-08 2024-07-23 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、及び物品の製造方法
CN114326336B (zh) * 2021-11-19 2024-03-22 无锡中微晶园电子有限公司 一种大尺寸芯片曝光方法
JP2023106908A (ja) * 2022-01-21 2023-08-02 キヤノン株式会社 露光方法、露光装置、及び物品の製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09306819A (ja) * 1996-05-17 1997-11-28 Nikon Corp 露光装置
JP2000340482A (ja) * 1999-05-26 2000-12-08 Sony Corp 露光方法及びこの方法を用いた露光装置
JP2001297975A (ja) * 2000-04-17 2001-10-26 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
JP4362999B2 (ja) * 2001-11-12 2009-11-11 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP5792431B2 (ja) * 2010-04-28 2015-10-14 日本電気株式会社 半導体装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015012258A5 (enExample)
CN102650819A (zh) 掩模板和掩膜板的定位方法
JP6261207B2 (ja) 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法
CN103412468A (zh) 光刻大尺寸ccd芯片拼接曝光方法
JP2013033870A (ja) 半導体デバイスおよびその製造方法
CN103092005A (zh) 玻璃基板的曝光对位方法
US20170307981A1 (en) Exposure method and exposure machine
CN105093813A (zh) 光掩模板和曝光系统
US10573531B2 (en) Method of manufacturing semiconductor device
TW200942978A (en) Exposure method, exposure apparatus, and method for producing device
WO2014127568A1 (zh) 多膜层基板及其制备方法和显示装置
JP2015212720A5 (enExample)
CN107621749A (zh) 掩模、测量方法、曝光方法以及物品制造方法
CN101373328A (zh) 精细掩模及使用精细掩模形成掩模图案的方法
JP2013238670A5 (ja) 露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法
JP2014103171A5 (enExample)
JP2013161919A (ja) 露光方法
US20110059402A1 (en) Exposure method
CN204374608U (zh) 一种掩模板
TW200834258A (en) Projection optical apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
JP2015070057A5 (enExample)
TWI489223B (zh) 基板上的圖案化方法
CN203965796U (zh) 一种掩模板
JP2006208429A (ja) 両面マスクの作成方法
CN104035275A (zh) 一种掩模板