JP2015008240A - 吸着部材 - Google Patents
吸着部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015008240A JP2015008240A JP2013133323A JP2013133323A JP2015008240A JP 2015008240 A JP2015008240 A JP 2015008240A JP 2013133323 A JP2013133323 A JP 2013133323A JP 2013133323 A JP2013133323 A JP 2013133323A JP 2015008240 A JP2015008240 A JP 2015008240A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- convex portion
- substrate
- thickness
- convex
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Manipulator (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
みよりも小さいため、ピン15の頂面の幅(直径)を小さくすることができる。したがって、ピン15の頂面と対象物2との接触面積を小さくし、ピン15の頂面に付着したパーティクルによる対象物2の汚染を低減することができる。
2 対象物
3 吸着領域
4 基板
5 基体
6 基体の一主面
7 被膜
8 凸部
9 底面
10 凸部の頂面
11 凸部の側面
12 被膜の第1部分
13 被膜の第2部分
14 被膜の第3部分
15 ピン
16 底部
17 シール部
18 対象物と基板との間の空間
19 第2部分の一端部
20 第2部分の他端部
21 第2部分の側面
22 第1部分の一端部
23 第1部分の他端部
24 第1部分の第1領域
25 第1部分の第2領域
26 第2領域の側面
27 第1領域の側面
28 第1段差部
29 第2段差部
Claims (6)
- 対象物を吸着する吸着領域を有する基板を備え、
前記基板は、前記吸着領域側の一主面に複数の柱状の凸部および該凸部同士の間に位置する底面を有する炭化珪素質焼結体からなる基体と、前記吸着領域を構成するとともに該基体の前記凸部および前記底面を被覆した炭化珪素膜からなる被膜とを有し、
前記被膜は、前記凸部の頂面を被覆した第1部分と、前記凸部の側面を被覆した第2部分と、前記底面を被覆した第3部分とを有し、
前記第2部分の前記第1部分側に配された一端部における前記基体の一主面に沿った方向の厚みは、前記第2部分の前記第3部分側に配された他端部における前記一主面に沿った方向の厚みよりも小さいことを特徴とする吸着部材。 - 請求項1に記載の吸着部材において、
前記第2部分における前記一主面に沿った方向の厚みは、前記一端部から前記他端部に向かって大きくなっていることを特徴とする吸着部材。 - 請求項2に記載の吸着部材において、
前記凸部の側面および前記第2部分の側面は、前記凸部の高さ方向に対して傾斜しており、
前記高さ方向に対する前記第2部分の側面の傾斜角は、前記高さ方向に対する前記凸部の側面の傾斜角よりも大きいことを特徴とする吸着部材。 - 請求項3に記載の吸着部材において、
前記第1部分における前記一主面に沿った方向の幅は、前記凸部とは反対側の一端部から前記凸部側の他端部に向かって大きくなっており、
前記第1部分は、前記凸部とは反対側に配された第1領域と、前記凸部側に配された第2領域とを有し、
前記第2領域の側面は、前記凸部の高さ方向に対して傾斜しており、
前記高さ方向に対する前記第2部分の側面の傾斜角は、前記高さ方向に対する前記第2領域の側面の傾斜角よりも大きいことを特徴とする吸着部材。 - 請求項4に記載の吸着部材において、
前記第1領域の側面は、前記凸部の高さ方向に対して傾斜しており、
前記高さ方向に対する前記第2領域の側面の傾斜角は、前記高さ方向に対する前記第1領域の側面の傾斜角よりも大きいことを特徴とする吸着部材。 - 請求項1に記載の吸着部材において、
前記被膜は、CVD膜であることを特徴とする吸着部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013133323A JP6148084B2 (ja) | 2013-06-26 | 2013-06-26 | 吸着部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013133323A JP6148084B2 (ja) | 2013-06-26 | 2013-06-26 | 吸着部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015008240A true JP2015008240A (ja) | 2015-01-15 |
JP6148084B2 JP6148084B2 (ja) | 2017-06-14 |
Family
ID=52338328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013133323A Active JP6148084B2 (ja) | 2013-06-26 | 2013-06-26 | 吸着部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6148084B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108780775A (zh) * | 2016-03-30 | 2018-11-09 | 京瓷株式会社 | 吸附构件 |
JP2020533806A (ja) * | 2017-09-13 | 2020-11-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 基板裏側の損傷の低減のための基板支持体 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08139169A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-05-31 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法 |
JPH10229115A (ja) * | 1997-02-14 | 1998-08-25 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ウェハ用真空チャック |
JPH10242255A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 真空吸着装置 |
JP2006305713A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-11-09 | Nikon Corp | 吸着装置、研磨装置、半導体デバイス及び半導体デバイス製造方法 |
JP2007258668A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-10-04 | Kyocera Corp | 試料保持具 |
JP2009054723A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Kyocera Corp | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 |
-
2013
- 2013-06-26 JP JP2013133323A patent/JP6148084B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08139169A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-05-31 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法 |
JPH10229115A (ja) * | 1997-02-14 | 1998-08-25 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ウェハ用真空チャック |
JPH10242255A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 真空吸着装置 |
JP2006305713A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-11-09 | Nikon Corp | 吸着装置、研磨装置、半導体デバイス及び半導体デバイス製造方法 |
JP2007258668A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-10-04 | Kyocera Corp | 試料保持具 |
JP2009054723A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Kyocera Corp | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108780775A (zh) * | 2016-03-30 | 2018-11-09 | 京瓷株式会社 | 吸附构件 |
CN108780775B (zh) * | 2016-03-30 | 2023-04-07 | 京瓷株式会社 | 吸附构件 |
JP2020533806A (ja) * | 2017-09-13 | 2020-11-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 基板裏側の損傷の低減のための基板支持体 |
US11955362B2 (en) | 2017-09-13 | 2024-04-09 | Applied Materials, Inc. | Substrate support for reduced damage substrate backside |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6148084B2 (ja) | 2017-06-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101142000B1 (ko) | 정전척 | |
JP6349228B2 (ja) | 静電チャック及びその静電チャックに使用されるベース部材 | |
US9117869B2 (en) | Chucking device and chucking method | |
JP6092857B2 (ja) | 流路部材ならびにこれを用いた吸着装置および冷却装置 | |
JP6085152B2 (ja) | 真空チャック | |
JP2011199303A (ja) | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 | |
JP2008211098A (ja) | 真空吸着装置、その製造方法および被吸着物の吸着方法 | |
JP5261057B2 (ja) | 吸着盤および真空吸着装置 | |
JP6154173B2 (ja) | 真空吸着装置及び吸着プレート | |
JP6148084B2 (ja) | 吸着部材 | |
TW201824424A (zh) | 晶粒承載片整平設備 | |
KR100718017B1 (ko) | 진공척 | |
JP4695145B2 (ja) | 試料保持具とこれを用いた試料吸着装置、試料処理方法および試料保持具の製造方法 | |
US20170084477A1 (en) | Substrate support unit and substrate treatment apparatus comprising the same | |
JP2003282690A (ja) | 静電チャック | |
JP4703590B2 (ja) | 真空吸着装置及びそれを用いた吸着方法 | |
JP6199578B2 (ja) | 流路部材、これを用いた真空吸着装置および冷却装置ならびに流路部材の製造方法 | |
JP6224330B2 (ja) | 吸着部材、これを用いた真空吸着装置および冷却装置 | |
JP5202028B2 (ja) | 真空ピンセットおよびこれを用いた基板搬送装置ならびに基板処理装置 | |
JP2006128205A (ja) | ウェハ支持部材 | |
JP2014090038A (ja) | 吸着部材 | |
JP2004209633A (ja) | 加工用基板固定装置およびその製造方法 | |
WO2015029575A1 (ja) | 試料保持具 | |
KR100545670B1 (ko) | 반도체 제조설비의 진공 척 | |
JP5105971B2 (ja) | 真空ピンセットおよびこれを用いた基板搬送装置ならびに基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161108 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170418 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170518 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6148084 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |