JP2007258668A - 試料保持具 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】セラミック基体の一主面上に備えられ、試料を保持するための複数のピン1と、セラミック基体上方側の主面の外縁部に、保持される試料との間を密閉する空間を形成するためのシール部と、を備えており、ピン1は、先端に向かって先細り状であり、複数の傾斜面6からなるショルダー部4を外周にわたって少なくとも1つ備えている。
【選択図】図2
Description
本発明の試料保持具100,200は、炭化珪素、アルミナ、窒化珪素等を主成分とする焼結体から形成されるが、特に、炭化珪素質焼結体からなることが好ましい。炭化珪素質焼結体は、室温における熱伝導率を180W/(m・K)以上とすることができるので、試料に局所的に熱が加わった場合でも放熱性優れ熱膨張に伴う試料の歪みが生じにくく、半導体製造の露光の発熱による精度の悪化を低減することができる。なお、室温における熱伝導率とは、測定温度を22℃から24℃の範囲内として測定した値であり、この温度範囲内のうち何れかの設定温度で測定した熱伝導率が180W/(m・K)以上であることを示す。さらに、室温を超える環境においても、熱伝導率を高い値で保持することができ、例えば600℃以上での用途でも、熱伝導率60W/(m・K)以上を保つことができる。
2:シール部
3:セラミック基体
4、24:ショルダー部
5、25:頂面
5a:頂面の周縁部
6、26:傾斜面
6a、26a:外方に向かって凸の曲面部
6b、26b:内方に向かって凸の曲面部
7:側面、7a:側面の周縁部
27a:外周、27b:内周
8:吸引穴
9:溝
10:段差
20:ワイピングクロス
100,200:試料保持具
Claims (6)
- セラミック基体の一主面上に、試料を保持するための複数のピンと、該複数のピンの周囲に配置され、保持される試料との間を閉鎖するためのシール部と、を備えた試料保持具であって、前記ピンは、先端に向かって先細り状であり、且つ複数の傾斜面からなるショルダー部をその外周にわたって少なくとも1つ備えていることを特徴とする試料保持具。
- 前記ショルダー部は、その傾斜面が外方に向かって凸の曲面部と、内方に向かって凸の曲面部とを有することを特徴とする請求項1に記載の試料保持具。
- 前記セラミック基体の一主面に開口し、前記複数のピンの外側を周回するように配置された、底部に向かって先細り状の少なくとも1つの溝と、該溝の底部に連通するように開口する吸引穴と、を備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の試料保持具。
- 前記溝の開口部は、前記セラミック基体の一主面との境界部が曲面状であることを特徴とする請求項3に記載の試料保持具。
- 前記溝は、前記シール部の外側を周回するように配置されていることを特徴とする請求項3または4に記載の試料保持具。
- 前記セラミック基体は、炭化珪素質焼結体からなることを特徴とする請求項3乃至5の何れかに記載の試料保持具。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010016176A (ja) * | 2008-07-03 | 2010-01-21 | Kyocera Corp | 試料保持具 |
JP2011199303A (ja) * | 2011-05-23 | 2011-10-06 | Kyocera Corp | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 |
JP2015008240A (ja) * | 2013-06-26 | 2015-01-15 | 京セラ株式会社 | 吸着部材 |
JP2020004892A (ja) * | 2018-06-29 | 2020-01-09 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持部材及びその製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08139169A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-05-31 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法 |
JPH09283605A (ja) * | 1996-04-09 | 1997-10-31 | Canon Inc | 基板の吸着保持装置およびその製造方法 |
JPH10242255A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 真空吸着装置 |
JP2000311933A (ja) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Canon Inc | 基板保持装置、基板搬送システム、露光装置、塗布装置およびデバイス製造方法ならびに基板保持部クリーニング方法 |
JP2001274227A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Hitachi Chem Co Ltd | ウェーハ保持用セラミック部材の製造法 |
JP2003068835A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-07 | Taiheiyo Cement Corp | 真空チャック |
JP2005109091A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 基板保持用真空チャック |
-
2006
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08139169A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-05-31 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法 |
JPH09283605A (ja) * | 1996-04-09 | 1997-10-31 | Canon Inc | 基板の吸着保持装置およびその製造方法 |
JPH10242255A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 真空吸着装置 |
JP2000311933A (ja) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Canon Inc | 基板保持装置、基板搬送システム、露光装置、塗布装置およびデバイス製造方法ならびに基板保持部クリーニング方法 |
JP2001274227A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Hitachi Chem Co Ltd | ウェーハ保持用セラミック部材の製造法 |
JP2003068835A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-07 | Taiheiyo Cement Corp | 真空チャック |
JP2005109091A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 基板保持用真空チャック |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010016176A (ja) * | 2008-07-03 | 2010-01-21 | Kyocera Corp | 試料保持具 |
JP2011199303A (ja) * | 2011-05-23 | 2011-10-06 | Kyocera Corp | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 |
JP2015008240A (ja) * | 2013-06-26 | 2015-01-15 | 京セラ株式会社 | 吸着部材 |
JP2020004892A (ja) * | 2018-06-29 | 2020-01-09 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持部材及びその製造方法 |
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