JP2011199303A - 吸着部材、吸着装置および吸着方法 - Google Patents
吸着部材、吸着装置および吸着方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011199303A JP2011199303A JP2011115151A JP2011115151A JP2011199303A JP 2011199303 A JP2011199303 A JP 2011199303A JP 2011115151 A JP2011115151 A JP 2011115151A JP 2011115151 A JP2011115151 A JP 2011115151A JP 2011199303 A JP2011199303 A JP 2011199303A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective layer
- base
- adsorbing
- convex portion
- adsorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】 本発明の一実施形態に係る吸着部材10は、基体1の上面に多数の支持用凸部2を形成した吸着部材10であって、支持用凸部2は、上面中央部に小凸部4を形成した円錐台状をなす基部3の上面及び側面に保護層5を形成してなる。これにより、基部3と保護層5とが強固に密着されることになり、保護層5の剥離によって発生するパーティクルを極力少なくすることができる。
【選択図】 図2
Description
Pa〜1×10−7Pa程度)である。
よって除去して突起を形成した吸着部材が開示されている。
本発明に係る第1の吸着部材について説明する。図1(a)に本発明の吸着部材の斜視図(斜線部は一部を切り欠いて断面を示す)を示す。図1(b)に(a)の断面Aにおける支持用突起(以下、支持用凸部という)2の拡大断面図を示す。なお、図1(b)における下方部は図示を省略している。
の小凸部4に形成されたものである。基部3の上面中央に小凸部4を形成することによって、基体1と被吸着体の接触面積を小さくすることができる。また、基部3の上にさらに小凸部4が形成されているので、基体の上面に垂直方向に支持用凸部2を高く形成することができる。このように支持用凸部2を高く形成できることにより、被吸着体を真空吸着する際の真空応答性(被吸着体を吸着部材に載置してから真空吸着されるまでの時間を短くすること)を向上させることができる。
らつきが小さいことにより、保護層5の色調が均一になる。また、保護層5の比熱容量が少ないので、複数の小凸部4の頂部の平面度を低下させることがない。さらに、保護層5の熱膨張率が保護層表面全体にわたって均一になるので、保護層5に応力が発生しにくく、保護層5の剥離が特に防止される。
次に、本発明に係る第2の吸着部材について説明する。なお、特に説明しない場合を除いて、上述した第1の吸着部材と同様の態様とする。図2に第2の吸着部材の一部拡大断面図を示す。なお、吸着部材10の外観は、前記第1の吸着部材で説明した図1(a)とほぼ同じであるが、被吸着体を支持する支持用凸部の構造が大きく異なる。
め、例えばCVDにより成膜した炭化珪素膜をサンドブラスト加工した場合、加工面に多数の凹凸が形成され、この凹凸に微小のパーティクルが入り込み、被吸着体に再付着するおそれがある。
本発明の第3の吸着部材について説明する。なお、特に説明しない場合を除いて、上述した第1の吸着部材と同様とする。図3に吸着部材10の一部拡大断面図を示す。
次に、上記第1,第2の吸着部材のさらに好ましい態様について説明する。図4に小凸部4の頂部の上面周囲を面取り加工した様子の側面図を示す。
用いればよい。
本発明の吸着装置は、上述した優れた吸着部材10と、この吸着部材10に被吸着体を吸着させるための吸着手段とを備えてなるものである。ここで、吸着手段は、被吸着体を保持するための作用力として、バネ等の機械的な力、差圧力、静電気力等を用いることのできる手段をいうものする。
公知の方法で炭化珪素からなる成形体を作製し、この成形体を1900〜2100℃、Arガス中で焼結し、直径400mmの炭化珪素焼結体を作製した。支持用凸部2の最終形状は、図1(b)に示す形状とした。
実施例1と同様にして、炭化珪素焼結体を作製した。支持用凸部の最終形状は、図2に示す形状とした。
試験を行ったところ、支持用凸部において膜に剥がれやクラックが生じることは皆無であった。
<実施例3>
実施例1と同様にして、炭化珪素焼結体を作製した。支持用凸部の最終形状は図3の形状とした。
一方、比較例として、図6に示す吸着部材20を製作した。図6(a)は吸着部材20斜視図、(b)は(a)の一部拡大断面図をそれぞれ示す。
2,22:支持用突起(支持用凸部)
3,23:基部
4,24:突出部(小凸部)
5,25:保護層
6:小凸部上面周囲
7,27:小凸部上面
10,20: 吸着部材
Claims (9)
- 基体の表面に複数の支持用突起を形成した吸着部材であって、前記支持用突起は、上面中央部に突出部を形成した円錐台状をなす基部の上面及び側面に保護層を形成してなることを特徴とする吸着部材。
- 基体の表面に複数の支持用突起を形成した吸着部材であって、前記支持用突起は、上部を細長円柱状とし下部を円錐状に広がる形状とした基部の上面及び側面に保護層を形成してなることを特徴とする吸着部材。
- 前記保護層、前記基体および前記基部は、同材質であることを特徴とする請求項1または2に記載の吸着部材。
- 前記保護層、前記基体および前記基部は、炭化珪素を主成分とすることを特徴とする請求項3に記載の吸着部材。
- 前記保護層は、化学的気相成長法で形成した炭化珪素膜であり
前記基体および前記基部は、炭化珪素質焼結体であることを特徴とする請求項4に記載の吸着部材。 - 被吸着体を吸着するための吸気孔を備えてなることを特徴とする請求項1または2に記載の吸着部材。
- 請求項1乃至5のいずれかに記載の吸着部材と、被吸着体を該吸着部材に吸着させるための吸着手段とを備えてなる吸着装置。
- 請求項6に記載の吸着部材と、前記吸気孔から吸気を行わせるための吸気手段とを備えてなる吸着装置。
- 請求項1乃至6のいずれかに記載の吸着部材を用いて、被吸着体を前記支持用突起で支持するようにしたことを特徴とする吸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011115151A JP5063797B2 (ja) | 2011-05-23 | 2011-05-23 | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011115151A JP5063797B2 (ja) | 2011-05-23 | 2011-05-23 | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007218954A Division JP4782744B2 (ja) | 2007-08-24 | 2007-08-24 | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011199303A true JP2011199303A (ja) | 2011-10-06 |
JP5063797B2 JP5063797B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=44877036
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011115151A Active JP5063797B2 (ja) | 2011-05-23 | 2011-05-23 | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5063797B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013113569A1 (en) * | 2012-02-03 | 2013-08-08 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder |
WO2015076369A1 (ja) * | 2013-11-22 | 2015-05-28 | 京セラ株式会社 | 静電チャック |
KR20170134216A (ko) * | 2016-05-26 | 2017-12-06 | 니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤 | 기판유지장치 및 그 제조방법 |
TWI636500B (zh) * | 2016-03-09 | 2018-09-21 | 日本特殊陶業股份有限公司 | Vacuum adsorption method |
JP2019040983A (ja) * | 2017-08-24 | 2019-03-14 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置 |
WO2019081174A1 (en) * | 2017-10-27 | 2019-05-02 | Asml Holding N.V. | BURLS HAVING MODIFIED SURFACE TOPOGRAPHY FOR HOLDING AN OBJECT IN LITHOGRAPHIC APPLICATIONS |
TWI720323B (zh) * | 2017-06-26 | 2021-03-01 | 日商日本特殊陶業股份有限公司 | 基板保持構件 |
US11101161B2 (en) | 2017-06-26 | 2021-08-24 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Substrate holding member |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6212412B2 (ja) * | 2014-02-28 | 2017-10-11 | 日本特殊陶業株式会社 | 真空吸着部材 |
CN106716619B (zh) * | 2014-09-30 | 2020-09-15 | 住友大阪水泥股份有限公司 | 静电吸盘装置 |
JP6867149B2 (ja) | 2015-12-25 | 2021-04-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持部材 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08139169A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-05-31 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法 |
JPH09260471A (ja) * | 1996-03-18 | 1997-10-03 | Kazuo Inoue | 焼結炭化硅素基体上に化学蒸着炭化硅素膜をコーティングした半導体ウエハ用真空チャック |
JPH10229115A (ja) * | 1997-02-14 | 1998-08-25 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ウェハ用真空チャック |
JPH10242255A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 真空吸着装置 |
JP2000311933A (ja) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Canon Inc | 基板保持装置、基板搬送システム、露光装置、塗布装置およびデバイス製造方法ならびに基板保持部クリーニング方法 |
JP2003068835A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-07 | Taiheiyo Cement Corp | 真空チャック |
JP2007207840A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | サセプタ装置 |
JP2007258668A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-10-04 | Kyocera Corp | 試料保持具 |
JP2007266611A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Carl Zeiss Smt Ag | 一時的に基板を支持する支持構造 |
-
2011
- 2011-05-23 JP JP2011115151A patent/JP5063797B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08139169A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-05-31 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法 |
JPH09260471A (ja) * | 1996-03-18 | 1997-10-03 | Kazuo Inoue | 焼結炭化硅素基体上に化学蒸着炭化硅素膜をコーティングした半導体ウエハ用真空チャック |
JPH10229115A (ja) * | 1997-02-14 | 1998-08-25 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ウェハ用真空チャック |
JPH10242255A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 真空吸着装置 |
JP2000311933A (ja) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Canon Inc | 基板保持装置、基板搬送システム、露光装置、塗布装置およびデバイス製造方法ならびに基板保持部クリーニング方法 |
JP2003068835A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-07 | Taiheiyo Cement Corp | 真空チャック |
JP2007207840A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | サセプタ装置 |
JP2007258668A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-10-04 | Kyocera Corp | 試料保持具 |
JP2007266611A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Carl Zeiss Smt Ag | 一時的に基板を支持する支持構造 |
Cited By (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9507274B2 (en) | 2012-02-03 | 2016-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder |
CN104081285A (zh) * | 2012-02-03 | 2014-10-01 | Asml荷兰有限公司 | 衬底保持器和制造衬底保持器的方法 |
WO2013113569A1 (en) * | 2012-02-03 | 2013-08-08 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder |
US10898955B2 (en) | 2012-02-03 | 2021-01-26 | Asme Netherlands B.V. | Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder |
US11376663B2 (en) | 2012-02-03 | 2022-07-05 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder |
JP2016187046A (ja) * | 2012-02-03 | 2016-10-27 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 基板ホルダ及び基板ホルダ製造方法 |
US10245641B2 (en) | 2012-02-03 | 2019-04-02 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder |
US10875096B2 (en) | 2012-02-03 | 2020-12-29 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder |
US11628498B2 (en) | 2012-02-03 | 2023-04-18 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder |
US9737934B2 (en) | 2012-02-03 | 2017-08-22 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder |
US11235388B2 (en) | 2012-02-03 | 2022-02-01 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder |
US11754929B2 (en) | 2012-02-03 | 2023-09-12 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder and method of manufacturing a substrate holder |
US11960213B2 (en) | 2012-02-03 | 2024-04-16 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder |
US10418266B2 (en) | 2013-11-22 | 2019-09-17 | Kyocera Corporation | Electrostatic chuck |
EP3073521A4 (en) * | 2013-11-22 | 2017-03-29 | Kyocera Corporation | Electrostatic chuck |
JPWO2015076369A1 (ja) * | 2013-11-22 | 2017-03-16 | 京セラ株式会社 | 静電チャック |
US20160300746A1 (en) * | 2013-11-22 | 2016-10-13 | Kyocera Corporation | Electrostatic chuck |
EP3073521A1 (en) * | 2013-11-22 | 2016-09-28 | Kyocera Corporation | Electrostatic chuck |
WO2015076369A1 (ja) * | 2013-11-22 | 2015-05-28 | 京セラ株式会社 | 静電チャック |
TWI636500B (zh) * | 2016-03-09 | 2018-09-21 | 日本特殊陶業股份有限公司 | Vacuum adsorption method |
KR20170134216A (ko) * | 2016-05-26 | 2017-12-06 | 니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤 | 기판유지장치 및 그 제조방법 |
KR102123889B1 (ko) | 2016-05-26 | 2020-06-17 | 니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤 | 기판유지장치 및 그 제조방법 |
TWI720323B (zh) * | 2017-06-26 | 2021-03-01 | 日商日本特殊陶業股份有限公司 | 基板保持構件 |
US11101161B2 (en) | 2017-06-26 | 2021-08-24 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Substrate holding member |
JP6993813B2 (ja) | 2017-08-24 | 2022-01-14 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置 |
JP2019040983A (ja) * | 2017-08-24 | 2019-03-14 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置 |
US11270906B2 (en) | 2017-10-27 | 2022-03-08 | Asml Holding N.V. | Burls with altered surface topography for holding an object in lithography applications |
JP2021500596A (ja) * | 2017-10-27 | 2021-01-07 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | リソグラフィアプリケーション内でオブジェクトを保持するための改変された表面トポグラフィを伴うバール |
JP7098722B2 (ja) | 2017-10-27 | 2022-07-11 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | リソグラフィアプリケーション内でオブジェクトを保持するための改変された表面トポグラフィを伴うバール |
CN111279266A (zh) * | 2017-10-27 | 2020-06-12 | Asml控股股份有限公司 | 用于光刻应用的具有变化的表面形貌的凸节 |
WO2019081174A1 (en) * | 2017-10-27 | 2019-05-02 | Asml Holding N.V. | BURLS HAVING MODIFIED SURFACE TOPOGRAPHY FOR HOLDING AN OBJECT IN LITHOGRAPHIC APPLICATIONS |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5063797B2 (ja) | 2012-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5063797B2 (ja) | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 | |
JP4782744B2 (ja) | 吸着部材、吸着装置および吸着方法 | |
TWI728977B (zh) | 具有沉積表面特徵之基板支撐組件 | |
US10937684B2 (en) | Placement member and method of manufacturing the same | |
JP4739039B2 (ja) | 静電チャック装置 | |
JPH10242255A (ja) | 真空吸着装置 | |
JP2003224180A (ja) | ウエハ支持部材 | |
US20080138504A1 (en) | Coatings for components of semiconductor wafer fabrication equipment | |
JP2010016176A (ja) | 試料保持具 | |
JP4782788B2 (ja) | 試料保持具とこれを用いた試料吸着装置およびこれを用いた試料処理方法 | |
JP2001308075A (ja) | ウェーハ支持体 | |
JP3121886B2 (ja) | 真空吸着装置 | |
JP4695145B2 (ja) | 試料保持具とこれを用いた試料吸着装置、試料処理方法および試料保持具の製造方法 | |
US6835415B2 (en) | Compliant layer chucking surface | |
JPH10229115A (ja) | ウェハ用真空チャック | |
JP2019009418A (ja) | 基板保持部材 | |
JP7141262B2 (ja) | 基板保持部材及びその製造方法 | |
KR102338223B1 (ko) | 정전 척 장치 | |
JPH09260471A (ja) | 焼結炭化硅素基体上に化学蒸着炭化硅素膜をコーティングした半導体ウエハ用真空チャック | |
CN109119372B (zh) | 基板保持构件 | |
JP2004322218A (ja) | 真空吸着装置 | |
JP6148084B2 (ja) | 吸着部材 | |
KR20110136240A (ko) | 웨이퍼 지지장치 및 그 제조방법 | |
JP2005032977A (ja) | 真空チャック | |
CN111837329A (zh) | 静电卡盘装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120229 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120306 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120507 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120710 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120807 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5063797 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150817 Year of fee payment: 3 |