JP2015006674A - レーザ加工装置、レーザ照射位置補正方法、穴明け加工方法及び配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】補正精度を向上させることのできるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置10は、レーザ発振器12と、レーザ発振器12から出力されたレーザ光L1を走査するガルバノミラー14,15と、それらガルバノミラー14,15から出力されたレーザ光L1を集光する集光レンズ18とを有する。レーザ加工装置10は、集光レンズ18から出力されるレーザ光L1によって穴明けされる配線基板30が載置される第1領域R1と、第1領域R1とは異なる第2領域R2とを有するテーブル20を有する。レーザ加工装置10は、第2領域R2に載置され、配線基板30と、その基板上に積層されたパターン42と、パターン42を被覆するように上記基板上に積層されたフィルムとを有するワーク40と、パターン42を撮像する撮像装置19とを有する。
【選択図】図1
【解決手段】レーザ加工装置10は、レーザ発振器12と、レーザ発振器12から出力されたレーザ光L1を走査するガルバノミラー14,15と、それらガルバノミラー14,15から出力されたレーザ光L1を集光する集光レンズ18とを有する。レーザ加工装置10は、集光レンズ18から出力されるレーザ光L1によって穴明けされる配線基板30が載置される第1領域R1と、第1領域R1とは異なる第2領域R2とを有するテーブル20を有する。レーザ加工装置10は、第2領域R2に載置され、配線基板30と、その基板上に積層されたパターン42と、パターン42を被覆するように上記基板上に積層されたフィルムとを有するワーク40と、パターン42を撮像する撮像装置19とを有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、レーザ加工装置、レーザ照射位置補正方法、穴明け加工方法及び配線基板の製造方法に関するものである。
従来の配線基板(例えば、多層プリント配線基板)には、上下方向に配置されたパッド間を電気的に接続する導体として、ビアが用いられている。ビアは、パッド上に配置された部分の絶縁層(例えば、樹脂層)にレーザビームを照射することで形成されるビアホールに配設されている。ビアホールは、パッドの上面を露出するように上記絶縁層に形成されている。
近年、電子機器の小型化及び高密度化に伴って、配線基板の小型化及び高密度化や配線パターンの微細化が進められている。これに伴い、配線基板には高精度且つ生産性に優れるビアホール加工(穴明け加工)が要求されている。このようなビアホールの加工には、例えば高出力のCO2レーザやYAGの高調波を利用したUVレーザを用いたレーザ加工装置が用いられている。このレーザ加工装置では、揺動動作する直交配置された2つのガルバノミラーとfθレンズとを組み合わせた光学系を用いて、テーブルに載置された配線基板(基板)上にレーザ照射位置を位置決めする。
ところが、上記レーザ加工装置では、熱などの影響により光学系が変動し、加工すべきビアホールの設計位置と実際にレーザで加工されたビアホールの位置(実加工位置)とにずれ(誤差)が生じてくる。そこで、このような誤差を補正するレーザ照射位置補正方法(ガルバノ補正方法)が種々提案されている(例えば、特許文献1参照)。ガルバノ補正方法の一例について以下に説明する。
例えば、加工対象である基板に実際にビアホールを加工する前に、アクリル板等にビアホールを試し加工し、その加工したビアホールを撮像装置により撮像し、加工狙い位置(設計位置)からの実加工位置のずれ量を算出する。そして、算出したずれ量からガルバノミラーを適切に位置決めするための補正値を求め、その補正値に基づいてガルバノミラーの角度を調整して基板にビアホールを加工する。
しかしながら、上述したガルバノ補正方法における加工狙い位置と実加工位置とのずれ量には、光学系の変動による誤差の他に、基板やアクリル板が載置されたテーブルを移動する際のテーブルの位置決め誤差が含まれてしまう。この点について図11を参照して以下に説明する。
アクリル板にビアホールを試し加工した後、そのビアホールの加工狙い位置C11が位置固定のカメラの中心C13に位置するようにテーブルを移動する。そして、カメラの中心C13とビアホール中心C12のずれ量から、加工狙い位置C11と実加工位置(つまり、ビアホール中心C12)のずれ量を算出する。このように、ずれ量を算出する際には、テーブルの移動を伴うため、そのテーブルの位置決め誤差が含まれてしまう。すなわち、図11に示すように、加工狙い位置C11とカメラの中心C13との間にずれ(誤差)が生じてしまう。それにも関わらず、加工狙い位置C11とカメラの中心C13とのずれ量については考慮されていない。このため、上記算出したずれ量に基づいてガルバノミラーの角度を補正した場合には、補正精度が悪化する。
本発明の一観点によれば、レーザ源と、前記レーザ源から出力されたレーザ光を走査するガルバノミラーと、前記ガルバノミラーから出力されたレーザ光を集光する集光レンズと、前記集光レンズから出力されるレーザ光によって穴明けされる被加工物が載置される第1領域と、前記第1領域とは異なる第2領域とを有するテーブルと、前記第2領域に載置され、基板と、前記基板上に積層されたパターンと、前記パターンを被覆するように前記基板上に積層されたフィルムとを有するワークと、前記パターンを撮像する撮像装置と、を有する。
本発明の一観点によれば、補正精度を向上させることができるという効果を奏する。
以下、一実施形態を添付図面を参照して説明する。
なお、添付図面は、特徴を分かりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、各部材の断面構造を分かりやすくするために、一部の部材のハッチングを省略している。
なお、添付図面は、特徴を分かりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、各部材の断面構造を分かりやすくするために、一部の部材のハッチングを省略している。
まず、レーザ加工装置10の構造について説明する。
図1に示すように、レーザ加工装置10は、制御装置11と、レーザ発振器12と、光路系13と、光路系13から出力されたレーザ光L1を2次元的に走査するための一対のガルバノミラー14,15と、ガルバノスキャナ16,17と、集光レンズ18と、撮像装置19と、テーブル20と、駆動機構21とを有している。
図1に示すように、レーザ加工装置10は、制御装置11と、レーザ発振器12と、光路系13と、光路系13から出力されたレーザ光L1を2次元的に走査するための一対のガルバノミラー14,15と、ガルバノスキャナ16,17と、集光レンズ18と、撮像装置19と、テーブル20と、駆動機構21とを有している。
制御装置11は、レーザ発振器12と、ガルバノスキャナ16,17と、撮像装置19と、駆動機構21とを制御する。
レーザ発振器12は、例えばパルス発振のレーザ源である。レーザ発振器12で発振されるレーザとしては、例えばCO2レーザ、YAGレーザ、ArレーザやKrレーザを用いることができる。
レーザ発振器12は、例えばパルス発振のレーザ源である。レーザ発振器12で発振されるレーザとしては、例えばCO2レーザ、YAGレーザ、ArレーザやKrレーザを用いることができる。
レーザ発振器12から出力されたパルス状のレーザ光L1は、光路系13により例えば線状のレーザ光L1に整形される。そして、線状のレーザ光L1は、2つのガルバノミラー14,15を介して集光レンズ18に入射する。
ガルバノミラー14には、光路系13から出力された線状のレーザ光L1が入射される。このガルバノミラー14は、図1において図中左右方向(X軸方向)にレーザ光L1を走査するように回転する。具体的には、ガルバノミラー14は、そのミラー面がガルバノスキャナ16の駆動軸の回転に伴って変位し、入射されたレーザ光L1の光軸をX軸方向に偏向走査し、レーザ光L1をガルバノミラー15に出力する。すなわち、ガルバノスキャナ16の駆動軸を回転させてガルバノミラー14の角度を変えることにより、レーザ光L1のスポット位置(照射位置)をX軸方向に変化させることができる。
ガルバノミラー15は、図1において図中前後方向(Y軸方向)にレーザ光を走査するように回転する。具体的には、ガルバノミラー15は、そのミラー面がガルバノスキャナ17の駆動軸の回転に伴って変位し、入射されたレーザ光L1の光軸を上記ガルバノミラー14の走査方向と略直交するY軸方向に偏向走査し、集光レンズ18にレーザ光L1を出力する。すなわち、ガルバノスキャナ17の駆動軸を回転させてガルバノミラー15の角度を変えることにより、レーザ光L1のスポット位置をY軸方向に変化させることができる。このように、ガルバノミラー14,15は、光路系13から出力されたレーザ光L1のスポット位置(照射位置)を調整する。
集光レンズ18は、ガルバノミラー14,15によって偏向されたレーザ光L1、つまりXY平面内で2次元的に走査されたレーザ光L1を、テーブル20に載置された被加工物である配線基板30上の目的の位置に集光照射する。これにより、ガルバノスキャナ16,17によってレーザ光L1を2次元走査できる範囲(つまり、スキャンエリアA1)にある配線基板30に多数の穴30Xを形成することができる。なお、上記集光レンズ18は、例えばfθレンズである。
テーブル20の上方には、撮像装置19が設けられている。撮像装置19としては、例えばCCDカメラを用いることができる。例えば、撮像装置19は、設置位置及び撮像位置が固定されている。
駆動機構21は、テーブル20をX軸方向及びY軸方向に自在に移動する。
次に、テーブル20及び駆動機構21の構造について説明する。
図2に示すように、レーザ加工装置10は、略直方体状に形成されたベッド22を有している。このベッド22の上面には、一対のガイドレール23がX軸方向全幅に渡って配設されている。このガイドレール23には、第1テーブル20AがX軸方向に移動可能に取り付けられている。第1テーブル20Aの上面には、一対のガイドレール24がY軸方向全幅に渡って配設されている。このガイドレール24には、第2テーブル20BがY軸方向に移動可能に取り付けられている。第1テーブル20AにはX軸モータ25が連結され、第2テーブル20BにはY軸モータ26が連結されている。そして、第1テーブル20Aは、X軸モータ25の正逆回転によって、X矢印方向及び反X矢印方向に移動され、第2テーブル20Bは、Y軸モータ26の正逆回転によって、Y矢印方向及び反Y矢印方向に移動される。このため、第2テーブル20Bは、X軸方向及びY軸方向に駆動可能であり、ベッド22上でXY平面方向に自在に位置決めすることができる。このように、テーブル20は、第1テーブル20Aと第2テーブル20Bとを有し、駆動機構21(ここでは、ガイドレール23,24、X軸モータ25及びY軸モータ26)によりX軸方向及びY軸方向に駆動される。
次に、テーブル20及び駆動機構21の構造について説明する。
図2に示すように、レーザ加工装置10は、略直方体状に形成されたベッド22を有している。このベッド22の上面には、一対のガイドレール23がX軸方向全幅に渡って配設されている。このガイドレール23には、第1テーブル20AがX軸方向に移動可能に取り付けられている。第1テーブル20Aの上面には、一対のガイドレール24がY軸方向全幅に渡って配設されている。このガイドレール24には、第2テーブル20BがY軸方向に移動可能に取り付けられている。第1テーブル20AにはX軸モータ25が連結され、第2テーブル20BにはY軸モータ26が連結されている。そして、第1テーブル20Aは、X軸モータ25の正逆回転によって、X矢印方向及び反X矢印方向に移動され、第2テーブル20Bは、Y軸モータ26の正逆回転によって、Y矢印方向及び反Y矢印方向に移動される。このため、第2テーブル20Bは、X軸方向及びY軸方向に駆動可能であり、ベッド22上でXY平面方向に自在に位置決めすることができる。このように、テーブル20は、第1テーブル20Aと第2テーブル20Bとを有し、駆動機構21(ここでは、ガイドレール23,24、X軸モータ25及びY軸モータ26)によりX軸方向及びY軸方向に駆動される。
上記ベッド22には、門形のクロスレール27が、テーブル20(第1テーブル20A及び第2テーブル20B)を跨ぐように架設されている。このクロスレール27には、加工ヘッド28が取り付けられている。加工ヘッド28は、ここでは図示を省略するが、図1に示したガルバノミラー14,15と、ガルバノスキャナ16、17と、集光レンズ18を含んでいる。
図1に示すように、テーブル20(具体的には、第2テーブル20B)は、第1領域R1とその第1領域R1と平面視で重ならない第2領域R2とを有している。テーブル20の第1領域R1には、被加工物である配線基板30が載置されている。また、テーブル20の第2領域R2には、ガルバノ補正用(レーザ照射位置補正用)のワーク40が載置されている。
ここで、図3に示すように、ワーク40は、基板41と、基板41の第1面41A(ここでは、上面)上に形成された複数のパターン42と、それらパターン42を被覆するように基板41の第1面41A上に形成されたフィルム43とを有している。
基板41は、例えば平面視略正方形状の平板である。この基板41は、例えばガラス基板である。基板41の材料としては、熱膨脹係数の小さい(例えば、0±1.0×10−6/℃程度)材料であることが好ましい。また、基板41の材料としては、例えば平滑性及び平坦性に優れた材料であることが好ましい。このような基板41の材料としては、例えば石英ガラス、青板ガラスや低熱膨脹ガラス(SiO2−TiO2系ガラスなど)を用いることができる。基板41の厚さは、例えば1〜2mm程度とすることができる。
図4に示すように、複数のパターン42は、基板41の第1面41A上にグリッドアレイ(格子配列)に設けられている。すなわち、複数のパターン42は、基板41の第1面41A上に、平面視においてマトリクス状(ここでは、5×5)に配置されている。例えば、複数のパターン42のうちX軸方向に一列に沿って並設されたパターン42は、X軸方向に等間隔に配設されている。また、複数のパターン42のうちY軸方向に一列に沿って並設されたパターン42は、Y軸方向に等間隔に配設されている。これら複数のパターン42は、上述したガルバノスキャナ16,17によってレーザ光L1を2次元走査できる範囲(つまり、スキャンエリアA1)を全体的に覆う範囲内に配設されている。
また、各パターン42は、例えば平面視略円形状に形成されている。例えば、各パターン42の直径は、当該レーザ加工装置10により形成される穴30X(例えば、ビアホール)の直径よりも大きく設定されている。穴30Xの直径が50〜80μm程度であるときの各パターン42の直径は、例えば300〜900μm程度とすることができる。なお、各パターン42の厚さは、例えば0.06〜0.15μm程度とすることができる。
パターン42の材料としては、例えばクロム、モリブデンシリサイド、弗化クロム、銅などの金属材料を用いることができる。このようなパターン42は、例えば、基板41の第1面41A上に、スパッタ法、CVD法や蒸着法などにより上記金属材料を被着し、その金属材料上にレジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクとして上記金属材料をエッチングすることにより形成することができる。例えば、基板41及びパターン42は、クロムマスクの元となるマスクブランクスを使用して形成することができる。
図3に示すように、フィルム43は、基板41の第1面41A上に、パターン42の上面42A(第1面)及び側面を被覆するように積層されている。フィルム43の材料としては、例えば透明又は半透明の材料であることが好ましい。また、フィルム43の材料としては、例えば加工性に優れた材料であることが好ましい。このようなフィルム43の材料としては、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、PEN(ポリエチレンナフタレート)フィルムなどを用いることができる。また、フィルム43としては、例えばPETやPENの表面に離型処理が施されたフィルムを用いることもできる。離型剤としては、例えばシリコーン系離型剤やフッ素系離型剤を用いることができる。なお、フィルム43の離型処理が施された面が基板41の第1面41Aに接着されている。このような離型処理を施すことにより、基板41からフィルム43を容易に剥離することができる。
次に、上記レーザ加工装置10による穴明け加工について説明する。
加工対象である配線基板30がテーブル20(第2テーブル20B)の第1領域R1に載置されると、制御装置11は、駆動機構21(X軸モータ25及びY軸モータ26)を制御し、テーブル20を加工狙い位置に移動させる。続いて、制御装置11は、ガルバノスキャナ16,17の駆動軸を回転させ、ガルバノミラー14,15を加工狙い位置に応じた角度に位置決めする。
加工対象である配線基板30がテーブル20(第2テーブル20B)の第1領域R1に載置されると、制御装置11は、駆動機構21(X軸モータ25及びY軸モータ26)を制御し、テーブル20を加工狙い位置に移動させる。続いて、制御装置11は、ガルバノスキャナ16,17の駆動軸を回転させ、ガルバノミラー14,15を加工狙い位置に応じた角度に位置決めする。
次いで、制御装置11は、レーザ発振器12を制御し、そのレーザ発振器12からレーザ光L1を出力させる。レーザ発振器12から出力されたレーザ光L1は、光路系13を通過し、ガルバノミラー14,15を介して集光レンズ18に入射し、ガルバノミラー14,15の角度で定まる配線基板30上(つまり、加工狙い位置)に略垂直に入射して穴30Xを加工する。
その後、制御装置11は、ガルバノスキャナ16,17の駆動軸を回転させ、ガルバノミラー14,15をスキャンエリアA1内の次の加工狙い位置に応じた角度に位置決めする。そして、制御装置11は、レーザ発振器12からレーザ光L1を出力させ、配線基板30上の次の加工狙い位置に穴30Xを加工する。これ以降、スキャンエリアA1内の穴30Xの加工が終了するまで上記動作を繰り返し実行する。
そして、スキャンエリアA1内の穴30Xの加工が終了すると、制御装置11は、テーブル20を移動させ、次のスキャンエリアA1上に集光レンズ18を配置させる。以下、配線基板30に対する穴明け加工が終了するまで上記動作を繰り返し実行する。
次に、上記レーザ加工装置10のレーザ光L1のスポット位置(照射位置)を補正するレーザ照射位置補正処理について説明する。
図5のステップS1において、制御装置11は、レーザ照射位置補正処理を開始する。このレーザ照射位置補正処理は、例えば、定期的に(つまり、一定時間経過する毎に)実施するようにしてもよいし、被加工物である配線基板30をテーブル20にセットする度に実施するようにしてもよい。このレーザ照射位置補正処理では、まず、図3及び図4に示したワーク40をテーブル20(第2テーブル20B)の第2領域R2に載置する。
図5のステップS1において、制御装置11は、レーザ照射位置補正処理を開始する。このレーザ照射位置補正処理は、例えば、定期的に(つまり、一定時間経過する毎に)実施するようにしてもよいし、被加工物である配線基板30をテーブル20にセットする度に実施するようにしてもよい。このレーザ照射位置補正処理では、まず、図3及び図4に示したワーク40をテーブル20(第2テーブル20B)の第2領域R2に載置する。
続いて、制御装置11は、駆動機構21(X軸モータ25及びY軸モータ26)を制御し、ワーク40を集光レンズ18に対向させるようにテーブル20を移動させる(ステップS2)。例えば、テーブル20は、ワーク40のパターン42の少なくとも一部が撮像装置19の撮影範囲に配置されるように、且つワーク40のパターン42の全てがレーザ光L1のスキャンエリアA1内に配置されるようにテーブル20を移動させる。
次いで、制御装置11は、撮像装置19を制御し、その撮像装置19によりワーク40に設けられたパターン42を撮像し、その撮像したパターン42を位置基準としてアライメントを行う(ステップS3)。具体的には、本工程では、複数のパターン42のうち所定数(例えば、4つ)のパターン42を位置基準としてアライメントが行われる。
例えば図6(a)に示すように、平面視格子状に配列された複数のパターン42のうち四隅に配置された4つのパターン42(破線枠で囲んだパターン42)を位置基準としてアライメントが行われる。なお、位置基準として使用される4つのパターン42は、四隅に配置された4つのパターン42に限らず、任意の位置に配置された4つのパターン42であってもよい。但し、位置基準として使用される4つのパターン42は、直線状に一列に並んで配置された4つのパターン42ではなく、4つのパターン42を直線で結んだときにその直線によって多角形状(図6(a)の例では、正方形状)が形成される位置に配置されたパターン42であることが好ましい。
このため、例えば図6(b)に示すように、平面視格子状に配置された複数のパターン42のうち、長方形の頂点に相当する位置に配置された4つのパターン42(破線枠で囲んだパターン42)を位置基準として使用するようにしてもよい。また、例えば図6(c)に示すように、平面視格子状に配置された複数のパターン42のうち、図中の左上に形成された4つのパターン42(破線枠で囲んだパターン42)を位置基準として使用するようにしてもよい。すなわち、平面視格子状に配置された複数のパターン42のうち一部の領域に密集した4つのパターン42を位置基準として使用するようにしてもよい。
このような4つのパターン42を位置基準としてアライメントを行うことにより、加工ヘッド28等をワーク40の位置及び傾き(具体的には、パターン42の位置及び傾き)に合わせることができる。すなわち、4つのパターン42を用いてアライメントを行うことにより、上記4つのパターン42を基準にしてテーブル20上におけるワーク40及びパターン42の位置を正確に把握することができ、そのパターン42の位置及び傾きに合わせて加工ヘッド28をワーク40の上方に配置することができる。
次に、ワーク40の各パターン42上に形成されたフィルム43に穴43Xを明ける(ステップS4)。すなわち、上記説明した穴明け加工と同様に、各パターン42上のフィルム43に穴43Xを明ける。具体的には、制御装置11は、ガルバノスキャナ16,17の駆動軸を回転させ、ガルバノミラー14,15を加工狙い位置に応じた角度に位置決めする。そして、制御装置11は、レーザ発振器12からレーザ光L1を出力させ、ワーク40のパターン42上の加工狙い位置に穴43Xを加工する。ここでは、例えば加工狙い位置(設計位置)は、各パターン42の上面42Aの中心に設定される。
図7に示すように、パターン42上に形成される穴43Xは、パターン42上に形成されたフィルム43を厚さ方向に貫通しないように形成される。すなわち、穴43Xは、パターン42の上面42Aに到達しないように形成される。具体的には、穴43Xは、その底面がフィルム43の厚さ方向の中途に位置するように形成される。これにより、パターン42の上面42Aが損傷することを抑制することができる。
本工程では、上記4つのパターン42を用いてアライメントを行った後にワーク40に対する穴明け加工を行っているため、パターン42の位置及び傾きに合わせてそのパターン42上に穴43Xを加工することができる。
続いて、スキャンエリアA1内のパターン42に対する穴明け加工が終了すると、制御装置11は、撮像装置19を制御し、パターン42とそのパターン42上に形成された穴43Xとを撮像する(ステップS5)。例えば、制御装置11は、まず、駆動機構21(X軸モータ25及びY軸モータ26)を制御し、撮像対象のパターン42の上面42Aの中心C1が、撮像装置19によって撮像される撮像画像P1(図8参照)の中心C3(カメラの中心)と平面視で一致するように、テーブル20を移動させる。続いて、制御装置11は、撮像装置19を制御し、撮像対象のパターン42とそのパターン42上に形成された穴43Xとが1つの撮像画像P1(図8参照)内に収まるようにワーク40を撮像させる。
次いで、図8(a)に示すように、制御装置11は、撮像されたパターン42の上面42Aの中心C1の位置と、撮像された穴43Xの平面視における中心C2の位置とのずれ量を算出する(ステップS6)。例えば、図8(a)に示すように、撮像画像P1の中心C3の位置とパターン42の上面42Aの中心C1の位置とのずれ量(第1ずれ量)を算出するとともに、撮像画像P1の中心C3の位置と穴43Xの平面視における中心C2の位置とのずれ量(第2ずれ量)を算出する。これら算出した2つのずれ量に基づいて、パターン42の上面42Aの中心C1の位置と、穴43Xの中心C2の位置とのずれ量を算出する。ここで、パターン42は平坦性に優れた基板41上に形成されており、パターン42は位置精度良く形成されている。換言すると、平坦性に優れた基板41上に形成されたパターン42の設計位置からのずれ量は、テーブル20の移動による位置決め誤差に比べて十分に小さい。さらに、4つのパターン42を用いてアライメントを行った後に、パターン42の上面42Aの中心C1の位置を加工狙い位置として穴43Xを加工している。このため、本例では、パターン42の上面42Aの中心C1を加工狙い位置として見ることができる。したがって、上述したようにパターン42の上面42Aの中心C1からの穴43Xの中心C2のずれ量を算出することにより、加工狙い位置からの穴43Xの中心C2のずれ量を算出することができる。このとき、図8(b)に示すように、仮にテーブル20の移動による位置決め誤差等に起因してカメラの中心C3位置がパターン42の中心C1位置からずれた場合であっても、パターン42の中心C1位置と穴43Xの中心C2位置とのずれ量が算出される。このため、本工程で算出される、パターン42の中心C1(加工狙い位置)と穴43Xの中心C2とのずれ量には、テーブル20の移動による位置決め誤差が含まれない。
なお、以上説明したステップS5及びステップS6の処理を、スキャンエリアA1内の各パターン42及びそのパターン42上に形成された穴43Xに対して実施し、それら各パターン42と各穴43Xとのずれ量を算出する。
次に、図5に示したステップS7において、制御装置11は、上記算出したパターン42の中心C1位置と穴43Xの中心C2位置とのずれ量に基づいて、ガルバノミラー14,15の角度を補正する(ガルバノ補正処理)。例えば、制御装置11は、パターン42の中心C1位置と穴43Xの中心C2位置とのずれ量が0(ゼロ)に近づくように、レーザ発振器12から出力されるレーザ光L1の照射位置を位置決めするためのガルバノミラー14,15の角度(位置決め角度)を調整する。このようなガルバノ補正処理を実施することにより、レーザ光L1の照射位置を加工狙い位置に近づけることができる。このとき、上記ずれ量には、テーブル20の移動による位置決め誤差が含まれないため、ガルバノミラー14,15の角度を精度良く補正することができ、レーザ光L1の照射位置を加工狙い位置に精度良く近づけることができる。
次に、上記レーザ照射位置補正処理を含む配線基板(又は半導体装置)の製造方法について説明する。
まず、図9に示すステップS10において、例えば基板や層間絶縁層などの第1絶縁層上に配線パターンを形成する。この配線パターンは、例えばサブトラクティブ法やセミアディティブ法などの各種の配線形成方法を用いて形成することができる。
まず、図9に示すステップS10において、例えば基板や層間絶縁層などの第1絶縁層上に配線パターンを形成する。この配線パターンは、例えばサブトラクティブ法やセミアディティブ法などの各種の配線形成方法を用いて形成することができる。
続いて、ステップS11において、配線パターンを被覆するように上記第1絶縁層上に別の第2絶縁層を形成する。この第2絶縁層は、例えば第1絶縁層上に樹脂フィルムをラミネートした後に、樹脂フィルムをプレスしながら熱処理して硬化させることにより形成することができる。
次いで、ステップS12において、配線基板(つまり、上述した第1絶縁層、第2絶縁層及び配線パターンを含む構造体)をレーザ加工装置10のテーブル20(第2テーブル20B)の第1領域R1に載置する。
次に、ステップS13において、上述したレーザ照射位置補正処理を実施する。すなわち、上述したステップS1〜S7の処理を実施し、加工狙い位置と実際の穴の加工位置とが一致するように、レーザ光L1の照射位置を補正する。
続いて、ステップS14において、上述したレーザ加工装置10による穴明け加工を実施し、第2絶縁層に該第2絶縁層を貫通して上記配線パターンに到達するビアホール(穴)を形成する。このとき、上記レーザ照射位置補正処理によりガルバノミラー14,15の角度が高精度に補正され、レーザ光L1の照射位置が加工狙い位置に一致するように高精度に補正されているため、上記ビアホールを位置精度良く形成することができる。
その後、例えば、ビアホールにビア導体を充填してビア配線を形成するとともに、そのビア配線を介して上記配線パターンに電気的に接続される配線パターンを第2絶縁層上に形成する(ステップS15)。これらビア配線及び配線パターンは、例えばサブトラクティブ法やセミアディティブ法などの各種の配線形成方法を用いて形成することができる。
このようなステップS10〜S15の処理を含む製造方法により、本実施形態のレーザ加工装置10によって形成されたビアホールを有する配線基板(又は半導体装置)を製造することができる。
以上説明した本実施形態によれば、以下の効果を奏することができる。
(1)基板41のパターン42上に形成されたフィルム43に穴43Xを明け、パターン42と穴43Xとを1つの撮像画像P1内に撮像し、パターン42の中心C1と穴43Xの中心C2とのずれ量を算出するようにした。このため、仮にパターン42と穴43Xを撮像する際に、テーブル20の移動による位置決め誤差等に起因して、撮像画像P1の中心C3位置とパターン42の中心C1位置がずれた場合であっても、パターン42の中心C1と穴43Xの中心C2とのずれ量には、上記テーブル20の移動による位置決め誤差が含まれない。そして、このようなテーブル20の移動による位置決め誤差が含まれない上記ずれ量に基づいてガルバノミラー14,15の角度を補正するようにした。このため、ガルバノミラー14,15の角度を精度良く補正することができる。換言すると、ガルバノミラー14,15の角度補正、つまりレーザ照射位置補正の補正精度を向上させることができる。これにより、レーザ光L1の照射位置を加工狙い位置に精度良く近づけることができる。
(1)基板41のパターン42上に形成されたフィルム43に穴43Xを明け、パターン42と穴43Xとを1つの撮像画像P1内に撮像し、パターン42の中心C1と穴43Xの中心C2とのずれ量を算出するようにした。このため、仮にパターン42と穴43Xを撮像する際に、テーブル20の移動による位置決め誤差等に起因して、撮像画像P1の中心C3位置とパターン42の中心C1位置がずれた場合であっても、パターン42の中心C1と穴43Xの中心C2とのずれ量には、上記テーブル20の移動による位置決め誤差が含まれない。そして、このようなテーブル20の移動による位置決め誤差が含まれない上記ずれ量に基づいてガルバノミラー14,15の角度を補正するようにした。このため、ガルバノミラー14,15の角度を精度良く補正することができる。換言すると、ガルバノミラー14,15の角度補正、つまりレーザ照射位置補正の補正精度を向上させることができる。これにより、レーザ光L1の照射位置を加工狙い位置に精度良く近づけることができる。
(2)基板41から剥離可能にフィルム43を基板41上に積層するようにした。このため、フィルム43のみを交換することにより、つまり穴43Xを形成したフィルム43を基板41から剥離した後に別の新しいフィルム43を基板41に積層することにより、基板41及びパターン42を繰り返し使用することができる。これにより、コスト削減に貢献することができる。
(3)パターン42上のフィルム43に、底面がフィルム43の厚さ方向の中途に位置する穴43Xを形成するようにした。これにより、パターン42の上面42Aがレーザ光L1の照射によって損傷することを抑制することができる。したがって、上述のようにフィルム43を交換することにより、基板41及びパターン42を好適に繰り返し使用することができる。
(4)4つのパターン42を用いてアライメントを行った後に、パターン42上のフィルム43に穴43Xを形成するようにした。これにより、テーブル20上におけるパターン42の位置及び傾きに合わせて穴43Xを形成することができる。
(5)平坦性に優れた基板41上にパターン42を形成するようにした。これにより、基板41上にパターン42を位置精度良く形成することができる。
(他の実施形態)
なお、上記実施形態は、これを適宜変更した以下の態様にて実施することもできる。
(他の実施形態)
なお、上記実施形態は、これを適宜変更した以下の態様にて実施することもできる。
・上記実施形態におけるパターン42の数は特に制限されない。
・上記実施形態では、複数のパターン42をX軸方向及びY軸方向に等間隔に配列するようにしたが、各パターン42間の間隔は等間隔ではなくてもよい。
・上記実施形態では、複数のパターン42をX軸方向及びY軸方向に等間隔に配列するようにしたが、各パターン42間の間隔は等間隔ではなくてもよい。
・上記実施形態では、複数のパターン42を平面視格子状に配列するようにしたが、平面配列はこれに限定されない。例えば、複数のパターン42を平面視三角形状に配列するようにしてもよいし、複数のパターン42を平面視台形状に配列するようにしてもよい。
・上記実施形態では、ワーク40を平面視略正方形状に形成するようにした。これに限らず、例えばワーク40を平面視略長方形状に形成するようにしてもよいし、ワーク40を平面視略五角形状に形成するようにしてもよい。
・上記実施形態のワーク40では、基板41から剥離可能にフィルム43を基板41上に積層し、基板41及びパターン42を繰り返し使用するようにした。これに限らず、例えばレーザ照射位置補正処理を行う度にワーク40全体を交換するようにしてもよい。
・上記実施形態では、パターン42上のフィルム43に、そのフィルム43を貫通しない穴43Xを形成するようにしたが、これに限定されない。
例えば図10に示すように、パターン42上のフィルム43に、そのフィルム43を貫通してパターン42の上面42Aに到達する穴43Xを形成するようにしてもよい。
例えば図10に示すように、パターン42上のフィルム43に、そのフィルム43を貫通してパターン42の上面42Aに到達する穴43Xを形成するようにしてもよい。
・上記実施形態では、1回のレーザ照射位置補正処理において、複数のパターン42上の各々に穴43Xを形成するようにした。これに限らず、1回のレーザ照射位置補正処理において、1つのパターン42上のみに穴43Xを形成するようにしてもよい。この場合には、基板41上に1つのパターン42のみを形成するようにしてもよい。
・上記実施形態では、4つのパターン42を用いてアライメントを行うようにした。これに限らず、例えば3つのパターン42又は5つ以上のパターン42を用いてアライメントを行うようにしてもよい。
また、上記変形例のように、1つのパターン42上のみに穴43Xを形成する場合には、その1つのパターン42のみを用いてアライメントを行うようにしてもよい。また、1回のレーザ照射位置補正処理において、2つのパターン42上のみに穴43Xを形成する場合には、それら2つのパターン42のみを用いてアライメントを行うようにしてもよい。
・上記実施形態のレーザ照射位置補正処理におけるステップS3の処理を省略してもよい。すなわち、例えばワーク40がテーブル20と一体化され、テーブル20上におけるワーク40及び各パターン42の位置が正確に把握可能な場合には、パターン42を用いてアライメントを行うことを省略してもよい。
10 レーザ加工装置
11 制御装置
12 レーザ発振器(レーザ源)
13 光路系
14,15 ガルバノミラー
16,17 ガルバノスキャナ
18 集光レンズ
19 撮像装置
20 テーブル
21 駆動機構
30 配線基板
30X 穴
40 ワーク
41 基板
42 パターン
43 フィルム
43X 穴
L1 レーザ光
R1 第1領域
R2 第2領域
11 制御装置
12 レーザ発振器(レーザ源)
13 光路系
14,15 ガルバノミラー
16,17 ガルバノスキャナ
18 集光レンズ
19 撮像装置
20 テーブル
21 駆動機構
30 配線基板
30X 穴
40 ワーク
41 基板
42 パターン
43 フィルム
43X 穴
L1 レーザ光
R1 第1領域
R2 第2領域
Claims (10)
- レーザ源と、
前記レーザ源から出力されたレーザ光を走査するガルバノミラーと、
前記ガルバノミラーから出力されたレーザ光を集光する集光レンズと、
前記集光レンズから出力されるレーザ光によって穴明けされる被加工物が載置される第1領域と、前記第1領域とは異なる第2領域とを有するテーブルと、
前記第2領域に載置され、基板と、前記基板上に形成されたパターンと、前記パターンを被覆するように前記基板上に形成されたフィルムとを有するワークと、
前記パターンを撮像する撮像装置と、
を有することを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記パターン上に形成された前記フィルムには、前記集光レンズから出力されるレーザ光により穴が加工されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記フィルムは、前記基板から剥離可能に前記基板上に積層されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。
- 被加工物とは異なり、基板と、前記基板上に形成されたパターンと、前記パターンを被覆するように前記基板上に形成されたフィルムとを有するワークをテーブルに載置する工程と、
前記パターン上の前記フィルムに穴を明ける工程と、
前記パターンと前記穴とを1つの撮像画像内に撮像する工程と、
前記パターンの所定位置からの前記穴の中心位置のずれ量を算出する工程と、
前記ずれ量に基づいて、ガルバノミラーの位置決め角度を補正する工程と、
を有するレーザ照射位置補正方法。 - 前記ワークを前記テーブルに載置する工程の後であって、前記フィルムに前記穴を明ける工程の前に、
前記ガルバノミラーによって位置決めされたレーザ光を集光する集光レンズと前記ワークが対向するように、前記テーブルを移動する工程と、
前記パターンを用いてアライメントを行う工程と、
を有することを特徴とする請求項4に記載のレーザ照射位置補正方法。 - 前記アライメントを行う工程では、
前記基板上に平面視格子状に配列された複数の前記パターンのうち、四角形の頂点に相当する位置に配置された4つのパターンを用いてアライメントを行うことを特徴とする請求項5に記載のレーザ照射位置補正方法。 - 前記フィルムに前記穴を明ける工程では、前記パターンの前記所定位置を加工狙い位置に設定して穴明け加工を行い、
前記ずれ量を算出する工程は、
前記撮像画像の中心からの前記パターンの前記所定位置の第1ずれ量を算出する工程と、
前記撮像画像の中心からの前記穴の中心位置の第2ずれ量を算出する工程と、
前記第1ずれ量と前記第2ずれ量とに基づいて、前記パターンの所定位置からの前記穴の中心位置のずれ量を算出する工程と、を含むことを特徴とする請求項4〜6のいずれか1つに記載のレーザ照射位置補正方法。 - 前記フィルムに前記穴を明ける工程では、前記穴の底面が前記フィルムの厚さ方向の中途に位置するように前記穴を形成することを特徴とする請求項4〜7のいずれか1つに記載のレーザ照射位置補正方法。
- 請求項4〜8のいずれか1つに記載のレーザ照射位置補正方法により前記ガルバノミラーの位置決め角度を補正した後に、前記テーブルに載置された前記被加工物に対してレーザ光を照射して穴を明ける工程を含むことを特徴とする穴明け加工方法。
- 請求項9に記載の穴明け加工方法により絶縁層に穴を明ける工程を含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
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JP2013131819A JP2015006674A (ja) | 2013-06-24 | 2013-06-24 | レーザ加工装置、レーザ照射位置補正方法、穴明け加工方法及び配線基板の製造方法 |
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-
2013
- 2013-06-24 JP JP2013131819A patent/JP2015006674A/ja active Pending
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