JP5514617B2 - 薄膜光電変換モジュールの製造方法およびスクライブ装置 - Google Patents
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Description
図6に示すように、透明基板10(一辺1200mm×1200mm)上に、酸化錫(SnO2)を含む透明導電層11が積層された複数枚の基板20a〜20dを、図示しないコンベヤにより装置内に搬入した。なお、スクライブ方向(Y)は基板20の一辺の方向(1200mm)とした。また装置内に配置する複数枚の基板は、各基板間の距離60を200mmとし、スクライブ方向に、基板面が略平行となるように、配置した。
実施例1の手順、方法に従い、透明導電層、光電変換層、裏面電極層の順序にて、比較例1のスクライブを実施した。なお、本比較例では、指定の条件とした装置内に取り入れる基板枚数のみを変更し、図2に示すように装置内に一枚ずつ基板を配置して、それぞれ透明導電層、光電変換層、裏面電極層のレーザースクライブを実施した。
実施例1の手順、方法に従い、透明導電層、光電変換層、裏面電極層の順序にて、実施例2のスクライブを実施した。本実施例では、指定の条件とした基板の位置調整方法における調整順序のみを変更し、実施例1−(3)と同一となるように、装置内に基板を4枚配置し、それぞれ透明電極層、光電変換層、裏面電極層のレーザースクライブを実施した。位置調整順序に関し、基準点(マーク64、基板端部65)の読取り前の基板の位置調整は、装置内に搬入された基板の順序に従い、配置された前基板の位置調整を完了した後、次基板の位置調整を行なうようにした。続いて、基準点の読取り、基準点読取り前後の基板の位置調整も同様に、前基板の動作完了の確認後、次基板の動作を行なうようにして、それぞれ基準点の読取り、位置調整を基板ごとに別々の時間で実施するようにした。
実施例1の手順、方法に従い、透明導電層、光電変換層、裏面電極層の順序にて、実施例3のスクライブを実施した。本実施例では、指定の条件とした、基板の位置調整方法における、位置検知手段について検知する位置調整用のマーク64の数および位置のみを変更し、実施例1−(3)と同一となるように、装置内に基板を4枚配置し、それぞれ透明電極層、光電変換層、裏面電極層のレーザースクライブを実施した。図8に示す通り、透明導電層のスクライブの際、各基板には位置調整の基準点となるマーク64を、スクライブ方向(Y)とその直角方向(X)に合計3箇所(64a〜64c)設置した。マークの読取りは、まず位置検知手段である基準位置読取りカメラ63a,63bが、それぞれマーク64a,64bを読取り、その後、カメラ63aを図示しない回転機構により回転させ、マーク64cを読み取った。
11:透明導電層
12:光電変換層
13:裏面電極層
14:溝を形成するためのレーザービーム
14a:透明導電層を分割する溝を形成するためのレーザービーム
14b:光電変換層を分割する溝を形成するためのレーザービーム
14c:裏面電極層を分割する溝を形成するためのレーザービーム
15:形成された溝(スクライブ線)
15a:形成された透明導電層を分割する溝(スクライブ線)
15b:形成された光電変換層を分割する溝(スクライブ線)
15c:形成された裏面電極層を分割する溝(スクライブ線)
16:形成されたセル
20:基板
20a:基板A
20b:基板B
20c:基板C
20d:基板D
21:加工ヘッド
22:ガイドレール
23:ガントリ
24:基板保持具
25:レーザー発振器
26:スクライブ方向(Y)の移動を表す矢印
27:スクライブ直角方向(X)の移動を表す矢印
30:パルス状に照射されたビームで加工された跡
60:各基板間の距離
61:載置テーブル
62:テーブル支持台
63:基準点読取りカメラ
63a:基準点読取りカメラ1
63b:基準点読取りカメラ2
64:マーク
64a:マーク1
64b:マーク2
64c:マーク3
65:基板端部
65a:基板端部1
65b:基板端部2
65c:基板端部3
66d:基板端部4
66:位置調整機構
66a:位置調整機構1
66b:位置調整機構2
66c:位置調整機構3
66d:位置調整機構4
66e:位置調整機構5
67:リニアスケール
70:基板端辺の中点
70a:基板端部1と基板端部3の中点
70b:基板端部2と基板端部4の中点
150:ニードル
160:ホイール
Claims (22)
- 透明基板上に透明導電層、光電変換層、裏面電極層のいずれか一つ以上を備え、複数の薄膜光電変換セルが直列接続された薄膜光電変換モジュールの製造方法において、前記透明導電層、光電変換層、裏面電極層のいずれか一つの層を形成した後に、複数の基板をスクライブ方向に、基板面が略平行となるように並べて配置し、位置調整機構により基板ごとに基板の位置を調整し、レーザービームを照射する加工手段を用い、レーザビームの照射位置をスクライブ方向に直線移動させて前記レーザビームの照射位置を並べられた基板の内の一端側の基板から他端側の基板にかけて移動させることによって複数の基板を同じレーザビームによって連続的にスクライブすることを特徴とする、薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記位置調整機構が、基板の位置を調整するための基準点を位置検知手段で読取り、演算装置により算出された値に基づいて、基板の位置を調整する手段を有することを特徴とする、請求項1に記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記位置調整機構が、スクライブ方向に対して平行または直角の平面上の方向に、基板の位置を調整する手段を有することを特徴とする、請求項1または2に記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記位置調整機構が、回転により基板の位置を調整する手段を有することを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記の基板の位置を調整するための基準点が、マークであることを特徴とする、請求項2乃至4のいずれかに記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記の基板の位置を調整するための基準点が、基板の略端辺上の点であることを特徴とする、請求項2乃至4のいずれかに記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 複数の基板を、一定速度でスクライブすることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれか記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記の加工手段もしくは基板が、移動手段により移動しながらスクライブすることを特徴とする、請求項1乃至7のいずれかに記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記加工手段もしくは基板が、スクライブ方向に対して直角方向にも移動することを特徴とする、請求項1乃至8のいずれかに記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記の加工手段もしくは基板が、スクライブ方向に対して、端部基板位置まで順方向に移動した後、スクライブ方向に対して直角方向に移動し、次いで前記順方向とは逆方向に移動することを特徴とする、請求項1乃至9のいずれかに記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記移動手段がガイドレールを含むことを特徴とする、請求項8乃至10のいずれかに記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記移動手段が、移動手段の位置を検出するためのスケールを含むことを特徴とする、請求項8乃至11のいずれかに記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 前記位置検知手段が、移動手段に設置されていることを特徴とする、請求項6乃至12のいずれかに記載の薄膜光電変換モジュールの製造方法。
- 複数の基板を並べて配置できる載置テーブルと、基板の位置を検知可能な位置検知手段と、基板ごとに基板の位置を調整可能な複数の位置調整機構と、レーザービームを照射する加工手段と、前記加工手段または基板を移動可能な移動手段を具備し、レーザビームの照射位置をスクライブ方向に直線移動させて前記レーザビームの照射位置を並べられた基板の内の一端側の基板から他端側の基板にかけて移動させることが可能であり、複数の基板を同じレーザビームによって連続的にスクライブすることが可能であることを特徴とする、スクライブ装置。
- 前記位置調整機構が、スクライブ方向に対して平行または直角の平面上の方向に、基板の位置を調整可能な手段を有することを特徴とする、請求項14に記載のスクライブ装置。
- 前記位置調整機構が、回転により基板の位置を調整可能な手段を有することを特徴とする、請求項14または15に記載のスクライブ装置。
- 前記位置調整機構が、基板の端部を挟み込むことが可能な手段を有することを特徴とする、請求項14乃至16のいずれかに記載のスクライブ装置。
- 前記位置検知手段としてカメラを具備したことを特徴とする、請求項14乃至17のいずれかに記載のスクライブ装置。
- 前記移動手段が、加工手段もしくは基板をスクライブ方向またはスクライブ方向に対して直角の平面上の方向に移動可能であることを特徴とする、請求項14乃至18のいずれかに記載のスクライブ装置。
- 前記移動手段がガイドレールを含むことを特徴とする、請求項14乃至19のいずれかに記載のスクライブ装置。
- 前記移動手段が、移動手段の位置を検出するためのスケールを含むことを特徴とする、請求項14乃至20のいずれかに記載のスクライブ装置。
- 前記位置検知手段が、移動手段に設置されていることを特徴とする、請求項14乃至21のいずれかに記載のスクライブ装置。
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