JP2015005666A - 露光装置、情報管理装置、露光システムおよびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】照明光学系からの光で照明されたマスクのパターンを、投影光学系により基板ステージに保持されている基板に投影する露光装置は、投影光学系の光軸方向における基板上の面の位置を計測する計測部と、計測部による計測値と、基板の識別番号および基板の処理レイヤを示す処理レイヤ情報と、を関連付けて記憶する記憶部と、基板上に先に処理されている第1レイヤについての面の位置の第1計測値を記憶部から取得し、取得した第1計測値と、第1レイヤ上の第2レイヤの面の位置を計測部で計測して得られた第2計測値との差分を算出する計算処理部と、第2レイヤの露光時に、算出された差分を用いて基板ステージの光軸方向における位置を制御する制御部と、を備える。
【選択図】 図1
Description
前記投影光学系の光軸方向における前記基板上の面の位置を計測する計測部と、
前記計測部による計測値と、前記基板の識別番号および前記基板の処理レイヤを示す処理レイヤ情報と、を関連付けて記憶する記憶部と、
前記基板上に先に処理されている第1レイヤについての前記面の位置の第1計測値を前記記憶部から取得し、取得した前記第1計測値と、前記第1レイヤ上の第2レイヤの面の位置を前記計測部で計測して得られた第2計測値との差分を算出する計算処理部と、
前記第2レイヤの露光時に、算出された前記差分を用いて前記基板ステージの前記光軸方向における位置を制御する制御部と、を備えることを特徴とする。
本発明の第1実施形態の露光装置の構成について、図1を用いて説明する。マスク1は、マスクステージ2に保持されている。マスク1上の回路パターンを転写する時、照明光学系6によってマスク1の回路パターンは照明される。照明されたマスク1上の回路パターンは投影光学系3によって、基板ステージ5に保持されている基板4上のフォトレジストに結像し、露光光7を用いて露光処理が行われる。
図3を用いて、本発明の第2実施形態にかかる露光システムの構成を説明する。第2実施形態にかかる露光システムは、サーバ18(情報管理装置)、外部システム12、複数の露光装置(15、16、17)を有する。サーバ18、外部システム12、複数の露光装置(15、16、17)は、ネットワーク300を介して接続されている。また、露光システムには、エッチング工程などのプロセス工程を行うプロセス装置31、32がネットワーク300を介して接続されている。プロセス装置31は、露光装置15の露光工程以降にプロセス工程を実行する。また、プロセス装置32は、露光装置16の露光工程以降にプロセス工程を実行する。
次に、本発明の第3実施形態としてデバイス(液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。
Claims (8)
- 照明光学系からの光で照明されたマスクのパターンを、投影光学系により基板ステージに保持されている基板に投影する露光装置であって、
前記投影光学系の光軸方向における基板上の面の位置を計測する計測部と、
前記計測部による計測値と、前記基板の識別番号および前記基板の処理レイヤを示す処理レイヤ情報と、を関連付けて記憶する記憶部と、
前記基板上に先に処理されている第1レイヤについての前記面の位置の第1計測値を前記記憶部から取得し、取得した前記第1計測値と、第1レイヤ上の第2レイヤの面の位置を前記計測部で計測して得られた第2計測値との差分を算出する計算処理部と、
前記第2レイヤの露光時に、算出された前記差分を用いて前記基板ステージの前記光軸方向における位置を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記計測部による計測値と、前記基板の識別番号および前記基板の処理レイヤを示す処理レイヤ情報と、を関連付ける管理部を更に有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記基板ステージの制御中に計測した位置情報を前記管理部に送信し、
前記管理部は、前記位置情報を、前記差分と前記識別番号と前記処理レイヤ情報と関連付けることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。 - 前記記憶部は、前記管理部で関連付けられた前記位置情報と前記差分と前記識別番号と前記処理レイヤ情報とを保持することを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記差分の平均を計算するためにサンプリングする基板枚数を入力するデータ入力部を更に備え、
前記計算処理部は、前記入力された基板枚数について、前記差分の平均を算出し、
前記制御部は、前記差分の平均値を用いて前記基板ステージの前記光軸方向における位置を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - ネットワークを介して露光装置と、通信可能な情報管理装置であって、
前記露光装置の計測部で計測された投影光学系の光軸方向における基板上の面の位置の計測値と、基板の識別番号および前記基板の処理レイヤを示す処理レイヤ情報と、を関連付けて記憶する記憶部と、
前記基板上に先に処理されている第1レイヤについての前記面の位置の第1計測値を前記記憶部から取得し、取得した前記第1計測値と、第1レイヤ上の第2レイヤの面の位置を前記計測部で計測して得られた第2計測値との差分を算出する計算処理部と、
を備え、
前記計算処理部で算出された前記差分のデータを前記露光装置に送信することを特徴とする情報管理装置。 - 照明光学系からの光で照明されたマスクのパターンを、投影光学系により基板ステージに保持されている基板に投影する露光装置と、ネットワークを介して前記露光装置と通信可能な情報管理装置と、を有する露光システムであって、
前記露光装置は、
前記投影光学系の光軸方向における基板上の面の位置の計測を行う計測部と、
前記基板ステージの位置を制御する制御部と、を備え、
前記情報管理装置は、
前記計測部による計測値と、前記基板の識別番号および前記基板の処理レイヤを示す処理レイヤ情報とを関連付けて記憶する記憶部と、
前記基板上に先に処理されている第1レイヤについての前記面の位置の第1計測値を前記記憶部から取得し、取得した前記第1計測値と、第1レイヤ上の第2レイヤの面の位置を前記計測部で計測して得られた第2計測値との差分を算出する計算処理部と、を備え、
前記制御部は、
前記第2レイヤの露光時に、算出された前記差分を用いて前記基板ステージの前記光軸方向における位置を制御する
ことを特徴とする露光システム。 - デバイス製造方法であって、
感光剤が塗布された基板を請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光装置によって露光する工程を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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