JP7265827B2 - 露光システム、および、物品製造方法 - Google Patents
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Description
この変形例においては、特徴量CH1の計算が第1露光装置MPA1側で行われるので、第2露光装置MPA2側での計算負荷を低減させるのに有利である。
本発明の実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (7)
- 基板の第1ショット領域を露光する第1露光装置と、
前記基板の前記第1ショット領域とは異なる第2ショット領域を露光する第2露光装置と、
前記基板の、前記第1ショット領域および前記第2ショット領域とは異なる位置にアライメントマークを形成するマーク形成装置と、を含む露光システムであって、
前記第1露光装置は、
前記マーク形成装置によって前記基板に形成された前記アライメントマークを検出する第1マーク検出部と、
前記第1マーク検出部によって検出された前記アライメントマークの情報を前記第2露光装置に転送する転送手段と、
前記基板の位置決めを行うために、前記基板の一辺が付き当てられる突き当て部と、を含み、
前記基板の前記一辺が前記突き当て部に付き当てられた状態で、前記一辺を基準に前記第1ショット領域を露光するように構成され、
前記第2露光装置は、
前記マーク形成装置によって前記基板に形成された前記アライメントマークを検出する第2マーク検出部を含み、
前記転送手段によって前記第2露光装置に転送された、前記第1露光装置における前記第1マーク検出部によって検出された前記アライメントマークの前記情報と、前記第2マーク検出部によって検出された前記アライメントマークの情報とに基づいて、前記第2ショット領域の前記第1ショット領域に対する配列誤差を補正するための補正パラメータを決定し、該補正パラメータを反映して前記第2ショット領域を露光する
ことを特徴とする露光システム。 - 前記第1マーク検出部および前記第2マーク検出部は、前記アライメントマークの情報として、前記アライメントマークの画像の画像データを提供することを特徴とする請求項1に記載の露光システム。
- 前記第2露光装置は、前記第1マーク検出部および前記第2マーク検出部からの画像データに基づいて、前記第1マーク検出部で得られた画像における前記アライメントマークと前記第2マーク検出部で得られた画像における前記アライメントマークとの間の相対距離を計算し、該相対距離に基づいて前記補正パラメータを決定することを特徴とする請求項2に記載の露光システム。
- 前記第2露光装置は、前記第1マーク検出部からの前記画像データから前記アライメントマークの特徴量である第1特徴量を計算し、前記第2マーク検出部からの前記画像データから前記アライメントマークの特徴量である第2特徴量を計算し、前記第1特徴量と前記第2特徴量とに基づいて、前記相対距離を計算することを特徴とする請求項3に記載の露光システム。
- 前記特徴量は、輝度、コントラスト、スペクトル情報のうちの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項4に記載の露光システム。
- 前記基板を前記第1露光装置から前記第2露光装置に搬送する搬送機構を更に含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光システム。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光システムを用いて基板を露光する工程と、
前記工程で前記露光された基板を現像する工程と、
を含み、
前記現像された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001297966A (ja) | 2000-04-13 | 2001-10-26 | Canon Inc | 露光方法、露光システム、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場、および露光装置の保守方法 |
JP2005175190A (ja) | 2003-12-11 | 2005-06-30 | Canon Inc | 階調分解能決定方法、アライメント方法、露光装置、及び、デバイスの製造方法 |
JP2007199711A (ja) | 2005-12-28 | 2007-08-09 | Nikon Corp | 露光システム、デバイス製造システム、露光方法及びデバイスの製造方法 |
WO2018166444A1 (zh) | 2017-03-15 | 2018-09-20 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 光刻装置及方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2958799A (en) * | 1998-03-30 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Exposure method and exposure system |
JP2005092137A (ja) | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
TWI271602B (en) * | 2004-03-31 | 2007-01-21 | Fujifilm Corp | A correcting method and an exposure method of exposure device, and an exposure device |
WO2007066679A1 (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-14 | Nikon Corporation | 露光装置、露光方法、投影光学系及びデバイス製造方法 |
JP5077770B2 (ja) | 2006-03-07 | 2012-11-21 | 株式会社ニコン | デバイス製造方法、デバイス製造システム及び測定検査装置 |
JP2010098143A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
-
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001297966A (ja) | 2000-04-13 | 2001-10-26 | Canon Inc | 露光方法、露光システム、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場、および露光装置の保守方法 |
JP2005175190A (ja) | 2003-12-11 | 2005-06-30 | Canon Inc | 階調分解能決定方法、アライメント方法、露光装置、及び、デバイスの製造方法 |
JP2007199711A (ja) | 2005-12-28 | 2007-08-09 | Nikon Corp | 露光システム、デバイス製造システム、露光方法及びデバイスの製造方法 |
WO2018166444A1 (zh) | 2017-03-15 | 2018-09-20 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 光刻装置及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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