JP2004022655A - 半導体露光装置及びその制御方法、並びに半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハ3の高さ情報を測定する測定器201と、過去の露光工程におけるウエハ3の高さ情報と、現在の露光工程におけるウエハ3の高さ情報とに基づいて、前記マスク1及び/又は前記ウエハ3の高さ方向の位置を調整する調整器203とを備えることを特徴とする半導体露光装置によって、デバイスの生産性を向上させる。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体露光装置及びその制御方法、並びに半導体デバイスの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
マスク(原版)とウエハ等の基板とを接近させて露光を行うプロキシミティ方式の露光装置の代表的なものとしてはX線露光装置がある。例えば、SR光源を利用したX線露光装置が特開平2−100311号公報に開示されている。
【0003】
図1は、この種の従来のX線露光装置の一般的な構成を示す概略図である。図1において、パターンが描かれたマスクメンブレン102を有するマスク101は、マスクステージベース106に搭載されたマスクチャック104に保持され、X線光路に対して位置決めされている。ウエハ103はウエハチャック105に保持され、マスク101に対向して、マスク101との間に微小間隔をもって、近接して配置されている。ウエハチャック105は、マスク101とウエハ103との位置合わせに用いられる微動ステージ113に搭載されている。ウエハチャック105および微動ステージ113は、ウエハ103の複数の露光画角を順次X線の照射領域へステップ移動させるために、各ショット間の移動に用いられる粗動ステージ112に搭載されている。粗動ステージ112はステージベース107により案内される。アライメントスコープ108は、マスク101とウエハ103との位置決めにおいて、それらのずれ量を測定するものであり、アライメントステージ109に搭載されている。アライメントステージ109は、マスクステージベース106上に搭載されており、アライメントスコープ108から照射されるアライメント光を、マスクメンブレン102上に描かれた不図示のアライメントマーク位置まで移動させるために用いられる。
【0004】
X線露光装置においては、一般的に、マスクメンブレン102上のパターンをウエハ103に複数回繰り返し露光を行うステップアンドリピート方式を用いて、マスクメンブレン102とウエハとを10〜30μmの微小間隔で対向させて露光(プロキシミティ露光)を行っている。
【0005】
このような従来のX線露光装置において、グローバルアライメント方式で露光を行う手順を以下に説明する。
【0006】
(1)ウエハ103のグローバルアライメント計測の第一ショットが、マスクメンブレン102の下にくるように、粗動ステージ112を駆動する。
【0007】
(2)微動ステージ113が、マスク101とウエハ103との間隔(以下、ギャップという)をステップ時のギャップからギャップ計測時のギャップとなるようウエハ103を駆動し、アライメントスコープ108でギャップ計測を行う。
【0008】
(3)微動ステージ113が、マスク101とウエハ103との平行出しを行った後、不図示の測定器がマスク101とウエハ103との面内方向のずれを複数点において測定し、不図示の制御器が各ショットの位置ずれの補正量を計算する。
【0009】
(4)粗動ステージ112が、ウエハ103の露光の第一ショットがマスクメンブレン102の下にくるようにウエハ103を駆動し、微動ステージ113がショットの面内の位置ずれを補正した後、微動ステージ113が露光時のギャップとなるようにギャップを調整する。
【0010】
(5)X線露光装置が露光を行う。
【0011】
(6)微動ステージ113が、ステップ移動時のギャップとなるようギャップを調整し、粗動ステージ112が、露光の第二ショットまででウエハ103をステップ移動する。
【0012】
以下、(4)〜(6)を同様に繰り返して、X線露光装置は、ウエハ103に所定のショット数の露光を行う。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のX線露光装置では、ギャップ計測を行うときに、ウエハのプロセスに起因する計測誤差を考慮してないために、以下のような問題点があった。
【0014】
ウエハのプロセスに起因する計測誤差を含む計測結果に基づいてギャップ設定を行うと、計測誤差の分だけギャップ設定に誤差が生じる。その結果、像性能や重ね合わせ精度が低下する。なお、本明細書において、プロセスに起因する計測誤差とは、例えば、ウエハ表面の凹凸(例えば、パターンの凹凸、異物混入による欠陥、ウエハ表面のラフネス、ウエハ表面に塗布されたレジスト裏面の凹凸等)に起因する計測誤差を含む。また、このような問題点は、プロキシミティ方式に限ったものではない。例えば、エキシマレーザを光源とするような縮小投影露光方式におけるAF計測においも同様な問題点がある。
【0015】
一般的に、縮小投影露光方式では、ウエハ面に光を斜入射で照射し、その反射光をCCDなどでウエハ面の高さとして検出することによって、AF計測を行っている。このような方法でもウエハのプロセスに起因する計測誤差が発生する。そのため、各ウエハのレイヤ(露光工程)ごとに先行ウエハで試し露光を行い、その露光結果からベストフォーカスを決定している。更に、そのベストフォーカスに基づいて、本番の露光では、計測誤差分をオフセット値としてAF計測あるいはAF設定に反映させている。
【0016】
しかしながら、上記のように、先行ウエハを露光してオフセット値を求める方法は、露光装置の運転時間を低減させ、デバイスの生産性を低下させるという問題点がある。
【0017】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、例えば、デバイスの生産性を向上させることを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の側面は、原版のパターンをウエハに露光する半導体露光装置に係り、ウエハの高さ情報を測定する測定器と、過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と、現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記原版及び/又は前記ウエハの高さ方向の位置を調整する調整器とを備えることを特徴とする。
【0019】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記ウエハの高さ情報をメモリに格納する処理部を更に備えることが好ましい。
【0020】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理部は、前記ウエハを識別するための識別情報と、前記ウエハの高さ情報と、を関連付けて前記メモリに記憶させることが好ましい。
【0021】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理部は、前記識別情報に基づいて、前記過去の露光工程におけるウエハの高さ情報を前記メモリから読み出すことが好ましい。
【0022】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理部は、前記ウエハの高さ情報として、所定の基準位置からの基板の高さ及び前記調整器による調整量の少なくとも1つを、前記メモリに記憶させることが好ましい。
【0023】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と前記現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記調整器を制御するための指令値を出力する制御部を更に備えることが好ましい。
【0024】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と前記現在の露光工程におけるウエハの高さ情報との差が所定値以上であるときに、当該半導体露光装置の運転を停止させる機能を有する制御部を更に備えることが好ましい。
【0025】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記制御器は、前記過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と前記現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とをそれぞれ所定の比率で足し合わせる演算を行い、前記調整器は、前記制御器の演算結果に基づいて、前記原版及び/又は前記ウエハの高さ方向の位置を調整することが好ましい。
【0026】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記制御器は、前記過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と前記現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記比率を露光工程によって変更するための評価関数を有することが好ましい。
【0027】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記調整器は、前記原版と前記ウエハとの間隔が所定の微小間隔となるよう前記原版及び/又は前記ウエハの高さ方向の位置を調整することが好ましい。
【0028】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記調整器は、前記ウエハの高さ方向の位置が露光光のフォーカス位置となるよう前記原版及び/又は前記ウエハの高さ方向の位置を調整することが好ましい。
【0029】
本発明の第2の側面は、原版のパターンをウエハに露光する露光装置の制御方法に係り、ウエハの高さ情報を測定する測定工程と、過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記原版及び/又は前記ウエハの高さ方向の位置を調整する調整工程とを含むことを特徴とする。
【0030】
本発明の第3の側面は、半導体デバイスの製造方法に係り、基板に感光材を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で前記感光材が塗布された前記基板に請求項1乃至請求項12のいずれか1項に記載の半導体露光装置を利用してパターンを転写する露光工程と、前記露光工程で前記パターンが転写された前記基板の前記感光材を現像する現像工程とを有することを特徴とする。
【0031】
【発明の実施の形態】
[第一の実施の形態]
図2は、本発明の好適な実施の形態に係る半導体露光装置を示す概略図である。
【0032】
図2に示す半導体露光装置では、不図示の光学系から出た露光光はマスク1に照射され、マスク1のパターンがウエハ3に結像される。測定器201は、マスク1及び/又はウエハ3の高さ方向の位置を測定し、その結果をメモリ202に記憶する。メモリ202は、半導体露光装置に備えられてもよいし、半導体露光装置の外部に配置されてもよい。また、上記の測定結果は、半導体露光装置内のメモリに一時的に記憶され、その後半導体露光装置の外部に配置されたメモリに転送されてもよい。調整器203は、マスク1及び/又はウエハ3の高さ方向の位置を調整する機能を持つ。また、ウエハ側の調整器203は、例えば、ウエハを保持するウエハチャック及び/又はウエハを高さ方向に移動させるZチルトステージで構成することができる。マスク側の調整器203は、例えば、マスクを保持するマスクチャック及び/又はマスクを高さ方向に移動させるマスクステージ等で構成することができる。調整器203は、測定器301で測定した現在の露光工程におけるウエハの高さ情報と、例えばメモリ202等に記憶された過去の露光工程におけるウエハの高さ情報、とに基づいて、マスク1及び/又はウエハ3の高さ方向の位置を調整する。
【0033】
図3は、本発明の好適な実施の形態に係る半導体露光装置におけるグローバルアライメント方式の露光動作を説明するための図である。図3において、パターンが描かれたマスクメンブレン2を有するマスク1は、マスクステージベース6に搭載されたマスクチャック付きマスクステージ4に保持され、X線光路に対して位置決めされている。マスク1に対向させ、かつマスクとの間に微小間隔をもって接近して配置される基板であるウエハ3は、ウエハチャック5に保持される。ウエハチャック5は、マスク1とウエハ3の位置合わせに用いられるZチルトステージ13に搭載されている。更に、ウエハチャック5およびZチルトステージ13は、ウエハ3の複数の露光画角を順次X線の照射領域へステップ移動させるために各ショット間の移動に用いられるXYステージ12に搭載されている。XYステージ12はステージ定盤7により案内される。アライメントスコープ8は、マスク1とウエハ3との位置決めにおいて、それらの間のずれ量を測定するものであり、アライメントステージ9に搭載されている。アライメントステージ9は、アライメントスコープ8から出たアライメント光がマスクメンブレン2上に描かれた不図示のアライメントマークに入射するようにアライメントスコープ8を位置調整するものであり、マスクステージベース6上に搭載されている。なお、図3では、アライメントスコープ8とアライメントステージ9とは1組しか図示しなかったが、半導体露光装置はこれらを2組以上搭載してもよい。一般的には、半導体露光装置はこれらを3組以上搭載する。ウエハ高さセンサ10は、ウエハの高さ方向の位置を計測し、制御部304へウエハの高さ情報を伝えるものであり、マスクステージベース6上に搭載されている。マスク高さセンサ11は、マスクの高さ方向の位置を計測するものであり、XYステージ12上に搭載されている。
【0034】
図3では、ウエハ高さセンサ10は1個だけを図示したが、これに限るものではなく、複数個設置されることが好ましい。処理部301は、ウエハごとに過去のレイヤ(露光工程)についての露光時のウエハの高さ情報を管理する機能を持つ。例えば、処理部301は、ウエハを識別するための識別情報と、そのウエハの高さ情報と、を関連付けて不図示のメモリに記憶させ、この識別情報に基づいて、過去の露光工程におけるウエハの高さ情報をメモリから読み出す機能を持つことによって、ウエハの高さ情報を管理することができる。制御部304は、処理部301が不図示のメモリ内で管理している過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と、ウエハ高さセンサ10によって測定された現在のウエハの高さ情報、とに基づいて、調整器(例えばZチルトステージ13)を制御するための指令値(例えばZチルトステージ13へのZチルト補正量)を出力する。処理部301または制御部304の機能は、不図示のコンソールに持たせることもできる。
【0035】
以上の装置構成において、グローバルアライメント方式で露光を行う手順を以下に説明する。図4は、図3に示す半導体露光装置によるグローバルアライメント方式の露光動作のフローチャートである。このときの現在のレイヤ(露光工程)の番号をn番とし、前回のレイヤ(露光工程)の番号をn−1番とする。ここでは、初期状態はマスク1およびウエハ3がマスクチャック4ならびにウエハチャック5に保持されていないものとする。
【0036】
ステップS401では、マスク1が所定の位置にセットされる。具体的には、まず、マスクチャック4へ搬送され、マスクチャック4によって保持される。次に、マスク高さセンサ11が、マスク1の高さ方向の位置を計測し、その結果に基づいて、マスクステージ4が、所定の基準位置(装置基準)に対して所定の位置へマスク1を位置決めする。なお、装置基準は、仮想的ものであるため、図3では不図示としている。次に、XYステージ12が、当該XYステージ12上に搭載された不図示の基準マーク台がマスクメンブレン2の下に位置するよう駆動される。アライメントステージ9は、アライメントスコープ8から照射されるアライメント光が、マスクメンブレン2上のアライメントマークを透過して、前記基準マーク台上で反射され、アライメントスコープ8へ戻るようにその位置を調整する。
【0037】
ステップS402では、ウエハ高さセンサ10が、ウエハの高さ情報をマッピングする。具体的には、まず、ウエハチャック5は、搬送されたウエハ3を保持する。次に、ウエハ高さセンサ10は、ウエハ3の高さ方向の位置を計測し、装置基準からの高さをマッピングする。この段階で、装置基準に対するマスク1とウエハ3の位置関係が分かり、ギャップ計測が完了したことになる。ただし、マッピングは、以下の工程を含む。すなわち、制御部304は、ウエハ高さセンサ10が得たn番目のウエハの高さ情報と、処理部301がすでに得ている例えば同一ウエハのn−1番目までの過去のウエハの高さ情報とに基づいて、ギャップ設定におけるZチルトステージ13のZチルト補正量を決定する。この決定方法は、例えば、n番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報とを、それぞれ所定の比率で足し合わせる方法であってもよい。また、制御部304は、n番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報との差(平面度の変化)を求め、その差が所定値以上の場合には、装置の運転を停止させることが好ましい。この場合には、ウエハ3の裏面に異物などが混入している可能性があるため、ユーザは、ウエハチャック5の清掃等のメンテナンスを行うことが好ましい。
【0038】
ステップS403では、XYステージ12が、ウエハ3のグローバルアライメント計測の所定のショットがマスクメンブレン2の下に位置するようウエハ3を駆動する。更に、このときに、Zチルトステージ13は、ギャップがアライメントギャップ(例えば25μm)となるようウエハ3の高さ方向の位置を調整することが好ましい。
【0039】
ステップS404では、XYステージ12が、アライメントギャップを保ったまま、ウエハ3をグローバルアライメント計測の各ショット位置へ位置決めし、この状態でグローバルアライメント計測が行われる。
【0040】
ステップS405では、Zチルトステージ13が、グローバルアライメント計測の終了後、ギャップが露光ギャップ(例えば10μm)になるようウエハ3の高さ方向の位置を調整する。
【0041】
ステップS406では、XYステージ12が、露光ギャップを保ったまま、グローバルアライメント計測の計測結果に基づいて、ウエハ3を所定のショット位置へ位置決めする。
【0042】
ステップS407では、半導体露光装置が露光を行う。
【0043】
ステップS408では、半導体露光装置の制御部304が、所定のショット数の露光が終了したか否かを判定し、所定のショット数の露光が終了した場合には(ステップS408でYES)ステップS409へ進み、所定のショット数の露光が終了していない場合には(ステップS408でNO)ステップS406へ戻り次のショットの露光処理を行う。
【0044】
ステップS409では、半導体露光装置の制御部304が、現在の露光工程において、所定のウエハ数の露光が終了したか否かを判定し、所定のウエハ数の露光が終了した場合には(ステップS409でYES)露光処理を終了し、所定のウエハ数の露光が終了していない場合には(ステップS409でNO)ステップS402へ戻り次のウエハの露光処理を行う。
【0045】
上記において、制御部304がZチルト補正量を決定する方法は、n番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報とをそれぞれ所定の比率で足し合わせるとしたが、本発明はこれに限定されない。制御器304は、過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記比率を露光工程によって変更するための評価関数を持ってもよい。例えば、Zチルト補正量を決定する方法では、評価関数を用意し、n番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報の前記比率をレイヤ(露光工程)によって変更する方法であってもよい。さらに、n−1番目までのウエハの高さ情報は、1番目からn−1番目までの情報のうちのいずれのウエハの高さ情報を使ってもよい。ただし、n−1番目のウエハの高さ情報は、これから露光しようとするn番目のウエハの高さ情報に一番近いn−1番目のウエハの高さ情報を用いることが好ましい。しかしながら、n番目に至るまでのレイヤの厚みやレジストの厚み等を把握していれば、1番目からn−1番目までのうちのいずれのウエハの高さ情報を用いてもよい。この場合には、把握しているレイヤやレジストの厚み情報を、ウエハの高さ情報に付加して処理部301で不図示のメモリ内に管理することが好ましい。
【0046】
また、ウエハの高さ情報は、装置基準の高さ情報に限定されない。例えば、ウエハの高さ情報は、Zチルトステージ13での補正量に代表させて管理されてもよい。この場合は、制御部304は、n番目のウエハの高さ情報をすぐにZチルト補正量に換算してから、n−1番目までのZチルト補正量と所定の比率で足し合わせてもよい。
【0047】
更に、ウエハ高さセンサ10は、ウエハ3の高さを計測した後、装置基準との高さをマッピングすると説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、本実施形態は、ダイバイダイ方式でAF計測を行う場合にも適用可能である。この場合、ギャップ設定のたびにAF計測をするので、必ずしもウエハ高さセンサ10を使用する必要はない。例えば、アライメントスコープ8が直接AF計測を行うことが好ましい。
【0048】
本実施形態では、処理部301あるいは制御部304の機能は、不図示のコンソールが持つこともできると述べたが、これに限定されない。コンソールとは別のコンピュータがこれらの機能を持ってもよい。更に、図3におけるウエハの高さ情報とZチルト補正量情報の処理の流れの中で、n番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報との差が所定値以上であるか否かを判断するのは制御部304の後であるとしたが、本発明はこれに限定されない。例えば、制御部304の中でこの判断の機能を持たせてもよい。また、制御部304は、この判断の後にZチルト補正量を決定してもよいし、この判断でn番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報との差が所定値以下になった場合のみZチルト補正量を決定してもよい。
【0049】
本実施形態では、ウエハの高さ情報をマッピング方式、あるいはダイバイダイ方式によるAF計測を想定して説明したが、これに限定されない。例えば、図5に示すように、リアルタイムにAF計測しながらフォーカスの位置決めする場合でも適用可能である。
【0050】
図5は一般的な縮小投影露光方式のAF計測に本発明の特徴を付加したものである。図5において、基板であるウエハ3はウエハチャック5に保持されている。ウエハチャック5はウエハ3の位置合わせに用いられるZチルトステージ13に搭載されている。更に、ウエハチャック5およびZチルトステージ13は、ウエハ3の複数の露光画角を順次露光光の照射領域へステップ移動あるいはスキャン移動させるように各ショット間の移動に用いられるXYステージ12に搭載されている。XYステージ12はステージ定盤7により案内される。また、ウエハ高さ情報を得るため、投光部14はウエハ面に対して、斜入射で光を投光し、受光部15はウエハ3からの反射光を受光する。受光部15の内部には例えばCCDが搭載されており、反射光の重心位置からウエハ3の高さを求める構成となっている。受光部15の内部に搭載されるのはCCDに限定されるものではなく、例えば、PSDが搭載されてもよい。更に、投光部14はLDやLEDを用いて光を投光するのが好ましい。処理部301は、ウエハごとに過去のレイヤ(露光プロセス)について露光したときのウエハ高さ情報を管理する。例えば、処理部301は、ウエハを識別するための識別情報と、そのウエハの高さ情報と、を関連付けて不図示のメモリに記憶させ、この識別情報に基づいて、過去の露光工程におけるウエハの高さ情報をメモリから読み出す機能を持つことにより、ウエハの高さ情報を管理する。図5において、投光部14及び受光部15は一組しか示さなかったが、半導体露光装置はこれらを複数備えてもよい。制御部304は、処理部301が管理している過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と受光部15によって測定された現在のウエハの高さ情報とに基づいて、調整器(例えばZチルトステージ13)を制御するための指令値(例えばZチルトステージ13へのZチルト補正量)を出力する。処理部301あるいは制御部304の機能は不図示のコンソールに持たせることもできる。
【0051】
次に、図5を用いて、リアルタイムでAF計測しながらフォーカスの位置決めをして、n番目のレイヤ(露光工程)の露光を行う場合の実施の形態を説明する。
【0052】
まず、ウエハ3の第一ショット近傍又は第一ショットの高さを投光部14及び受光部15で測定する。ここで、制御部304は、測定したウエハの高さ情報と処理部301がすでに得ている例えば同一ウエハのn−1番目までのウエハの高さ情報とに基づいて、Zチルトステージ13のZチルト補正量を決定する。
【0053】
制御部304がZチルト補正量を決定する方法は、前述のように、n番目のウエハの高さ情報と例えば同一ウエハのn−1番目までのウエハの高さ情報とをそれぞれ所定の比率で足し合わせるとしたが、本発明はこれに限定されない。制御器304は、過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記比率を露光工程によって変更するための評価関数を持ってもよい。例えば、Zチルト補正量を決定する方法では、評価関数を用意し、n番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報の前記比率をレイヤ(露光工程)によって変更する方法であってもよい。
【0054】
更に、n−1番目までのウエハの高さ情報は、1番目からn−1番目までの情報のうちのどのウエハの高さ情報を使ってもよいし、ウエハの高さ情報をZチルトステージ13での補正量に代表させて管理する方法であってもよい。
【0055】
また、制御部304は、n番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報との差(平面度の変化)を求め、その差が所定値以上の場合、装置の運転を停止させることが好ましい。このとき、ウエハ3の裏面に異物などが混入した可能性があるため、ユーザは、ウエハチャック5の清掃をはじめとするメンテナンスを行うことが好ましい。
【0056】
本実施形態では、処理部301あるいは制御部304の機能は、不図示のコンソールに持たせることができると述べたが、これに限定されない。例えば、コンソールとは別のコンピュータがこれらの機能を持ってもよい。更に。図5におけるウエハの高さ情報とZチルト補正量情報の流れの中で、n番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報との差が所定値以上であるか否かを判断するのは制御部304の後としたが、制御部304の中でこの判断の機能を持たせてもよい。また、制御部304は、この判断の後にZチルト補正量を決定してもよいし、この判断でn番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報との差が所定値以下になった場合のみZチルト補正量を決定してもよい。
【0057】
[第二の実施の形態]
第一の実施の形態では、全レイヤ(露光工程)を1台の露光装置で露光する場合について説明した。それに対して、本実施形態ではミックスアンドマッチ(Mix & Match)に対応した実施の形態について図6を用いて説明する。なお、ここでは図5を応用し、第一の実施の形態で説明したリアルタイムでAF計測しながらフォーカスの位置決めする場合について説明するが、本実施形態は、図3で説明したマッピング方式の露光装置にも適用できる。更に、本実施形態は、マッピング方式やダイバイダイ方式、リアルタイム方式を組み合わせたMix & Matchにも適用できる。なお、第一の実施の形態と同様に、ここでも今回に露光するレイヤ(露光工程)の番号をn番とし、前回に露光したレイヤ(露光工程)の番号をn−1番とする。
【0058】
図6において、基板であるウエハ3はウエハチャック5に保持される。ウエハチャック5はウエハ3の位置合わせに用いられるZチルトステージ13に搭載される。更に、ウエハチャック5およびZチルトステージ13は、ウエハ3の複数の露光画角を順次露光光の照射領域へステップ移動あるいはスキャン移動させるように各ショット間の移動に用いられるXYステージ12に搭載されている。XYステージ12はステージ定盤7により案内される。また、ウエハ高さ情報を得るため、投光部14はウエハ面に対して、斜入射で光を投光し、受光部15はウエハ3からの反射光を受光する。受光部15の内部には例えばCCDが搭載されており、反射光の重心位置からウエハ3の高さを求める構成となっている。受光部15の内部に搭載されるのはCCDに限定されるものではなく、例えば、PSDが搭載されてもよい。更に、投光部14はLDやLEDを用いて光を投光するのが好ましい。図5において、投光部14と受光部15は一組しか示さなかったが、半導体露光装置はこれらを複数備えてもよい。第一の処理部302は、ウエハごとにn−1番目のレイヤを露光したときのウエハの高さ情報を管理する機能を持つ。例えば、第一の処理部302は、ウエハを識別するための識別情報と、そのウエハの高さ情報と、を関連付けて不図示のメモリに記憶させ、この識別情報に基づいて、過去の露光工程におけるウエハの高さ情報をメモリから読み出す機能を持つことにより、ウエハの高さ情報を管理する。なお、第一の処理部302は、n−1番目のレイヤを露光した露光装置に備えられている。第二の処理部303は、これからn番目のレイヤを露光しようとする露光装置に備えられ、第一の処理部302からn−1番目のウエハの高さ情報を取得して、露光処理を行う。第二の処理部303も第一の処理部302と同様に、例えば、ウエハを識別するための識別情報と、そのウエハの高さ情報と、を関連付けて不図示のメモリに記憶させ、この識別情報に基づいて、過去の露光工程におけるウエハの高さ情報をメモリから読み出す機能を持つことにより、ウエハの高さ情報を管理する。更に、制御部304は、受光部15からのウエハの高さ情報と、第二の処理部303が管理している過去のレイヤ(露光工程)で露光したときのウエハの高さ情報を取得し、Zチルトステージ13へのZチルト補正量を決定する。処理部あるいは制御部304の機能は不図示のコンソールが持つこともできる。
【0059】
ここで注意を要するのが、第二の処理部303の取り扱いである。第二の処理部303は、第一の処理部302から取得したn−1番目のレイヤ(露光工程)で露光したときのウエハの高さ情報をそのまま制御部304に渡すと、ウエハ高さ計測情報とZチルトステージ13の補正量との関係は装置ごとに機差があるため、高精度にAF設定あるいはギャップ設定ができなくなる。これは、同じウエハ3でもウエハの高さ情報が異なるためである。代表的な要因としては、例えば、ステージ定盤7の平面度があげられる。XYステージ12は、ステージ定盤7に案内されて移動するため、ウエハ3の平面度が仮に零だとしても、ウエハの高さ情報はステージ定盤7の平面度とほぼ等価になる。更に、ステージ定盤7の平面度は露光装置ごとに異なるために、装置ごとに異なるウエハ高さ計測情報と補正量との関係の機差情報をあらかじめ管理しなければならない。
【0060】
そのためには、例えば、一回だけ先行ウエハで試し露光を行い、露光転写精度から機差情報をオフセットとして第二の処理部303に持たせる方法が有効である。ベアウエハにレジストを塗布しただけのウエハからは、プロセスによって生じる計測誤差が最も小さい状態でウエハの高さ情報が得られる。したがって、ベアウエハにレジスト塗布したウエハを先行ウエハとして、ウエハの高さ情報とレジスト像との関係を求めておけば、露光装置ごとにレジスト像を基準としたウエハの高さ情報とZチルト補正量との関係が得られる。第二の処理部303は、ここで得たウエハの高さ情報とZチルト補正量との関係を装置間の機差情報として管理すればよい。その他、第二の処理部303がオフセットを持つ代わりに、露光装置全ての受光部15からの計測結果を同上の方法でキャリブレーションしてもよい。
【0061】
また、n−1番目のレイヤを露光した露光装置は、n+1番目のレイヤを露光する露光装置になりうる。すなわち、第一の処理部302は第二の処理部303と同じ機能を持つのが好ましい。したがって、全露光装置の処理部は、各露光装置間のウエハ高さ計測情報とZチルト補正量との機差情報を管理しておくのが好ましい。デバイスを製作する過程で、所定のレイヤ(露光工程)で露光する露光装置があらかじめ決定されている場合には、デバイス製作の流れに沿ってこれらの露光装置の機差を処理部で管理すればよい。
【0062】
以上の方法によって、第二の処理部303では装置ごとに異なるウエハ高さ計測情報と補正量との関係の機差情報を管理できる。
【0063】
次に、図6を用いて、本実施形態においてn番目のレイヤを露光する場合について説明する。
【0064】
まず、投光部14と受光部15は、ウエハ3の第一ショット近傍あるいは第一ショットの高さを計測する。次に、第二の処理部303は、投光部14と受光部15で計測したウエハの高さ情報と、第一の処理部302から得たn−1番目までのウエハの高さ情報とに基づいて、前述の機差を修正するようにn番目のウエハの高さ情報に換算する。制御部304は、第二の処理部303が換算したウエハの高さ情報に基づいて、Zチルトステージ13のZチルト補正量を決定する。
【0065】
ここでの決定方法は、第一の実施の形態と同様に、n番目のウエハの高さ情報と同一ウエハのn−1番目までのウエハの高さ情報とをそれぞれ所定の比率で足し合わせるとしたが、本発明はこれに限定されない。制御器304は、過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記比率を露光工程によって変更するための評価関数を持ってもよい。例えば、Zチルト補正量を決定する方法では、評価関数を用意し、n番目のウエハの高さ情報と同一ウエハのn−1番目までのウエハの高さ情報の重み付け(比率)とをレイヤ(露光工程)によって変更する方法であってもよい。
【0066】
更に、n−1番目までのウエハの高さ情報は、1番目からn−1番目までの情報のうちのどのウエハの高さ情報を使ってもよい。ウエハの高さ情報をZチルトステージ13での補正量に代表させて管理する方法であってもよい。
【0067】
また、処理部304は、n番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報の差(平面度の変化)を求め、その差が所定値以上の場合、装置の運転を停止させることが好ましい。このとき、ウエハ3の裏面に異物などが混入した可能性があるため、ユーザは、ウエハチャック5の清掃をはじめとするメンテナンスを行うことが好ましい。
【0068】
本実施の形態では処理部あるいは制御部304の機能は、不図示のコンソールが持つことができると述べたが、これに限定されず、コンソールとは別のコンピュータがこれらの機能を持ってもよい。更に。図6におけるウエハの高さ情報とZチルト補正量情報の処理の流れの中で、n番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報の差が所定値以上であるか否かを判断するのは制御部304の後であるとしたが、本発明はこれに限定されない。例えば、制御部304の中でこの判断の機能を持たせてもよい、また、制御部304は、この判断の後にZチルト補正量を決定してもよいし、この判断でn番目のウエハの高さ情報とn−1番目までのウエハの高さ情報の差が所定値以下になった場合のみZチルト補正量を決定してもよい。
【0069】
本実施形態では、それぞれの露光装置が第一の処理手段及び/又は第二の処理手段を持っていたが、これに限定されない。例えば、複数台の露光装置が共有し、一括して管理する処理部があれば、それぞれの露光装置は必ずしも処理手段を持つ必要はない。この場合、各々の装置は、過去のレイヤを露光したときの基板高さ情報をこの処理部にアクセスして取得することができる。
【0070】
以上から、本発明によれば、ギャップ位置またはフォーカス位置へ位置決めするときに、現在の露光工程におけるウエハの高さ情報だけでなく、過去の露光工程におけるウエハの高さ情報に基づいて位置決めすることにより、プロセスに起因する位置決め誤差を小さくすることができる。その結果、デバイスの生産性を向上させることができる。また、AF・ギャップ計測等の精度を向上させることができるために、露光転写精度が向上し、デバイスの生産性を向上させることができる。
【0071】
また、第一の基板の高さ情報と第二の基板の高さ情報との差が所定値よりも大きい場合には、装置の運転を停止させ、基板の保持装置などへの異物混入を早期に発見することができるため、デバイスの歩留まりをはじめとした生産性が向上する。
【0072】
さらに、全レイヤを一台の露光装置で露光する場合だけでなく、レイヤ(露光工程)によって複数台の露光装置で露光するMix & Matchにも対応させることができる。
【0073】
[他の実施形態]
次に上記の半導体露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図7は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ2(マスク作製)では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組立て工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷(ステップ7)する。
【0074】
図8は上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁膜を成膜する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ16(露光)では上記の半導体露光装置によって回路パターンをウエハに転写する。ステップ17(現像)では露光したウエハを現像する。ステップ18(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【0075】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、例えば、デバイスの生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のX線露光装置の一般的な構成を示す概略図である。
【図2】本発明の好適な実施の形態に係る半導体露光装置を示す概略図である。
【図3】本発明の好適な実施の形態に係る半導体露光装置におけるグローバルアライメント方式の露光動作を説明するための図である。
【図4】本発明の好適な実施の形態に係る半導体露光装置におけるグローバルアライメント方式の露光動作のフローチャートである。
【図5】本発明の好適な実施の形態に係る半導体露光装置におけるAF計測の露光動作を示す構成図である。
【図6】本発明の好適な実施の形態に係る半導体露光装置におけるMix & Matchの露光動作を示す構成図である。
【図7】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【図8】ウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。
【符号の説明】
1:マスク、2:マスクメンブレン、3:ウエハ、4:マスクチャックならびにマスクステージ、5:ウエハチャック、6:マスクステージベース、7:ステージ定盤、8:アライメントスコープ、9:アライメントステージ、10:ウエハ高さセンサ、11:マスク高さセンサ、12:XYステージ、13:Zチルトステージ、14:投光部、15:受光部
Claims (13)
- 原版のパターンをウエハに露光する半導体露光装置であって、
ウエハの高さ情報を測定する測定器と、
過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と、現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記原版及び/又は前記ウエハの高さ方向の位置を調整する調整器と、
を備えることを特徴とする半導体露光装置。 - 前記ウエハの高さ情報をメモリに格納する処理部を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体露光装置。
- 前記処理部は、前記ウエハを識別するための識別情報と、前記ウエハの高さ情報と、を関連付けて前記メモリに記憶させることを特徴とする請求項2に記載の半導体露光装置。
- 前記処理部は、前記識別情報に基づいて、前記過去の露光工程におけるウエハの高さ情報を前記メモリから読み出すことを特徴とする請求項3に記載の半導体露光装置。
- 前記処理部は、前記ウエハの高さ情報として、所定の基準位置からのウエハの高さ及び前記調整器による調整量の少なくとも1つを、前記メモリに記憶させることを特徴とする請求項4に記載の半導体露光装置。
- 前記過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と前記現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記調整器を制御するための指令値を出力する制御部を更に備えることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の半導体露光装置。
- 前記過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と前記現在の露光工程におけるウエハの高さ情報との差が所定値以上であるときに、当該半導体露光装置の運転を停止させる機能を有する制御部を更に備えることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の半導体露光装置。
- 前記制御器は、前記過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と前記現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とをそれぞれ所定の比率で足し合わせる演算を行い、前記調整器は、前記制御器の演算結果に基づいて、前記原版及び/又は前記ウエハの高さ方向の位置を調整することを特徴とする請求項6または請求項7に記載の半導体露光装置。
- 前記制御器は、前記過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と前記現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記比率を露光工程によって変更するための評価関数を有することを特徴とする請求項8に記載の半導体露光装置。
- 前記調整器は、前記原版と前記ウエハとの間隔が所定の微小間隔となるよう前記原版及び/又は前記ウエハの高さ方向の位置を調整することを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の半導体露光装置。
- 前記調整器は、前記ウエハの高さ方向の位置が露光光のフォーカス位置となるよう前記原版及び/又は前記ウエハの高さ方向の位置を調整することを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の半導体露光装置。
- 原版のパターンをウエハに露光する半導体露光装置の制御方法であって、
ウエハの高さ情報を測定する測定工程と、
過去の露光工程におけるウエハの高さ情報と現在の露光工程におけるウエハの高さ情報とに基づいて、前記原版及び/又は前記ウエハの高さ方向の位置を調整する調整工程と、
を含むことを特徴とする半導体露光装置の制御方法。 - 半導体デバイスの製造方法であって、
ウエハに感光材を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程で前記感光材が塗布された前記ウエハに請求項1乃至請求項11のいずれか1項に記載の半導体露光装置を利用してパターンを転写する露光工程と、
前記露光工程で前記パターンが転写された前記ウエハの前記感光材を現像する現像工程と、
を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
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