JP2009182063A - 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】投影光学系を用いてウエハW上にパターンを露光する露光方法であって、Y方向に離れて配置されたローディング位置LPと投影光学系PLとの間で、ウエハWの保持面に概平行な面に沿ってウエハWを保持するウエハステージWSTを移動する工程と、ウエハWのZ位置分布を計測する多点AF系90及びZセンサ72a〜72dによって、ウエハステージWST上のXスケール部39XAの表面のZ位置分布を計測する工程と、この計測結果に基づいて多点AF系90を校正する工程とを有する。
【選択図】図4
Description
また、露光装置においては露光工程のスループットを高めることも要求されている。従って、AF系の校正は、露光装置におけるウエハのローディングから露光を経てウエハのアンローディングに至るまでの動作をできるだけ阻害することなく、効率的に行う必要がある。
図1は、本実施形態に係る露光装置100の概略構成を示す。この露光装置100は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置(走査型露光装置)としてのいわゆるスキャニングステッパである。後述するように本実施形態では、投影光学系PL(投影ユニットPU)が設けられており、以下においては、投影光学系PLの光軸AXと平行にZ軸を取り、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向にY軸を、Z軸及びY軸に直交する方向にX軸を取り、X軸、Y軸、及びZ軸の周りの回転(傾斜)方向をそれぞれθx、θy、及びθz方向として説明を行う。
図1において、ノズルユニット32は、露光用の液体Lqを供給可能な供給口と、液体Lqを回収可能な多孔部材(メッシュ)が配置された回収口とを有する。ノズルユニット32の供給口は、供給流路及び供給管31Aを介して、液体Lqを送出可能な液体供給装置5(図7参照)に接続されている。
なお、液浸タイプの露光装置としない場合には、上記の局所液浸装置8は、設けなくともよい。
次に、本実施形態の露光装置100は、図2に示されるように、照射系90a及び受光系90bから成る、例えば特開平6−283403号公報(対応する米国特許第5,448,332号明細書)等に開示されるものと同様の構成の斜入射方式の多点のオートフォーカスセンサ(以下、多点AF系と呼ぶ。)90を備えている。一例として、投影光学系PLと、ウエハステージWST上のウエハのローディング位置LPとのY方向の間の領域に、多点AF系90の照射系90a及び受光系90bが不図示のメインフレームに支持されて配置されている。なお、ローディング位置LP及びウエハのアンローディング位置UPは、それぞれ不図示のウエハローダ系のウエハアームWA等との間でウエハWの受け取り及び搬出を行う際のウエハステージWSTの中心の位置を意味している。
図2の多点AF系90の複数の計測点は、被検面上のX方向に細長い検出領域AF内にX方向に沿って間隔XP(図5参照)で配置される。本実施形態では、その複数の計測点は、例えば1行M列(Mは検出点の総数)又は2行N列(Nは検出点の総数の1/2)の行マトリックス状に配置される。なお、それらの計測点を3行以上の複数行に配列することも可能である。以下では、図5に示すように、多点AF系90による全部の計測点A1,A2,…,AMがX方向に一行に配列されている場合につき説明する。
図2に戻り、ヘッドユニット62C及び62Aは、それぞれ複数のYヘッド64の検出中心を結ぶX軸に平行な直線LHを挟むように対称に、かつ直線LHに平行な2本の直線に沿って所定間隔で配置された複数(ここでは各6個、合計で12個)のZセンサ74i,j(i=1,2、j=1〜6)及びZセンサ76p,q(p=1,2、q=1〜6)を備えている。各Zセンサ74i,j及び76p,qとしては、前述のZセンサ72a〜72dと同様のセンサが用いられている。また、一対のZセンサ741,4,742,4は、Zセンサ72a,72bと同一のY軸に平行な直線上に位置しており、一対のZセンサ761,3,762,3は、Zセンサ72c,72dと同一のY軸に平行な直線上に位置している。Zセンサ74i,j及び76p,qは例えばメインフレーム(不図示)に固定されている。
以下、本実施形態の図1の露光装置100において、主制御装置20の制御のもとで1ロットのウエハに順次レチクルRのパターンの像を露光する際の動作の一例につき、図10のフローチャートを参照して説明する。
次のステップ202において、ウエハステージWSTの中心を、投影光学系PLの光軸を通りY軸に平行な直線LV上に移動した後、さらにウエハステージWSTの中心が投影光学系PLの露光領域(露光位置)の方向に移動するように、ウエハステージWSTの+Y方向への移動を開始する。その移動中、ステップ203において、図8(A)に示すように、プライマリアライメント系AL1の検出領域内にウエハテーブルWTB上の計測プレート30の基準マークFMが入ったときに、プライマリアライメント系AL1で基準マーク(不図示)の位置計測を行う。
従って、計測点Aiにおける多点AF系90の計測値Ziに対するオフセットOFiは、像面からの偏差ZTiを用いて次のようになる。
OFi=ZTi−Zi …(2)
このオフセットOFi(i=1〜M)が主制御装置20から多点AF系90の受光系90b内のオフセット補正部に設定される。これ以後は、多点AF系90の各計測点AiのZ位置の計測値に式(2)のオフセットOFiを加算した値(オフセット補正後の計測値)が主制御装置20に供給される。これ以降は、多点AF系90の各計測点AiにおけるZ位置の計測値は、投影光学系PLの像面からの偏差を正確に示す値となるため、多点AF系90の計測値を用いてウエハWの表面を像面に高精度に合焦できる。なお、受光系90b内の各検出光DL1〜DLMの受光光学系内に、各検出光の結像位置をシフトさせるハービング等が設けられている場合には、そのハービング等を用いて、そのオフセットOFiに対応するシフト量を相殺するように各検出光の結像位置をシフトさせてもよい。
そのオフセットOFijに対する重みは、一例として所定の正の係数αを用いて、最新の計測値ほどに大きい値になるexp(−j・α)である。なお、nがkより大きい場合には、計測値の蓄積がない部分の重みexp(−r・α)(r=(k+1)〜n)は0とする。このとき、その重み付け平均値<OFi>は次のようになる。なお、式(3)中の和記号Σは、係数jに関する1からnまでの和を意味する。
このような平均化処理によって、振動等に起因して多点AF系90の計測値に誤差が混入していても、誤差の影響を低減できる。
次のステップ206において、図4の状態からさらにウエハステージWSTを+Y方向に移動して、図8(B)に示すように、投影光学系PLの露光領域内にウエハテーブルWTB上の計測プレート30のスリットパターンSL(図6参照)を移動する。そして、ウエハステージWSTの+Y方向の端部に計測ステージMSTを連結して、レチクルRの2つのアライメントマーク(レチクルマーク)の投影光学系PLによる像をスリットパターン(不図示)で走査して、ウエハステージWST及び計測ステージMST内の空間像計測装置45(図7参照)によって、そのレチクルマークの像の位置を計測する。この計測値及びステップ203の基準マークの計測値から、主制御装置20はベースライン(露光中心とアライメント系AL1の検出中心との位置関係)を求めることができる。
(1)上記の実施形態の露光装置100は、投影光学系PLを用いてウエハW上にパターンを露光する露光装置であって、吸着面(保持面)でウエハWを保持しその吸着面にほぼ平行なベース盤12の上面12a(ガイド面)に沿って移動可能なウエハステージWSTと、投影光学系PLから上面12aに平行な面上で少なくともY方向(第1方向)に離れて配置されたローディング位置LPと投影光学系PLとの間に配置され、ウエハW表面のZ位置分布を計測する多点AF系90及びZセンサ72a〜72d(基板面位置計測機構)と、主制御装置20とを備えている。そして、ウエハステージWSTは、+Y方向の端部に設けられた第1のXスケール部39XA(基準平面板)を有し、主制御装置20は、ウエハステージWSTがローディング位置LPと投影光学系PLとの間を移動する際に、多点AF系90及びZセンサ72a〜72dによりXスケール部39XAのZ位置分布を計測させ、この計測結果に基づいて多点AF系90を校正している。
なお、多点AF系90の計測値の安定性が比較的高い場合には、多点AF系90の校正は、例えば複数枚のウエハの露光毎に行うようにしてもよ。さらに、初めは1枚又は所定の複数枚のウエハの露光毎に多点AF系90の校正を行って、次第に多点AF系90の校正間のウエハの露光枚数を多くしてもよい。
さらに、外乱等に起因する多点AF系90の計測値の誤差が小さい場合には、最新の1回の計測値のみを用いて多点AF系90の校正を行ってもよい。
(6)また、ステップ204、205において、主制御装置20は、Xスケール部39XAの端部及びYスケール39Y1,39Y2のZ位置を計測するためのZセンサ72a〜72d(第2の面位置センサ)の計測情報を用いて、ウエハW及びXスケール部39XAの中央部(Xスケール39X1)を計測するための多点AF系90(第1の斜入射型の面位置センサ)計測情報の校正を行う。
また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置に限らず、液晶表示素子やプラズマディスプレイなどを含むディスプレイの製造に用いられる、デバイスパターンをガラスプレート上に転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられるデバイスパターンをセラミックスウエハ上に転写する露光装置、並びに撮像素子(CCDなど)、有機EL、マイクロマシーン、MEMS(Microelectromechanical Systems)、及びDNAチップなどの製造に用いられる露光装置などにも適用することができる。このように、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。
Claims (17)
- 露光光学系を用いて被露光基板上にパターンを露光する露光装置であって、
保持面で前記被露光基板を保持し前記保持面に概平行な面に沿って移動可能な基板ステージと、
前記露光光学系から前記保持面に概平行な面上で少なくとも第1方向に離れて配置された、前記基板ステージ上の前記被露光基板が交換される基板交換位置と、前記露光光学系との間に配置され、前記保持面の法線方向における前記被露光基板表面の位置分布情報を計測する基板面位置計測機構と、
前記基板ステージ及び前記基板面位置計測機構を制御する制御機構と、
を備え、
前記基板ステージは、前記第1方向に沿った方向の少なくとも一方の端部に基準平面板を有し、
前記制御機構は、前記基板ステージが前記基板交換位置と前記露光光学系との間を移動する際に、前記基板面位置計測機構により前記基準平面板の位置情報を計測させ、該計測結果に基づいて前記基板面位置計測機構を校正することを特徴とする露光装置。 - 前記制御機構は、
前記基板面位置計測機構による前記基準平面板の位置情報を複数回取得し、最新の計測結果、及びそれまでの所定回数の計測結果を統計処理し、該統計処理の結果に基づいて前記基板面位置計測機構の前記校正を行うことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記基板面位置計測機構の前記校正は、前記基板ステージ上の前記被露光基板を交換する毎に行われることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の露光装置。
- 前記制御機構は、
前記統計処理を行う際に、前記基準平面板の位置情報のそれまでの計測結果のうち、新しい計測結果程大きい重みを付けることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。 - 前記統計処理は、線形予測処理であることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記基板面位置計測機構は、
前記被露光基板及び前記基準平面板の中央部を計測するための第1の斜入射型の面位置センサと、
前記基準平面板の端部を計測するための第2の面位置センサとを含み、
前記制御機構は、前記第2の面位置センサの計測情報を用いて前記第1の面位置センサの計測情報の校正を行うことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記露光光学系から前記保持面に概平行な面内で少なくとも前記第1方向と直交する第2方向に離れた位置に配置されて、
前記保持面の端部における前記基準平面板の法線方向の位置情報を計測する第3の面位置センサを備え、
前記制御機構は、前記露光光学系を用いて前記被露光基板上に前記パターンを露光する際に、前記基板面位置計測機構による前記被露光基板の露光前の該基板の位置分布情報の計測結果及び前記第3の面位置センサの計測結果を用いて、前記被露光基板の前記保持面の法線方向の位置分布情報を求めることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記基準平面板には格子パターンが形成されるとともに、
前記格子パターンを検出して、前記基板ステージの前記保持面に概平行な面内の位置情報を計測するステージ位置計測機構を備えることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の露光装置。 - 露光光学系を用いて被露光基板上にパターンを露光する露光方法であって、
保持面及び第1方向に沿った方向の少なくとも一方の端部に配置された基準平面板を有する基板ステージの前記保持面で前記被露光基板を保持する第1工程と、
前記保持面に概平行な面上で少なくとも前記第1方向に離れて配置された基板交換位置と前記露光光学系との間で、前記保持面に概平行な面に沿って前記基板ステージを移動する第2工程と、
前記基板交換位置と前記露光光学系との間に配置されて、前記保持面の法線方向における前記被露光基板表面の位置分布情報を計測する基板面位置計測機構によって、前記基準平面板の位置情報を計測する第3工程と、
前記第3工程の計測結果に基づいて前記基板面位置計測機構を校正する第4工程と、
を有することを特徴とする露光方法。 - 前記第4工程は、
前記第3工程における前記基板面位置計測機構による前記基準平面板の位置情報を複数回取得し、最新の計測結果、及びそれまでの所定回数の計測結果を統計処理し、該統計処理の結果に基づいて前記基板面位置計測機構の前記校正を行う工程であることを特徴とする請求項9に記載の露光方法。 - 前記第1工程から前記第4工程を、前記基板ステージ上の前記被露光基板を交換する毎に実行することを特徴とする請求項9または請求項10に記載の露光方法。
- 前記統計処理を行う際に、前記基準平面板の位置情報のそれまでの計測結果のうち、新しい計測結果程大きい重みを付けることを特徴とする請求項10に記載の露光方法。
- 前記統計処理は、線形予測処理であることを特徴とする請求項10に記載の露光方法。
- 前記基板面位置計測機構は、
前記被露光基板及び前記基準平面板の中央部を計測するための第1の斜入射型の面位置センサと、
前記基準平面板の端部を計測するための第2の面位置センサとを含み、
前記第4工程は、前記第2の面位置センサの計測情報を用いて前記第1の面位置センサの計測情報の校正を行う工程であることを特徴とする請求項9から請求項13のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記露光光学系を用いて前記被露光基板上に前記パターンを露光する際に、前記露光光学系から前記保持面に概平行な面上で少なくとも前記第1方向と直交する第2方向に離れた位置に配置された第3の面位置センサを用いて、前記保持面の端部における前記基準平面板の法線方向における位置情報を計測する第5工程と、
前記基板面位置計測機構による前記被露光基板の露光前の該基板の位置分布情報の計測結果と、前記第5工程における前記第3の面位置センサの計測結果とを用いて、前記被露光基板の前記保持面の法線方向の位置分布情報を求める第6工程とを有することを特徴とする請求項9から請求項14のいずれか一項に記載の露光方法。 - ステージ位置計測機構によって、前記基準平面板に形成された格子パターンを検出して、前記基板ステージの前記保持面に概平行な面内の位置情報を計測する第7工程を有することを特徴とする請求項9から請求項15のいずれか一項に記載の露光方法。
- 請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の露光装置を用いて被露光基板を露光する工程と、
前記露光された被露光基板を処理する工程と、を含むデバイス製造方法。
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