JP2015002125A

JP2015002125A - フレキシブル有機ｅｌ表示装置及びその製造方法

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Publication number: JP2015002125A
Application number: JP2013126986A
Authority: JP
Inventors: 雅考長谷川; Masataka Hasegawa; 鈴木　堅吉; Kenkichi Suzuki; 堅吉鈴木; 龍太郎前田; Ryutaro Maeda
Original assignee: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Current assignee: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date: 2013-06-17
Filing date: 2013-06-17
Publication date: 2015-01-05
Anticipated expiration: 2033-06-17
Also published as: JP6061301B2

Abstract

【課題】フレキシブル化の問題、大型化の問題、透明電極の問題及び有機ＥＬ層の封止及び放熱構造の問題のすべてを完全に解決したフレキシブル有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】有機ＥＬ表示装置は表示パネルを垂直画素列のフレキシブルな画素発光部４０と、フレキシブルな一次元ＦＰＣの画素駆動回路部５０とに分離し、これらを別々に形成した後、両者を積層して電気的に接続した状態で接合した階層構造を画面構成の単位とする。画素発光部４０は、平面基板の代わりに透明でフレキシブルなプラスチックテープ１２に透明電極としてグラフェン膜１４が形成された一次元陽極基板１１上に一の原色光を発光する有機ＥＬ層１６を形成した構造である。有機ＥＬ表示装置７０は、垂直方向の画素数が表示画面の合計の垂直画素数よりも大幅に多い長尺の構成である。【選択図】図７

Description

本発明はフレキシブル有機ＥＬ表示装置及びその製造方法に係り、特にフレキシブルな有機ＥＬ(エレクトロルミネセンス)表示装置及びその製造方法に関する。

近年、自発光、高速応答性等の性能と薄型化が可能という本質的に液晶表示装置(ＬＣＤ；Liquid Crystal Display)より優れた表示装置である有機ＥＬ表示装置(ＯＬＥＤ；Organic Light Emissive Display)が注目されている。ＯＬＥＤでは、複数の有機ＥＬの画素を２次元マトリックス状に配置し、それらの各画素に電圧、電流を供給する配線、回路を実装してディスプレイパネルを構成する。

ＯＬＥＤでは配線はゲート線、信号線、共通線の３種はＬＣＤと同じであるが、これ以外に電流源への接続配線が加わる。ＯＬＥＤの発光は電流駆動によるためである。また、ＯＬＥＤの画素駆動回路は、画素選択以外に電流制御のスイッチ回路が必要となり、ＬＣＤのようにオン・オフ電圧のスイッチ用のトランジスタ１個の構成とは異なり、最低でも２個のトランジスタの構成となる。このため、ＯＬＥＤでは、画面面積が大型になるほどコストがＬＣＤより高くなり、これに加えて表示の不均一性等の性能面が問題となる。

従来は、大型として６０型程度までは一枚のパネルであるが、１００型以上の超大型では複数の通常のディスプレイパネルを所謂「タイル貼り」して大型のＯＬＥＤパネルを作成している。この場合はディスプレイパネル同士の繋ぎ目の問題と歩留りの問題が生じるので、これらの問題を解決することを目的とした有機ＥＬ表示装置が提案されている(例えば、特許文献１参照)。特許文献１記載の有機ＥＬ表示装置は、ファイバーを基板としており、基板のファイバーとしては任意断面形状の透明なガラス、プラスチック線材とし、この一面に主として有機ＥＬの画素を形成し、他方の面に配線や回路等を配置したボトムエミッション(bottom emission)タイプの構造である。ディスプレイはファイバーを透明な面板上に配列した構成である。また、特許文献１記載の有機ＥＬ表示装置は、１本のファイバー上の各画素に薄膜プロセスで画素駆動回路と画素のアドレス回路(シフトレジスタ、デコーダ等)や配線を施したアクティブ方式ＯＬＥＤであり、上記繋ぎ目の問題は線を並べることで解消し、歩留りの問題は欠陥部分のファイバーだけを捨てることで解消している。

一方、スポーツ、衣料その他の多くの業界において、電子回路機能が織り込まれた織物、あるいは織物のような電子回路機器が要求されることがある。ＯＬＥＤも同様で、このような要求を満たすためのＯＬＥＤが従来提案されている(例えば、特許文献２参照)。特許文献２には、互いに織り合わされた縦糸及び横糸の一方に少なくとも一つの導電系を配置し、他方に少なくとも一つの機能系を配置し、機能系が少なくとも一つの導電体がその上に配置された細長い基板、及びその基板上に配置された少なくとも一つの電子装置を含み、導電体が電子装置と導電系とを電気的に接続する織物であって、上記電子装置としてＯＬＥＤを配置した構成の織物が開示されている。

また、フレキシブルな構成のＯＬＥＤの研究開発が近年盛んに行われている。従来のフレキシブルなＯＬＥＤはプラスチック平面基板を用いている。例として、２０１３年のＳＩＤ(Society for Information Display)で発表された試作品は、ポリエチレンナフタレート(ＰＥＮ)をベースとしたＰＥＮ基板を用いた画面サイズ４型で三原色の各原色画素が縦方向に２２４画素、横方向に２２４×３画素のＯＬＥＤ、ＰＩ基板を用いた画面サイズ１０.２型で各画素が横方向１９２０画素、縦方向１２００画素のＯＬＥＤ、基板材料公表のない画面サイズ３.４型で、横方向５４０画素、縦方向９６０画素のＯＬＥＤが挙げられる。

これらのＯＬＥＤの画素駆動回路は、何れもInGaZnO(ＩＧＺＯ)を用いた薄膜トランジスタ(ＴＦＴ)回路構成で、上記４型ＯＬＥＤではガラス基板にＰＥＮを貼り付けて製作した後ＰＥＮを剥がして完成し、３.４型ＯＬＥＤでは各層の転写で完成する。
また、有機ＥＬ層の封止構造についての発表はないが、SiOx、SiNx、AlxOyなどの無機膜とポリマー膜の交互多層構造と推定される。更に、透明電極は透明導電膜(ＩＴＯ；Indium Tin Oxide)で構成され、ガラス基板での技術をプラスチック基板に適用している段階である。

米国特許第６２５９８３８号明細書特表２００５−５２４７８３号公報

ＯＬＥＤのフレキシブル化は、ガラス基板をプラスチック基板に換えること、現行のガラス基板でのプロセスをプラスチック基板に適用する形で進められているが、以下の四つの問題がある。

第一の問題は、プラスチック基板の耐熱性に関わる問題である。プロセス温度としては１５０℃〜２００℃の材料的制限がある。従って、画素駆動回路用のＴＦＴプロセスの低温化が一つの課題である。InGaZnO(ＩＧＺＯ)は２００℃程度の低温成膜が比較的容易なので、目下の試作品はこれが主流であるが、結晶相のＩＧＺＯでも易動度が１０程度であり、高精細、大型化に対しては性能不足で、ＯＬＥＤの本格的実用段階ではｐ-ＳｉＴＦＴの低温プロセス化が必須である。従来の「低温ｐ-Ｓｉ」はａ-Ｓｉと同程度の５００℃プロセスを指すが、ここでの低温化はレーザーアニール結晶化を指す。基板にダメージを与えない波長、熱量で高品質の結晶化を達成することが課題である。

第二の問題は、フレキシブルか否かに関わらずＯＬＥＤの大型化が困難な点である。ＯＬＥＤに関して、ガラス基板が前提であるが、小型画面の分野ではＬＣＤとコストの差は少ない(４型ではＬＣＤの１.３倍のコスト)が、大型画面になるとＬＣＤとのコストの差は大きくなる(５５型ではＬＣＤの１０倍のコスト)という報告がなされている(米国の技術調査会社であるディスプレイサーチ(Display Search)社の2012年のレポート「AMOLED Process Roadmap Report」参照)。原因として低い歩留りと材料コストを挙げているが、同時にこの解決には現状技術の展開では困難で、何か別の技術革新が必要で、従って相当な期間を要すると推測している。

大型化に於ける低い歩留りの主要原因は、平面基板上にＲＧＢの各画素発光層を塗り分けることにある。すなわち、低分子系材料の有機ＥＬ層形成はマスク蒸着によるが、大型、高精細になるほどマスクの取り扱いに困難性が増す。更に、蒸着成膜は一般的にレートと膜質の相反関係があり、目下の材料では高々１ｎｍ/秒の程度が限界であり、原理的にスループットが上がらない。一方、高分子系材料の有機ＥＬ層の塗り分けにはインクジェットが用いられている。しかしバンク構造内に均一な膜を形成することが難しく、おまけにスループットも低い。すなわち、現状の有機ＥＬ層の画素形成技術は、低歩留りのみならずスループットの低さも問題である。

歩留り以上に更に本質と思われる問題は、画素駆動回路用の配線の問題である。同一平面上に発光部陽極電極(ＩＴＯ透明電極)と配線・回路を作り込んだボトムエミッション(bottom emission)タイプでは、大型化に伴っての配線抵抗の低減、特に電流源との配線抵抗の低減が必須で、配線幅が増え開口率はＬＣＤに比べてかなり下回る。
一方、配線、画素駆動回路等の上部に絶縁層を設け、表示セル毎に分離された陰極電極が形成された構造のトップエミッション(top emission)タイプでは、配線、回路部分を多層構造にすることによってこの問題は原理的には解決できる。すなわち、極端な場合、多層配線すれば、原理的に配線の問題は解決できる。しかし、トップエミッションタイプは、有機ＥＬ層上にＩＴＯ透明電極を形成する構成であるため、低温成膜のため低抵抗化が難しく、結局は小型への適用に限定される。更に、この様な多層構造の製造プロセスは必然的にＬＣＤの製造プロセスより高コストとなる。

第三の問題は、透明電極の問題である。現在主流であるＩＴＯ、ＺｎＯ等の酸化物透明電極膜も公知の文献(“A mechanical assessment of flexible optpelectrononic devices”, Thin Solid Films 394(2001)202-206)が詳細に示す様に、屈曲によって容易に破断する。更に透明電極であるＩＴＯからインジウム(Ｉｎ)が拡散して、ＩＴＯ上に形成される有機ＥＬ層を劣化させることが広く知られており、通常はＩＴＯと有機ＥＬ層の間にバリヤ層を設ける。この対策として、最近グラフェンを透明電極として用いる動きが活発で、太陽電池、タッチパネル、ＯＬＥＤ等への適用を目指して大面積の成膜法も開発されている。

周知の様に、グラフェン膜は完全なガスバリヤ性、高い熱伝導度、比較的低い抵抗値、超薄膜による高透過率、完全なフレキシビリティ等の優れた性能を持つ。ＯＬＥＤへの適用は公知の文献［(“Organic Light-Emitting Diodes on Solution-Processed Graphene Transparent Electrodes”, acs nano 4(2010) 43-48)および(“Extremely efficient flexible organic light-emitting diodes with modified graphene anode”, Tae-Hee Han, Jong-Hyun Ahn, Tae-Woo Lee, Nature Photonics 6, 105-110(2012)］に例示される様に広く検討されており、未だ小面積の段階であるがＩＴＯと同等の性能が報告されている。ただし、現在までのＩＴＯベースのディスプレイの実績から見ると、グラフェンの抵抗値の限界はかなり本質的である。例えば、銅箔を基材としメタンガスを原料に用いた熱気相合成法で合成した最高品質のグラフェンでシート抵抗３０Ω/□、光透過率は９０％である。この場合のグラフェンの総数は４層である。したがって、従来のデバイス構成では大型、高精細のＯＬＥＤを実現することは困難である。

第四の問題は、有機ＥＬ層の封止構造と放熱構造の問題である。プラスチックフィルム基板の透湿、酸素透過に対するバリヤ層として、通常SiOx、SiNx、AlxOy等の無機膜が用いられている。更に、大面積でのピンホール発生とカバレッジのために、上記無機膜と透明ポリマー蒸着層とを交互に配した多層膜構造をとる。この多層膜は透明かつフレキシブルでバリヤ性があるが、熱伝導性が悪く有機ＥＬ層からの放熱を妨げ信頼性に影響を及ぼす。

以上の問題のうち初めの二つの問題は、平面基板を用いる限り避けられない。平面基板でなく線状の所謂「一次元基板」を用いる特許文献１記載のアクティブ方式の有機ＥＬ表示装置は、第二の問題の解となる可能性がある。しかしながら、この従来の有機ＥＬ表示装置においては、ファイバー基板上に信号並びに画素選択信号配線、各画素に選択画素のデコーダ回路とドライブ回路を有している。すなわち、この従来の有機ＥＬ表示装置ではファイバー基板上に画素駆動回路のみならず外部回路に当たる部分もパネル内に取り込んだ構成で、ＯＬＥＤの本質的問題である生産性は、この特許文献１記載の構成では平面基板より遥かに低いと考えられる。

また、特許文献２には、ＯＬＥＤを形成する方法として、線状基板にＩＴＯ又はポリエチレンジオキシチオフェン(ＰＤＯＴ)を透明電極とし、この上に連続して有機ＥＬ層を形成し、導電層を持った別の線状基板をこれと直交させて、マトリックス状の発光画素を形成する方法が開示されている。また、特許文献２には、発光の制御回路、通電線等を適宜配置した織物構造を作製することが開示されている。しかしながら、特許文献２に記載のＯＬＥＤの構成はパッシブ型の表示構成であり、高画質、大型、高精細の構成は不可能である。パッシブ表示体それ自体も、織る過程に於いて画素形成を行うので有機ＥＬ層と電極のコンタクト、画素外の有機ＥＬ層の劣化等があり、上記各問題の解決にはならない。

本発明は以上の点に鑑みなされたもので、上記の四つの問題をすべて完全に解決したフレキシブル有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するため、本発明のフレキシブル有機ＥＬ表示装置は、画素発光部と、一方の面に信号線と電源線と画素接続用バンプとが少なくとも形成され、他方の面に複数の画素の画素駆動回路を集積した集積回路と画素選択用ゲート線接続用バンプとが少なくとも形成され、かつ、画素接続用バンプ及び信号線と集積回路とをそれぞれ接続する配線と、表示画面の垂直方向の各画素の端子部とが形成された、表示画面の複数の水平画素ピッチ以下の幅で、かつ、表示画面の垂直方向の全画素数の総垂直画素ピッチより長い長尺のフレキシブルなプラスチックテープによる画素駆動回路部と、
を有し、前記画素発光部は、
表示画面の一水平画素ピッチ以下の幅で、かつ、表示画面の垂直方向の全画素数の総垂直画素ピッチより長い長尺で表面に透明バリヤ層が積層された透明な第１のフレキシブルテープの表面に透明電極として形成されたフレキシブルなグラフェン膜と、第１のフレキシブルテープの両側面にグラフェン膜と電気的に接続されるように形成された金属電極とからなるフレキシブルな一次元陽極基板と、グラフェン膜の上面に連続的に成膜された、三原色のうちの一色の単色光を発光する有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に有機ＥＬ層よりも狭い幅で、かつ、表示画面の一垂直画素ピッチで第１のフレキシブルテープの長手方向に複数形成された画素陰極電極と、第１のフレキシブルテープと同一幅で同一長さの長尺な第２のフレキシブルテープの両面に、かつ、テープ長手方向に画素陰極電極と同一ピッチでそれぞれ複数形成されたセグメント状の第１及び第２の金属膜が、表示画面の一垂直画素ピッチで第２のフレキシブルテープに穿設されたスルーホールで導通したフレキシブルな基板構造の一次元陰極基板と、一次元陰極基板の幅方向の中央部に形成された導電性接着層と、一次元陰極基板の幅方向の両端部に形成された絶縁層接着層とを介して一次元陽極基板上の画素陰極電極を接合し、導電性接着層を介して画素陰極電極と第１及び第２の金属膜とを電気的に接続するとともに、有機ＥＬ層を封止し放熱する封止及び放熱構造と、を備え、
画素発光部の第１及び第２の金属膜と画素駆動回路部の画素接続用バンプとを電気的に接続した状態で、画素発光部と画素駆動回路部とを積層して接合した階層構造を一単位として、表示画面の画面水平方向に複数単位配列して全画面を構成したことを特徴とする。

また、上記の目的を達成するため、本発明のフレキシブル有機ＥＬ表示装置は、前記封止及び放熱構造が、前記一次元陰極基板の前記導電性接着層及び前記絶縁性接着層と、前記一次元陽極基板上に前記有機ＥＬ層を介して積層された前記画素陰極電極とを対向させて真空内加圧により接合し、前記導電接着層を介して前記画素陰極電極と前記第１及び第２の金属膜とを電気的に接続するとともに、前記絶縁層接着層、前記一次元陰極基板の前記第１及び第２の金属膜及び前記一次元陽極基板の前記透明バリヤ層により前記有機ＥＬ層を封止する構造と、同時に前記有機ＥＬ層を前記第１及び第２の金属膜と前記グラフェン膜とでサンドイッチした放熱構造であることを特徴とする。

また、上記の目的を達成するため、本発明のフレキシブル有機ＥＬ表示装置は、前記画素発光部の前記第１及び第２の金属膜と前記画素駆動回路部の前記画素接続用バンプとを電気的に接続した状態で、前記画素発光部と前記画素駆動回路部とを積層して接合した階層構造を一単位として、表示画面の画面水平方向に複数単位配列し、かつ、垂直画素列が複数の表示画面分連続に連なった構造である一次元表示ユニットを縦糸とするとともに、前記一次元表示ユニットの画面水平方向の画素間の各間隙内に配置される画面垂直方向に延在するブラックマトリックス用の第１の黒色絶縁プラスチックファイバーを縦糸とし、かつ、前記一次元表示ユニットの各画素の一部に画面垂直方向の画素ピッチで配置される画面水平方向に延在するブラックマトリックス用の第２の黒色絶縁プラスチックファイバーを横糸とする織物構造とみなす構成としたことを特徴とする。

また、上記の目的を達成するため、本発明のフレキシブル有機ＥＬ表示装置は、前記画素発光部が、前記有機ＥＬ層が赤色光を発光する赤色画素発光部と、前記有機ＥＬ層が緑色光を発光する緑色画素発光部と、前記有機ＥＬ層が青色光を発光する青色画素発光部の各原色画素発光部単位で別々に形成されている。また、本発明のフレキシブル有機ＥＬ表示装置は、前記織物構造から切り取った所望の一表示パネル分の前記一次元表示ユニット及び前記第１及び第２の黒色絶縁プラスチックファイバーからなる画面構成部と、前記画面構成部の端子部と接続される、少なくともゲートドライバ、表示信号ドライバ及び電源を搭載したフレキシブル基板による周辺回路部と、前記画面構成部及び前記周辺回路部の構造の両面全面にラミネートされたフレキシブルなパッシベーションフィルムとを備えることを特徴とする。

また、上記の目的を達成するため、本発明のフレキシブル有機ＥＬ表示装置の製造方法は、表示画面の一水平画素ピッチ以下の幅で、かつ、前記表示画面の垂直方向の全画素数の総垂直画素ピッチより長い長尺で表面に透明バリヤ層が積層された透明な第１のフレキシブルテープの前記透明バリヤ層上に透明電極として形成されたフレキシブルなグラフェン膜と、第１のフレキシブルテープの両側面にグラフェン膜と電気的に接続されるように形成された金属電極とからなるフレキシブルな一次元陽極基板を製造する第１の工程と、グラフェン膜の上面に三原色のうちの一色の単色光を発光する有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に有機ＥＬ層よりも狭い幅で、かつ、表示画面の一垂直画素ピッチで第１のフレキシブルテープの長手方向に複数形成された画素陰極電極とを順次に形成する第２の工程と、第１のフレキシブルテープと同一幅で同一長さの長尺な第２のフレキシブルテープの両面に、かつ、テープ長手方向に画素陰極電極と同一ピッチでそれぞれ複数形成されたセグメント状の第１及び第２の金属膜が、表示画面の一垂直画素ピッチで第２のフレキシブルテープに穿設されたスルーホールを介して導通されたフレキシブルな基板構造の一次元陰極基板を製造する第３の工程と、一次元陰極基板の幅方向の中央部に形成された導電性接着層と、一次元陰極基板の幅方向の両端部に形成された絶縁層接着層とを介して一次元陽極基板上の画素陰極電極を接合し、導電性接着層を介して画素陰極電極と第１及び第２の金属膜とを電気的に接続するとともに、前記有機ＥＬ層を封止し放熱する封止及び放熱構造を形成する第４の工程とにより画素発光部を製造し、一方の面に信号線と電源線と画素接続用バンプとが少なくとも形成され、他方の面に複数の画素の画素駆動回路を集積した集積回路と画素選択用ゲート線接続用バンプとが少なくとも形成され、かつ、画素接続用バンプ及び信号線と集積回路とをそれぞれ接続する配線と、表示画面の垂直方向の各画素の端子部とが形成された、表示画面の複数の水平画素ピッチ以下の幅で、かつ、表示画面の垂直方向の全画素数の総垂直画素ピッチより長い長尺のフレキシブルなプラスチックテープによる画素駆動回路部を製造する第５の工程と、画素発光部の第１及び第２の金属膜と画素駆動回路部の画素接続用バンプとを電気的に接続した状態で、画素発光部と画素駆動回路部とを積層して接合した階層構造を一単位として、表示画面の画面水平方向に複数単位配列して全画面を構成する第６の工程とを含むことを特徴とする。

本発明によれば、フレキシブル化の問題、大型化における問題、透明電極の問題及び有機ＥＬ層の封止構造と放熱構造の問題のすべてを解決したフレキシブル有機ＥＬ表示装置を提供できる。また、本発明によれば、画素発光部はほぼ画素サイズの高い開口率を保持でき、一方画素駆動回路部はＳｉチップによる高性能の画素駆動回路を使用することができ、かつ、配線の低抵抗化が容易となる。更に、本発明によれば、製造装置を小型化できるとともに、高いスループットにより製品コストの大幅な低減化が可能で、しかも同一の製造装置により、小型画面サイズから数１００インチ対角といった超大型画面サイズに至るまで、高精細、高画質の有機ＥＬ表示装置を高い信頼性で製造できる。

本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の第一の要部である画素発光部の主要部の一実施形態の概略構成図である。本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の第一の要部である画素発光部の他の要部の一実施形態の概略構成図である。一次元陰極基板を用いた封止及び放熱構造の一例の断面図である。本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の第一の要部である画素発光部の一実施形態の断面図である。本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の画素駆動回路部の一実施形態の平面図である。本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の一実施形態の一表示セルを説明する一例の等価回路図である。本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の一実施形態の画面構成単位の断面図である。有機ＥＬ層の塗布方法の一例の説明図である。画素陰極電極の形成方法の一例の説明図である。 (ａ)はＢＭ用黒色絶縁プラスチックファイバーの縦糸と横糸の一次元表示ユニットの発光部に対する一実施形態の配置図、(ｂ)は、ＢＭ用黒色絶縁プラスチックファイバーの縦糸と横糸及び一次元表示ユニットの発光部からなる構造の一実施形態の断面図である。一次元表示ユニットの外部回路への接続方式の一例を示す図である。一次元陽極基板と一次元陰極基板を接合する機構の一例の構成図である。チップと画素及び回路テープの相対的大きさとチップの位置の一例を模式的に示す図である。

本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置は、垂直画素列の画素発光部と画素駆動回路部とを分離し、これらをそれぞれフレキシブルな構成とするとともに、表示画面の一水平画素ピッチ以下の幅の別々の長尺のフレキシブルテープ上に端子部も含めてそれぞれ形成し、その後に両者を積層して接合する階層構造を画面構成の単位とする構成である。すなわち、本発明では、いわば画面から垂直画素列を端子部まで含めて一体として切り取った構成で、その列数が少なくとも一組の三原色の垂直画素列からなるフレキシブルなテープ状構造体(以下、これを本明細書では「一次元表示ユニット」ともいう)という一次元単位に分解して製作し、これらを表示画面の水平方向に複数配列することによってフレキシブルな有機ＥＬ表示装置の全画面の表示パネルを構成するのである。これにより、前述した第一の問題を解決できる。

次に、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の第一の要部である画素発光部の主要部の一実施形態の概略構成図を示し、(ａ)はテープ幅方向の断面図、(ｂ)はテープ長さ方向の断面図を示す。図１(ａ)、(ｂ)に示す画素発光部の主要部は、一次元陽極基板１１上に複数層の有機ＥＬ層１６及び画素陰極電極１７の順で積層された構造である。

一次元陽極基板１１は、透明バリヤ層を積層した透明でフレキシブルなプラスチックテープ１２と、そのプラスチックテープ１２の透明バリヤ層上に接着層１３によって接合されたグラフェン膜１４と、プラスチックテープ１２の両側面にグラフェン膜１４と接触するように形成された金属電極１５とからなる、透明でフレキシブルなテープ状基板である。プラスチックテープ１２は、透明かつフレキシブルな第１のフレキシブルテープで、その幅は例えばアクティブマトリックス型平面ディスプレイの表示画面の一水平画素ピッチ以下の幅で、またテープ長さ方向(図１(ａ)の紙面に直交する方向、図１(ｂ)の水平方向)の長さが、表示画面の垂直方向の全画素の総画素ピッチよりも極めて長い所謂長尺のテープである。更に、プラスチックテープ１２は、表面と裏面のうち少なくともグラフェン膜１４が成膜される側の平面が、例えば数ｎｍ以下の面粗さの平滑面に形成されており、その上に連続的に透明バリヤ層が積層されている。この透明バリヤ層は、例えば前述した無機膜と透明ポリマー膜との交互多重層で形成される。

グラフェン膜１４は、透光性、フレキシブルかつ導電性を有する薄膜で、プラスチックテープ１２の平滑面に積層されている透明バリヤ層(図示せず)上に接着層１３によって接合されて透明電極(陽極)として用いられる。金属電極１５は、グラフェン膜１４と電気的接触を持つように、プラスチックテープ１２の両側面に形成されている。有機ＥＬ層１６は、グラフェン膜１４上の全面に連続的に成膜されており、三原色光のうち設定された一の原色光を発光する。画素陰極電極１７は、有機ＥＬ層１６上に、図１(ａ)に示すように有機ＥＬ層１６の幅よりも狭い幅で、図１(ｂ)に示すようにプラスチックテープ１２の長さ方向に、垂直画素ピッチ１８で断続的に蒸着等によりセグメント状に形成されている。有機ＥＬ層１６は、透明電極であるグラフェン膜１４と画素陰極電極１７との間に供給される表示信号レベルに応じた輝度で発光する。

次に、画素発光部の封止構造及び放熱構造(以下、封止及び放熱構造という)について説明する。図２は、本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の第一の要部である画素発光部の他の要部の一実施形態の概略構成図を示し、(ａ)はテープ幅方向の断面図、(ｂ)はテープ長さ方向の断面図を示す。図２(ａ)、(ｂ)に示す画素発光部の他の要部は、封止及び放熱構造のキャップと陰極電極の端子とからなるフレキシブルな一次元陰極基板を示す。図２(ａ)、(ｂ)において、一次元陰極基板２１は、フレキシブルなプラスチックテープ２２と、そのプラスチックテープ２２の両面に別々に形成された金属膜２３及び２４と、プラスチックテープ２２の両面を貫通するスルーホール２５とよりなる構造である。

プラスチックテープ２２は、プラスチックテープ１２の幅と同一幅で、かつ、長さがプラスチックテープ１２の長さと同じ極めて長い所謂長尺の第２のフレキシブルテープである。金属膜２３及び２４は、スルーホール２５を介して互いに電気的に接続されており、図２(ｂ)に示すようにプラスチックテープ２２の長さ方向に、垂直画素ピッチ２３より短い長さで断続的に形成されており、セグメント状の接続用電極を構成している。スルーホール２５は図２(ａ)に示すように、テープ幅方向の中央部の位置で、かつ、図２(ｂ)に示すようにテープ長さ方向の一垂直画素ピッチ２６内の位置に穿設されている。従って、プラスチックテープ２２全体では、テープ長さ方向に垂直画素ピッチでスルーホール２５が複数穿設されている。なお、プラスチックテープ２２の両面は、それぞれ例えば数ｎｍ以下の面粗さの平滑面に形成されている。また、後述する導電性接着層３３が表面に設けられる平面は平滑面に形成する必要があるが、もう一方の表面は平滑面でなくてもよい。

図３は、一次元陰極基板を用いた封止及び放熱構造の一例の断面図を示す。同図中、図２と同一構成部分には同一符号を付してある。図３に示す封止及び放熱構造は、図２に示した構造の一次元陰極基板２１と、一次元陰極基板２１の平滑面側に形成された電極膜２４の幅方向中央部に電極膜２４の幅(電極幅)よりも狭い幅で形成された導電性接着層３１と、電極膜２４の幅方向両端部に導電性接着層３１と重ならないように形成された絶縁性接着層３２とからなる。

図４は、本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の第一の要部である画素発光部の一実施形態の断面図を示す。同図中、図１〜図３と同一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略する。図４に示す画素発光部４０は、図１に示した線状の一次元陽極基板１１上に形成された画素陰極電極１７の表面に、図３に示した封止及び放熱構造の導電性接着層３１を、例えば真空内加圧により圧着し接合した構造である(以下、この構造を「一次元ＯＬＥＤ」ともいう)。図４において、導電性接着層４１は図３に示した封止及び放熱構造の導電性接着層３１が上記圧着により変形した接着層である。また、図３に示した封止及び放熱構造の絶縁性接着層３２は、上記圧着により一次元陽極基板１１の端部の構造に倣って変形し、図４のシール部４２を構成する。

ここで、図４のスルーホール２５は前述したように、プラスチックテープ２２のテープ幅方向の中央部の位置で、かつ、テープ長さ方向の一垂直画素ピッチ内の位置に穿設されているため、一次元陽極基板１１に垂直画素ピッチで形成された各画素陰極電極１７の位置に対応してスルーホール２５が位置する。従って、図４において、導電性接着層４１により一次元陽極基板１１の各画素陰極電極１７は一次元陰極基板３１の金属膜２３、２４からなる接続用電極に各画素陰極電極１７毎に別々に電気的に接続される。また、これと同時に、画素陰極電極１７及び有機ＥＬ層１６はシール部４２と導電性接着層４１とにより封止される。接合する面は一次元陽極基板１１、一次元陰極基板２１ともに例えば数ｎｍ以下の面精度で仕上げているので、接合部分は原理的には完全密着している。なお、グラフェン膜１４は周知の様に完全にフレキシブルでガスバリヤ性があり、更に良好な伝熱体である。従って、グラフェン膜１４を透明電極として用いることによって、フレキシビリティと放熱性を同時に確保できる。この点は一次元陰極基板も金属膜によるバリヤ性と放熱性によって同様の機能を発揮している。

本実施形態の長尺の線状のフレキシブルな構成の画素発光部４０(一次元ＯＬＥＤ)によれば、平面基板の代わりに透明でフレキシブルなプラスチックテープ１２に透明電極としてグラフェン膜１４が形成された一次元陽極基板１１上に一の原色光を発光する有機ＥＬ層１６を形成する構造を用いるので、前述した第二の問題のうちＲＧＢ画素の塗り分けの問題と第三の問題であるＩＴＯの問題を解決することができる。また、一次元陽極基板１１の側面にグラフェン膜１４と電気的接触をする金属電極１５を設けたことにより、有機ＥＬ発光ダイオードの輝度傾斜が無くなる。また、金属膜２３、２４で被覆した一次元陰極基板２１は、有機ＥＬ層１６をグラフェン膜１４との間にサンドイッチし、封止構造として高い信頼性を確保できる上、放熱板としての役割も果たす。これにより、前述した第四の問題も解決できる。

次に、本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の第二の要部である画素駆動回路部について説明する。
図５は、本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の画素駆動回路部の一実施形態の平面図を示す。同図に示すように、画素駆動回路部５０は、フレキシブルなプラスチックテープ５１の上面に、外部から信号が供給される信号線５２−１〜５２−３と、電流を供給するための電源線５２−４と、画素陰極電極に接続される画素接続用バンプ５３とが形成され、プラスチックテープ５１の下面に、複数の画素駆動回路を集積した集積回路(以下、チップという)５５とゲート線接続用バンプ５４と図示しない配線とが形成されたフレキシブルな構造である。この画素駆動回路部５０の機能を有する構造を本明細書では一次元ＦＰＣ(Flexible Printed Circuits：フレキシブルプリント基板)というものとする。

フレキシブルテープであるプラスチックテープ５１は、表示画面の任意の複数の水平画素ピッチの幅を有する。また、画素駆動回路部５０を構成する一次元ＦＰＣのプラスチックテープ５１の上面には、図５に示すように、信号線５２−１〜５２−３と、電源線５２−４と、複数(図５では９個)の画素接続用バンプ５３と、信号線５６−１〜５６−３とが形成されている。画素接続用バンプ５３は、信号線５６−１を介してチップ５５と接続されている。ゲート線接続用バンプ５４は、ゲート線５７を、プラスチックテープ５１の下面に形成された信号線５６−４を介してチップ５５と接続している。画素接続用バンプ５３と信号線５２−１と電源線５２−４とは、プラスチックテープ５１に穿設されたスルーホール(図示せず)及び下面の信号線５６−４、５６−３を介してチップ５５と接続されている。

画素駆動回路部５０の機能を有する一次元ＦＰＣは、現在実用化されているＦＰＣあるいはＴＡＢ(Tape Automated Board)やＣＯＦ(Chip on FPC)とは幅が狭いことを除き同様の構造であるので、これらで用いられている銅箔テープとパターンの形成技術を利用することができる。信号線や電源線等は上記の構成において膜厚は任意にとることができ、多層化も可能なので、配線抵抗の問題はすべての画面サイズで完全に解決される。画素駆動回路部５０はＳｉ基板を用いた大規模半導体集積回路(ＬＳＩ；Large Scale Integrated Circuit)プロセスで作製されるので、均一、高性能な画素駆動が実現される。これにより、前述した第二の問題のうち画素駆動回路用の配線の問題を解決できる。

図６は、本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の一実施形態の一表示セルを説明する一例の等価回路図を示す。同図において、一表示セルにおける一つの画素駆動回路６０と一つの有機ＥＬ発光ダイオード６１とは分離されており、接続点６２(図５の一つの画素接続用パンパ５３に相当)において信号線６３(図５の信号線５６−１に相当)により接続されている。一表示セルとは一画素を構成する三原色画素のうちの一つの原色画素に相当する。

画素駆動回路６０は、図５のチップ５５内の一つの画素駆動回路で、画素選択用のゲート線５７が信号線５６−２を介してゲートに接続され、信号線５２−１が信号線５６−４を介してドレインに接続されたＭＯＳトランジスタＴｒ１及びＴｒ２と、電源線５２−４に信号線５６−３を介してソース及びゲートが接続されたＭＯＳトランジスタＴｒ３と、ＭＯＳトランジスタＴｒ２のソースにゲートが接続され、ＭＯＳトランジスタＴｒ３のドレインにドレインが接続されたＭＯＳトランジスタＴｒ４と、電源線５２−４とＭＯＳトランジスタＴｒ２及びＴｒ４の接続点との間に接続されたコンデンサＣ１とからなる。ＭＯＳトランジスタＴｒ４のソースが画素発光部４０の一つの画素を構成する有機ＥＬ発光ダイオード６４に接続されている。

画素駆動回路６０の回路構成自体は公知であるので、その詳細な動作説明は省略するが、ゲート線５７に供給される画素選択信号によって画面水平方向の画素列が選択され、同時に信号線５２−１から画面垂直方向の各画素に対して表示信号が供給される。従って、画素選択信号によって選択された画素(表示セル)の画素駆動回路６０に接続された有機ＥＬ発光ダイオード６１には、信号線５２−１を介して供給される表示信号が画素駆動回路６０を通して供給され、有機ＥＬ発光ダイオード６１を表示信号レベルに応じた輝度で発光させる。電流は一定電圧にバイアスされた共通信号線６３を通って流れ出る。なお、図６に示した画素駆動回路６０の構成は一例であり、これ以外の構成も知られているが、本発明とは直接の関係はないので、他の構成の画素駆動回路の説明は省略する。

次に、本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の構造について説明する。
図７は、本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置の一実施形態の画面構成単位の断面図を示す。同図中、図１〜図６と同一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略する。本発明の一実施形態の有機ＥＬ表示装置７０は、図７に示すように、その一画素が、赤色光を発光するＲ画素部７１Ｒ、緑色光を発光するＧ画素部７１Ｇ、及び青色光を発光するＢ画素部７１Ｂからなり、これらは前述したように各々フレキシブルな構造の画素発光部４０と画素駆動回路部５０とが積層された階層構造(一次元表示ユニット)であるため、全体としてもフレキシブルな構造である。

図７において、Ｒ画素部７１Ｒは符号Ｒの下方の断面部分、Ｇ画素部７１Ｇは符号Ｇの下方の断面部分、Ｂ画素部７１Ｂは符号Ｂの下方の断面部分である。Ｒ画素部７１Ｒ、Ｇ画素部７１Ｇ及びＢ画素部７１Ｂは、画素発光部４０が互いに独立して個別に設けられ、他方、画素駆動回路部５０が共通に設けられている。図７では、一例としてＲＧＢ各々の画素発光部４０が一組のＲＧＢ用一次元ＦＰＣと一体化された構造を示している。なお、Ｒ画素部７１Ｒ、Ｇ画素部７１Ｇ及びＢ画素部７１Ｂは、図７の紙面の垂直方向である一次元陽極基板１１及び一次元陰極基板２１の長手方向に対して垂直画素ピッチで断続的に形成されている。

Ｒ画素部７１Ｒ、Ｇ画素部７１Ｇ及びＢ画素部７１Ｂの各画素発光部４０は、それぞれ図４に示した断面構造であるが、各有機ＥＬ層１６がそれぞれ赤色光、緑色光、及び青色光を発光する点で異なる。また、Ｒ画素部７１Ｒ、Ｇ画素部７１Ｇ及びＢ画素部７１Ｂに対して共通に用いられる画素駆動回路部５０は、図５の平面図に示した一次元ＦＰＣの構造であり、互いに独立して画素接続用バンプ５３を介してＲ画素部７１Ｒ、Ｇ画素部７１Ｇ及びＢ画素部７１Ｂの各画素発光部４０に表示信号を供給し、互いに独立して駆動する。なお、画素発光部４０のプラスチックテープ２２と画素駆動回路部５０のプラスチックテープ５１とは、バンプ接続と同時にフレキシブルな接着層(アンダーフィル)７２が充填されて接着されている。

このように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、表示パネルを垂直画素列の画素発光部(一次元ＯＬＥＤ)４０と、画素駆動回路部(一次元ＦＰＣ)５０とに分離し、これらを別々に形成した後、両者を積層して電気的に接続した状態で、図７の断面図に示すように接合した階層構造(一次元表示ユニット)を画面構成の単位とする。図７の断面図に示す本実施形態の有機ＥＬ表示装置７０は、図７の水平方向ではＲ画素部７１Ｒ、Ｇ画素部７１Ｇ及びＢ画素部７１Ｂの３原色の各原色画素部からなる一画素を構成し、垂直方向(図７の紙面の垂直方向)では表示画面の合計の垂直画素数よりも大幅に多い画素数の長尺の構成である。垂直方向には同じ原色の原色画素部が整列している。

次に、図１に示した画素発光部の主要部を構成する一次元陰極基板１１上に有機ＥＬ層１６を形成する方法、及び画素陰極電極１７を形成する方法について説明する。図８は、有機ＥＬ層１６の塗布方法の一例の説明図を示す。図８において、図１に示した断面構造の一次元陽極基板１１が、一定速度で回転するローラ８１によって一定方向に送られる。一方、ディスペンサー等の液送装置８２により有機ＥＬ層用の塗布液８３がダイヘッド８４に液送される。これにより、ダイヘッド８４により一次元陽極基板１１のグラフェン膜１４上に、ダイコーティングと称される塗布方法によって塗布液８３による有機ＥＬ層が連続的に成膜される。

図９は、画素陰極電極の形成方法の一例の説明図を示す。図９(ａ)は、金属電極のマスク蒸着方法の一例を示しており、一次元陽極基板(図１の１１)のグラフェン膜(図１の１４)上に有機ＥＬ層(図１の１６)が連続的に成膜された構造のテープ状基板９０がテープ繰り出し部(図示せず)から繰り出されて、ロール９４−１に案内されてロール９３の側面上を走行し、更にロール９４−２に案内されて巻き取り部(図示せず)に巻き取られる。一方、エンドレスのＳＵＳ蒸着のマスク９１は、ロール９５−１及び９５−２によりロール９３の側面上のテープ状基板９０に近接対向した位置に案内される。この状態で蒸発源９２から蒸発された金属(例えばＡｌ)の蒸発粒子がＳＵＳ蒸着マスク９１を通してテープ状基板９０の有機ＥＬ層にＳＵＳ蒸着マスク９１のマスクパターンを転写するように蒸着して金属膜を成膜する。

このマスクパターンは垂直画素ピッチで、かつ、一画素面積に相当する大きさの金属膜を成膜するように作成されているため、上記の金属膜として画素陰極電極１７が有機ＥＬ層上に垂直画素ピッチで断続的に形成される。なお、ロール９５−１、９５−２、９６−１、９６−２、９６−３はＳＵＳ蒸着マスク９１の回転及びテンション機構である。図９(ｂ)は、多数本のテープ状基板９０に対してマスク蒸着する場合の、テープ状基板９０とＳＵＳ蒸着マスク９１との位置関係を示す。

ところで、一般に画像表示装置では、画面垂直方向及び画面水平方向の遮光された複数の画素からの画素信号を黒階調の基準信号として用いて高品質の画像表示を行うために、所定幅の光学的遮光領域であるブラックマトリックス(ＢＭ)を画面垂直方向及び画面水平方向の各所定位置にそれぞれ設けることは周知の通りである。そこで、画面垂直方向の画素列における画素発光部４０と画素駆動回路部５０とを積層接合した階層構造(すなわち、一次元表示ユニット)を画面水平方向に複数配列して全画面を構成する本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置においてもＢＭを設けるために、本発明に係るフレキシブル有機ＥＬ表示装置に用いるテープ状構造体は、上記のＢＭとして黒色の絶縁プラスチックファイバーを縦糸、横糸として格子状に配列し、更にこの配列に加えて一次元表示ユニットの連続のテープを縦糸とする織物構造を一単位として連続した長尺の「反物」とみなせる構造とする。

このことについて図１０と共に更に説明する。図１０(ａ)は、ＢＭ用黒色絶縁プラスチックファイバーの縦糸と横糸の一次元表示ユニットの発光部に対する一実施形態の配置を示し、図１０(ｂ)は、ＢＭ用黒色絶縁プラスチックファイバーの縦糸と横糸及び一次元表示ユニットの発光部からなる構造の一実施形態の断面図を示す。

図１０(ａ)において、画面垂直方向に延在するＲ表示面１００、Ｇ表示面１０１及びＢ表示面１０２は、画面水平方向に周期的に設けられた一次元表示ユニットである。すなわち、Ｒ表示面１００、Ｇ表示面１０１及びＢ表示面１０２は、図１０(ｂ)の断面図に示すようにＲ画素発光部１０９Ｒ、Ｇ画素発光部１０９Ｇ及びＢ画素発光部１０９Ｂと、一水平画素分の画素駆動回路部１０５との積層構造である。Ｒ画素発光部１０９Ｒ、Ｇ画素発光部１０９Ｇ及びＢ画素発光部１０９Ｂは、それぞれ図７に示した有機ＥＬ表示装置７０の断面図における画素発光部４０におけるＲ画素部７１Ｒの部分、Ｇ画素部７１Ｇの部分、Ｂ画素部７１Ｂの部分を示す。また、一水平画素分の画素駆動回路部１０５は、図７に示した有機ＥＬ表示装置７０の断面図における画面水平方向に隣接する３つの原色画素部に共通の画素駆動回路部５０を示す。ただし、この一水平画素分の画素駆動回路部１０５は、画面垂直方向(図１０(ｂ)の紙面の垂直方向)では表示画面の合計の垂直画素数よりも大幅に多い複数画面分連続に連なった垂直画素列の各画素に共通の構成である。

また、図１０(ａ)において、織物の縦糸１０３とみなせる画面垂直方向に延在するＢＭ用黒色絶縁プラスチックファイバーは、Ｒ表示面１００、Ｇ表示面１０１及びＢ表示面１０２の画面水平方向に隣接する画素の間の間隙内に配置され、織物の横糸１０４とみなせる画面水平方向に延在するＢＭ用黒色絶縁プラスチックファイバーは、垂直画素ピッチでＲ表示面１００、Ｇ表示面１０１及びＢ表示面１０２の一部の上に配置されている。これにより、画面水平方向に隣接する一つのＲ表示面１００と一つのＧ表示面１０１と一つのＢ表示面１０２とからなるＲＧＢ一組の一次元表示ユニットと、隣接する２本の横糸１０４とで囲まれた領域が一画素１０８を構成する。この領域には隣接する３本の縦糸１０３が含まれる。

すなわち、本実施形態のテープ状構造体は、図１０(ａ)に示すように、Ｒ表示面１００、Ｇ表示面１０１及びＢ表示面１０２が画面水平方向に周期的に設けられた一次元表示ユニットの連続するテープを縦糸とし、かつ、画面垂直方向に延在するＢＭ用黒色絶縁プラスチックファイバーを縦糸１０３とし、また画面水平方向に延在するＢＭ用黒色絶縁プラスチックファイバーを横糸１０４とした織物構造とみなすことができる。また、この織物構造は、表示装置の画面垂直画素数(ライン数)よりも大幅に長い任意の長さの中に上記一画素１０８が多数画面垂直方向に配列され、かつ、表示装置の画面水平画素ピッチで所定数の画素１０８が画面水平方向に配列された幅の長尺の「反物」とみなすことができる。

また、このテープ状構造体は、図１０(ｂ)の概略断面図に示すように、ＢＭのみの画素ピッチの平織りと、一水平画素分の画素駆動回路部１０５及びＢＭとする横糸１０４の平織りとを二重に重ねた構造である。図１０(ｂ)では、更にフレキシブルパッシベーションフィルム１０６、１０７で両面にラミネートした構造を示している。

次に、一次元表示ユニットの外部回路への接続方法について説明する。図１１は、一次元表示ユニットの外部回路への接続方式の一例を示す。同図中、図５及び図７と同一構成部分には同一符号を付してある。図１１において、一次元表示ユニット１１０は、図７の断面図に示したような画面垂直方向の画素列における画素発光部と画素駆動回路部とを積層接合した階層構造であり、画面水平方向に複数(図１１ではそのうちの３つのみ図示)配列して全画面を構成している。この一次元表示ユニット１１０は、上記織物構造から切り取った一表示パネル分の一次元表示ユニットと縦糸１０３及び横糸１０４のＢＭ用黒色絶縁プラスチックファイバーからなる画面構成部であり、この画面構成部にＦＰＣ１１１、共通電極ＦＰＣ１１２及びＦＰＣ１１３からなる周辺回路部と端子接続等される。

すなわち、上記画面構成部の一次元表示ユニット１１０は、画面垂直方向では表示信号ドライバと電源(図示せず)とを搭載したＦＰＣ１１１と共通電極ＦＰＣ１１２とそれぞれ端子部で接続され、画面水平方向ではライン選択用ゲート線５７が画素駆動回路部のチップ５５と配線を介して接続されるとともに、その端子部はゲートドライバ(図示せず)を搭載したＦＰＣ１１３と接続されている。図１０(ｂ)に示したフレキシブルなパッシベーションフィルム１０６、１０７は、図１１に示した接続が終わった段階でラミネートされる。

このように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置では、垂直画素列の画素発光部(一次元ＯＬＥＤ)と、画素駆動回路部(一次元ＦＰＣ)とを積層して電気的に接続した状態で接合した階層構造(一次元表示ユニット)を画面構成の単位とするようにしたため、表示装置の画素発光部はほぼ画素サイズの高い開口率を保持でき、一方画素駆動回路部はＳiチップによる高性能の画素駆動回路を使用することができ、かつ、配線の低抵抗化が容易となり、小型画面サイズから数１００インチ対角といった超大型画面サイズに至るまで、高精細、高画質のＯＬＥＤを実現することができる。

例えば、ｑｕａｄ-４ｋの１６：９アスペクトの２０型(やや幅の狭いＡ３サイズ)では、水平画素ピッチは２０μｍ(４２３ｐｐｉ)、１０型(〜Ａ４)では１０μｍ(８５０ｐｐｉ)である。現行有機ＥＬ技術では、このような水平画素ピッチでは高性能な画素駆動回路は面積的に搭載できない。これに対し、本実施形態では、画素駆動回路部と画素発光部とが分離され、ＳｉＬＳＩ技術による高性能の画素駆動回路と原理的には１００％の画素開口率であり、高解像で優れた表示性能を実現することができる。また、有機ＥＬ層１６は一次元陽極基板１１に積層された透明バリヤ層とグラフェン膜１４及び一次元陰極基板２１の金属膜２３、２４によってサンドイッチされ、ガスバリヤ及び耐湿と同時にグラフェン膜１４及び金属膜２３、２４が有機ＥＬ層１６の放熱構造を形成している。更に、金属膜２３、２４は金属バンプを介してヒートシンクでもある低抵抗の銅配線に接続されているので、有機ＥＬ層１６の劣化を防止し、高い信頼性を保障できる。

製造技術の面では、本実施形態は一次元ＯＬＥＤと一次元ＦＰＣという２枚の一次元基板を積層して接合する構成としたため、製造装置は従来に比べて大幅に小型化され、高いスループットにより製品コストの大幅な低減が実現される。製造装置の小型化は省エネのみならず、生産機と実験機との間に差がなくなり、技術革新をスピードアップさせることができる。
また、赤(Ｒ)、緑(Ｇ)及び青(Ｂ)の三原色の各原色画素部は、各々独立した一次元陽極基板１１上に別々に形成されるので、低分子系材料を使用したときのマスク蒸着は不要であり、高分子系材料を使用したときは高速の塗布を行うことができるため、色の塗り分けという製造上の問題を解決でき、高生産性を実現することができる。

また、本実施形態では、表示装置の精細度は一次元ＯＬＥＤを構成するフレキシブルテープ(プラスチックテープ１２及び２２)の幅だけで決まり、画面の大型化はフレキシブルテープの幅と長さに応じて決めることができるので、同一の製造装置で任意の精細度と画面サイズの有機ＥＬ表示装置を製作することができる。同一の製造装置によりすべての画面サイズの有機ＥＬ表示装置を製作できるというのは特に重要な効果であり、例えば、一般家庭用のＨＤ-ＴＶ５２型の「基板」幅は０.２ｍｍであるが、２６０型、５２０型といった超大型ディスプレイでも基板幅は高々１ｍｍあるいは２ｍｍ程度のサイズであり、単なる治具の交換レベルで済む。

次に、本発明の実施例１について説明する。本実施例は、６０型ＨＤ−ＴＶ用ＯＬＥＤの製作例である。このＯＬＥＤの表示画面の一水平画素ピッチは０.２３ｍｍである。本実施例では、一次元陽極基板１１の幅がこの一水平画素ピッチよりやや短い０.２ｍｍとする。

まず、厚さ２０μｍ、幅６００ｍｍで両面が平滑面とされたロール状ＣＯＰ(シクロオレフィンポリマー)フィルムの片面に同じ幅の２層のグラフェン膜をロール・ツウ・ロールで接着した後、これを一水平画素ピッチの０.２３ｍｍよりやや短い０.２ｍｍ幅でスリッティングする。続いて、スリッティング後のＣＯＰフィルムの厚さ２０μｍの両側面に公知の文献(「シクロオレフィンポリマーへの平滑回路形成」、エレクトロニクス実装学会誌、Vol.10,No.3る229-233(2007))に記述されたメッキ方法により厚さ１μｍの銅膜を形成する。垂直画素列の長さは７５ｃｍであり、透明電極としてのグラフェン膜の抵抗値は１００Ω/□であるが、銅膜部分の抵抗値は７００Ωで、ファイバー両端で実質零抵抗の共通電極に接続されるので、陽極の最大抵抗値差は３５０Ωであり十分な表示性能を保障する。

赤(Ｒ)、緑(Ｇ)、青(Ｂ)の三原色の発光膜の構成は、何れも正孔輸送層―発光層―電子輸送層の三層構造で、そのうち正孔輸送層及び電子輸送層はいずれの発光色でも共通である。正孔輸送層は、PEDOT-PSSまたはPVK(poly(N-vinylcarbazole))マトリックスにTPD(N,N7-diphenyl-N,N'-bis(3 methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine)をドープしたものである。電子輸送層は、PBD(2-(4-biphenyl)-5-(4-tert-butylphenyl)1,3,4-oxadiazole)をPMMA(poly(methyl methacrylate))にドープしたものである。発光層のマトリックス材はPVKを用い、RはIr(piq)(iridium bis(1-phenylisoquinoline)(acetylacetonato))、GはIr(mppy)₃(iridium tris(2-(4-tolyl)pyridinato-N,C^2’))、BはFIpic(iridium bis(2-(4,6-difluorophenyl)-pyridinato-N,C^2’) picolinate)を各々ドープしたものである。

これらの有機ＥＬ材は図８に原理を示したダイコーターで塗布される。発光部の一次元基板にPEDOT-PSSを塗布し、発光層、電子輸送層の順で各膜の乾燥後塗布する。コーターは個別にギャップ制御を行う１００連のマルチヘッドダイであり、塗布速度は１８０ｍ/分である。塗布後図８とともに説明した原理のマスク蒸着機で１００本のファイバーを同時にＬｉＦ及びＡｌを、１８０ｍ/分の成膜速度で成膜した。

一方、一次元陰極基板用のプラスチックテープとして、上記一次元陽極基板１１と同じ厚み２０μｍの幅１０００ｍｍで、両面が平滑面とされ、更に０.２３×０.６９ｍｍの間隔でスルーホールが複数穿設されたロール状ＣＯＰフィルムをスリッティングする。そして、スリッティング後のＣＯＰフィルムの両面に、図９で説明した原理と同様にエンドレスマスクを使ったスパッタによって銅膜を成膜した後、回路部との接続用電極を形成した。

一次元陽極基板と一次元陰極基板は、図１２に示す方法で接合される。すなわち、図１２において、前述したロール状ＣＯＰフィルムの平滑面にグラフェン膜１４が透明電極として形成された一次元陽極基板１１と、有機ＥＬ層１６と、画素陰極電極１７の順で積層された図１(ａ)、(ｂ)に示した構造の長尺の陽極基板側構造体１２０は、繰り出し機から繰り出されてマイクロプラズマ洗浄機１２２で洗浄された後、差動排気系１２３ａを通って真空接合機１２４に導入される。

一方、図２(ａ)、(ｂ)に示した構造で前述したロール状ＣＯＰフィルムに形成された長尺の一次元陰極基板１２１は、繰り出し機から繰り出され、接着層形成部１２５により図３に示したように平滑面側の幅中央部に導電性接着層が形成されるとともに幅両端部に絶縁性接着層が形成された後、差動排気系１２３ｂを通って真空接合機１２４に導入される。真空接合機１２４は、真空室内にて導入された２つの構造体の位置合わせをした後、ローラ１２６ａ、１２６ｂで模式的に示した圧着部により圧着接合し、図４の断面図に示したような封止及び放熱構造を有する一次元ＯＬＥＤを製造する。その後、真空接合機１２４から室外に取り出された一次元ＯＬＥＤ１２７は、差動排気系１２３ｃを通って巻取機１２８に巻き取られる。

また、一次元ＦＰＣである画素駆動回路部５０のプラスチックテープ５１としては既存のＦＰＣを用いた。本実施例では、厚さ２５μｍのカプトンテープの両面に１８μｍの膜厚の銅箔がラミネートされた材料を用いた。本実施例では、厚さ２５μｍのカプトンテープの両面に１８μｍの膜厚の銅箔がラミネートされた材料を用いた(以下、これを「回路テープ」という)。回路テープの幅を２.０４ｍｍとし、三組のＲＧＢ、すなわち９本の一次元ＯＬＥＤのテープ用の回路部とする。回路テープの片面に配線と画素発光部の画素と接続する金バンプ(図５及び図７の画素接続用バンプ５３に相当)を形成する。配線は信号線(図５の信号線５２−１〜５２−３に相当)を３組９本と、電源線(図５の電源線５２−４に相当)を３組３本で、いずれも１００μｍ幅で、プラスチックテープ５１(回路テープ)の長手方向に沿う縁から２５μｍの位置から１７０μｍの間隔で１本の電源線と３本の信号線とを一組として計３組配列する。各配線の抵抗値は約７Ωである。配線間の７０μｍ幅の中に幅４０μｍ、長さ１００μｍの電極を０.６９ｍｍの間隔で長手方向に１０８０個を一組として９ライン分の計９７２０個を形成し、ここにスルーホールと金バンプを形成する。

また、回路テープの他方の面に形成される画素駆動用回路のＳｉチップ(図５及び図７のチップ５５に相当)は、０.３ｍｍ□厚さ０.１ｍｍで、３６個の原色画素部の画素駆動回路を集積したものである。また、その端子バンプの大きさは２０μｍφ、バンプ間ピッチは４０μｍで、一チップ当たり５０個のバンプである。

図１３は、上述したチップと画素及び回路テープの相対的大きさとチップの位置の一例を模式的に示す。同図に示すように、前述した一次元ＦＰＣの一部を構成するプラスチックテープ５１に相当する回路テープ１３１の幅は、表示装置の各一つのＲ画素部、Ｇ画素部及びＢ画素部を一組とする画素が画面水平方向に３画素配列される水平画素ピッチに相当する幅に設定されている。例えば、６０インチフルＨＤの有機ＥＬ表示装置に用いる場合、垂直画素数１０８０画素、水平画素数１９２０画素であるので、画面水平方向に５７６０(＝１９２０×３)の原色画素部が配列される。一つの原色画素部の水平幅を０.２ｍｍとし、これを水平方向にドットピッチ０.２３ｍｍで配列するものとすると、回路テープ１３１の幅は、９個の原色画素部がドットピッチ０.２３ｍｍで配置された幅である２.０４ｍｍ(＝０.２３ｍｍ×８＋０.２ｍｍ)となる。この回路テープ１３１はテープ間に水平方向の間隙３０μｍを設けて、計６４０(＝５７６０／９)枚、水平方向に並べて配置される。

一方、前述したように、一次元ＦＰＣの一部を構成するプラスチックテープ５１は表示装置の画面垂直方向の全画素の総画素ピッチよりも大幅に長い長さであり、これを垂直画素数１０８０画素の総画素ピッチに相当する長さよりも若干長い長さに裁断して回路テープ１３１とする。また、回路テープ１３１には、図１３に示すように、４行９列の計３６個の原色画素部１３２の画素駆動回路が集積されたチップ(図５及び図７のチップ５５に相当)１３３が３６個の原色画素部１３２の配置領域の中心に配置される。従って、回路テープ１３１上には１垂直画素列分として２７０(＝１０８０／４)個のチップ１３３が実装される。チップ１３３は電源線、信号線及び画素接続用バンプと反対の面にフリップチップ実装される。チップ１３３から電源線、信号線及びバンプへの配線は図４と共に説明した通りである。すなわち、チップ１３３は、チップ１３３と同じ面にある配線により、スルーホールを介してチップ１３３と反対面にある電源線、信号線及び画素接続用バンプに電気的に接続される。なお、一例として、同じ画面垂直列では原色画素部は同じ原色の画素部が整列されるようにされる。

一次元ＯＬＥＤの形成と同様に、一次元ＯＬＥＤと一次元ＦＰＣは図１２に示される方法で接続される。すなわち、図１２において、陽極基板側構造体１２０の代わりに一次元ＯＬＥＤを用い、一次元陰極基板１２１の代わりに一次元ＦＰＣを用いることで、真空接合機１２４内のローラ１２６ａ及び１２６ｂにより圧着接合された一次元ＯＬＥＤと一次元ＦＰＣとの階層構造の一次元表示ユニット(テープ状構造体)が真空接合機１２４から取り出されて巻取機１２８に巻き取られる。巻き取られた一次元表示ユニット内のＲＧＢ各画素ラインの間隙は３０μｍである。

また、本実施例では、４０μｍφの黒色絶縁プラスチックファイバーをＢＭ用の縦糸並びに横糸として用いた。前述したように、本実施形態のテープ状構造体は、図１０(ｂ)の断面図に示したように、ＢＭのみの画素ピッチの平織りと、ＲＧＢ一組の画素からなる一次元表示ユニット及びＢＭの横糸の平織りとを二重に重ねた織物構造であり、本実施例ではこれを織機によって作製した。この織物は、一次元表示ユニットにおける６４０本の回路テープ１３１が「縦糸」として、２.０７ｍｍのピッチで画面水平方向に配列する様に織られており、全体の水平画面幅は１３２４.８ｍｍである。この幅での長尺の「反物」、すなわち表示画面のアレーを連続的に作製した。

そして、この「反物」から表示画面の垂直高さ(画面垂直方向の総画素ピッチ)７４５.２ｍｍと両端の端子部約１５ｍｍを加えた７６０ｍｍの長さで切断した後、外部駆動回路、制御回路等が実装されたＦＰＣ、ゲート線等を図１１に示した様に接続し、更にその一次元表示ユニットの両面に保護フィルムをラミネートして本実施例の有機ＥＬ表示装置を完成した。

本発明では、超薄型でフレキシブルな数十型という小型な画面サイズから数百型という超大型の画面サイズまでフレキシブル有機ＥＬ表示装置を容易に製造することができるので、本格的な大型壁掛けＴＶという本来のディスプレイ用途に加えて、インテリアとしてのディスプレイ、壁等建造物との一体化、照明とディスプレイとの融合等居住空間の「アクティブ」要素といった新しい概念の創造が可能となる。また、本発明では、原理的には１００％の画素開口率が得られるので、高解像において優れた表示性能を実現でき、その解像度は印刷、写真の解像度を遥かに超え、自然をそのまま再現できる驚異的な電子ペーパーを実現することができる。

１１一次元陽極基板
１２、２２、５１プラスチックテープ
１３接着層
１４グラフェン膜
１５金属電極
１６有機ＥＬ層
１７画素陰極電極
２１、１２１一次元陰極基板
２３、２４金属膜
２５スルーホール
３１、４１導電性接着層
３２絶縁性接着層
４０画素発光部(一次元ＯＬＥＤ)
４２シール部
５０画素駆動回路部(一次元ＦＰＣ)
５２−１〜５２−３、５６−１〜５６−４信号線
５２−４電源線
５３画素接続用バンプ
５４ゲート線接続用バンプ
５５、１３３複数の画素駆動回路の集積回路(チップ)
７０有機ＥＬ発光ダイオード(一次元表示ユニット)
７１ＲＲ画素部
７１ＧＧ画素部
７１ＢＢ画素部
９０テープ状基板
９１ＳＵＳ蒸着マスク
９２蒸発源
９３ロール
１００Ｒ表示面
１０１Ｇ表示面
１０２Ｂ表示面
１０３縦糸
１０４横糸
１０５一水平画素分の画素駆動回路部
１０６、１０７フレキシブルパッシベーションフィルム
１０８一画素
１０９ＲＲ画素発光部
１０９ＧＧ画素発光部
１０９ＢＢ画素発光部
１１０一次元表示ユニット
１１１、１１３ＦＰＣ
１１２共通電極ＦＰＣ
１２０陽極基板側構造体
１２４真空接合機
１２７一次元ＯＬＥＤ
１３１回路テープ
１３２原色画素部

Claims

画素発光部と、
一方の面に信号線と電源線と画素接続用バンプとが少なくとも形成され、他方の面に複数の画素の画素駆動回路を集積した集積回路と画素選択用ゲート線接続用バンプとが少なくとも形成され、かつ、前記画素接続用バンプ及び前記信号線と前記集積回路とをそれぞれ接続する配線と、表示画面の垂直方向の各画素の端子部とが形成された、前記表示画面の複数の水平画素ピッチ以下の幅で、かつ、前記表示画面の垂直方向の全画素数の総垂直画素ピッチより長い長尺のフレキシブルなプラスチックテープによる画素駆動回路部と、
を有し、
前記画素発光部は、
前記表示画面の一水平画素ピッチ以下の幅で、かつ、前記表示画面の垂直方向の全画素数の総垂直画素ピッチより長い長尺で表面に透明バリヤ層が積層された透明な第１のフレキシブルテープの表面に透明電極として形成されたフレキシブルなグラフェン膜と、前記第１のフレキシブルテープの両側面に前記グラフェン膜と電気的に接続されるように形成された金属電極とからなるフレキシブルな一次元陽極基板と、
前記グラフェン膜の上面に連続的に成膜された、三原色のうちの一色の単色光を発光する有機ＥＬ層と、
前記有機ＥＬ層上に前記有機ＥＬ層よりも狭い幅で、かつ、前記表示画面の一垂直画素ピッチで前記第１のフレキシブルテープの長手方向に複数形成された画素陰極電極と、
前記第１のフレキシブルテープと同一幅で同一長さの長尺な第２のフレキシブルテープの両面に、かつ、テープ長手方向に前記画素陰極電極と同一ピッチでそれぞれ複数形成されたセグメント状の第１及び第２の金属膜が、前記表示画面の一垂直画素ピッチで前記第２のフレキシブルテープに穿設されたスルーホールを介して導通されたフレキシブルな基板構造の一次元陰極基板と、
前記一次元陰極基板の幅方向の中央部に形成された導電性接着層と、前記一次元陰極基板の幅方向の両端部に形成された絶縁層接着層とを介して前記一次元陽極基板上の前記画素陰極電極を接合し、前記導電性接着層を介して前記画素陰極電極と前記第１及び第２の金属膜とを電気的に接続するとともに、前記有機ＥＬ層を封止し放熱する封止及び放熱構造と、
を備え、
前記画素発光部の前記第１及び第２の金属膜と前記画素駆動回路部の前記画素接続用バンプとを電気的に接続した状態で、前記画素発光部と前記画素駆動回路部とを積層して接合した階層構造を一単位として、前記表示画面の画面水平方向に複数単位配列して全画面を構成したことを特徴とするフレキシブル有機ＥＬ表示装置。
前記封止及び放熱構造は、前記一次元陰極基板の前記導電性接着層及び前記絶縁性接着層と、前記一次元陽極基板上に前記有機ＥＬ層を介して積層された前記画素陰極電極とを対向させて真空内加圧により接合し、前記導電接着層を介して前記画素陰極電極と前記第１及び第２の金属膜とを電気的に接続するとともに、前記絶縁層接着層、前記一次元陰極基板の前記第１及び第２の金属膜及び前記一次元陽極基板の前記透明バリヤ層により前記有機ＥＬ層を封止する構造と、同時に前記有機ＥＬ層を前記第１及び第２の金属膜と前記グラフェン膜とでサンドイッチした放熱構造であることを特徴とする請求項１記載のフレキシブル有機ＥＬ表示装置。
前記画素発光部の前記第１及び第２の金属膜と前記画素駆動回路部の前記画素接続用バンプとを電気的に接続した状態で、前記画素発光部と前記画素駆動回路部とを積層して接合した階層構造を一単位として、表示画面の画面水平方向に複数単位配列し、かつ、垂直画素列が複数の表示画面分連続に連なった構造である一次元表示ユニットを縦糸とするとともに、前記一次元表示ユニットの画面水平方向の画素間の各間隙内に配置される画面垂直方向に延在するブラックマトリックス用の第１の黒色絶縁プラスチックファイバーを縦糸とし、かつ、前記一次元表示ユニットの各画素の一部に画面垂直方向の画素ピッチで配置される画面水平方向に延在するブラックマトリックス用の第２の黒色絶縁プラスチックファイバーを横糸とする織物構造とみなす構成としたことを特徴とする請求項１又は２記載のフレキシブル有機ＥＬ表示装置。
前記画素発光部は、前記有機ＥＬ層が赤色光を発光する赤色画素発光部と、前記有機ＥＬ層が緑色光を発光する緑色画素発光部と、前記有機ＥＬ層が青色光を発光する青色画素発光部の各原色画素発光部単位で別々に形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一項記載のフレキシブル有機ＥＬ表示装置。
前記織物構造から切り取った所望の一表示パネル分の前記一次元表示ユニット及び前記第１及び第２の黒色絶縁プラスチックファイバーからなる画面構成部と、
前記画面構成部の端子部と接続される、少なくともゲートドライバ、表示信号ドライバ及び電源を搭載したフレキシブル基板による周辺回路部と、
前記画面構成部及び前記周辺回路部の構造の両面全面にラミネートされたフレキシブルなパッシベーションフィルムと、
を備えることを特徴とする請求項３記載のフレキシブル有機ＥＬ表示装置。
表示画面の一水平画素ピッチ以下の幅で、かつ、前記表示画面の垂直方向の全画素数の総垂直画素ピッチより長い長尺で表面に透明バリヤ層が積層された透明な第１のフレキシブルテープの前記透明バリヤ層上に透明電極として形成されたフレキシブルなグラフェン膜と、前記第１のフレキシブルテープの両側面に前記グラフェン膜と電気的に接続されるように形成された金属電極とからなるフレキシブルで長尺な一次元陽極基板を製造する第１の工程と、
前記グラフェン膜の上面に三原色のうちの一色の単色光を発光する有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層上に前記有機ＥＬ層よりも狭い幅で、かつ、前記表示画面の一垂直画素ピッチで前記第１のフレキシブルテープの長手方向に複数形成された画素陰極電極とを順次に形成する第２の工程と、
前記第１のフレキシブルテープと同一幅で同一長さの長尺な第２のフレキシブルテープの両面に、かつ、テープ長手方向に前記画素陰極電極と同一ピッチでそれぞれ複数形成されたセグメント状の第１及び第２の金属膜が、前記表示画面の一垂直画素ピッチで前記第２のフレキシブルテープに穿設されたスルーホールで導通したフレキシブルで長尺な基板構造の一次元陰極基板を製造する第３の工程と、
前記一次元陰極基板の幅方向の中央部に形成された導電性接着層と、前記一次元陰極基板の幅方向の両端部に形成された絶縁層接着層とを介して前記一次元陽極基板上の前記画素陰極電極を接合し、前記導電性接着層を介して前記画素陰極電極と前記第１及び第２の金属膜とを電気的に接続するとともに、前記有機ＥＬ層を封止し放熱する封止及び放熱する封止及び放熱構造を形成する第４の工程とによりフレキシブルな画素発光部を製造し、
一方の面に信号線と電源線と画素接続用バンプとが少なくとも形成され、他方の面に複数の画素の画素駆動回路を集積した集積回路と画素選択用ゲート線接続用バンプとが少なくとも形成され、かつ、前記画素接続用バンプ及び前記信号線と前記集積回路とをそれぞれ接続する配線と、表示画面の垂直方向の各画素の端子部とが形成された、前記表示画面の複数の水平画素ピッチ以下の幅で、かつ、前記表示画面の垂直方向の全画素数の総垂直画素ピッチより長い長尺のフレキシブルなプラスチックテープによる画素駆動回路部を製造する第５の工程と、
前記画素発光部の前記第１及び第２の金属膜と前記画素駆動回路部の前記画素接続用バンプとを電気的に接続した状態で、前記画素発光部と前記画素駆動回路部とを積層して接合した階層構造を一単位として、前記表示画面の画面水平方向に複数単位配列して全画面を構成する第６の工程と、
を含むことを特徴とするフレキシブル有機ＥＬ表示装置の製造方法。
前記第６の工程は、
前記画素発光部と前記画素駆動回路部とを積層して接合した階層構造を一単位として、表示画面の画面水平画素数に対応した複数単位配列するとともに、前記階層構造を前記表示画面の画面垂直画素数に対応した長さ毎に切断して表示パネルを作製することを特徴とする請求項６記載のフレキシブル有機ＥＬ表示装置の製造方法。
前記画素発光部の前記第１及び第２の金属膜と前記画素駆動回路部の前記画素接続用バンプとを電気的に接続した状態で、前記画素発光部と前記画素駆動回路部とを積層して接合した階層構造を一単位として、表示画面の画面水平方向に複数単位配列し、かつ、垂直画素列が複数の表示画面分連続に連なった構造である一次元表示ユニットを縦糸とするとともに、前記一次元表示ユニットの画面水平方向の画素間の各間隙内に配置される画面垂直方向に延在するブラックマトリックス用の第１の黒色絶縁プラスチックファイバーを縦糸とし、かつ、前記一次元表示ユニットの各画素の一部に画面垂直方向の画素ピッチで配置される画面水平方向に延在するブラックマトリックス用の第２の黒色絶縁プラスチックファイバーを横糸とする織物構造を作成する織物工程を更に含み、
前記第６の工程は、前記一次元表示ユニット及び前記第１及び第２の黒色絶縁プラスチックファイバーからなる前記織物構造を切り取って前記表示画面の全画面を構成することを特徴とする請求項６又は７記載のフレキシブル有機ＥＬ表示装置の製造方法。
前記織物構造から切り取った所望の一表示パネル分の前記一次元表示ユニット及び前記第１及び第２の黒色絶縁プラスチックファイバーからなる画面構成部の端子部に、少なくともゲートドライバ、表示信号ドライバ及び電源を搭載したフレキシブル基板による周辺回路部を接続した後、前記画面構成部及び前記周辺回路部の構造の両面全面にフレキシブルなパッシベーションフィルムをラミネートすることを特徴とする請求項８記載のフレキシブル有機ＥＬ表示装置の製造方法。