JP2014534526A - 偏光抵抗性タッチスクリーン - Google Patents

Abstract

タッチスクリーン構造は、偏光フィルムまたは検光子から構成されるセル抵抗膜方式タッチセンサーを有することができる。偏光フィルムは少なくとも一つのマスター版によって印刷することによって第一高精細グリッドパターンを有し、第二高精細パターンを保持する第二柔軟な光学的に等方性の透明な基板を用いて第一パターンに組み付けることができる。パターンは導電性材料でめっきした基板が押されたときに第一と第二の導電パターンが接触するように組み立てられる。

Description

関連出願の相互参照
本出願は２０１１年１０月２５日に出願された米国仮特許出願第６１／５５１１２４号（代理人整理番号２９１１−０２５００）の優先権を主張するとともに、参照により本明細書に援用する。

背景
携帯型および据え置き型の電子機器に見られるようなタッチセンシティブディスプレイには抵抗タッチスクリーンが使われることがある。抵抗式タッチスクリーンに指やスタイラス等の棒状物によって圧力が加えられ、抵抗材料でコーティングされた２枚の柔軟な基板が互いに押し付けられ、２枚の基板上にそれぞれ配置されている水平線と垂直線が接触すると、接触の位置が記録される。

概要
ひとつの実施例としての抵抗膜方式タッチセンサー回路を製造するための方法は、第一マスター版によって基板の第一面に第一複数の線からなる第一パターンを第一インクで印刷する工程と、第一パターン上に導電性材料の少なくとも１つの層を無電解めっきによって積層する工程と、第二マスター版によって第一基板の第一面に第二複数の線からなる第二パターンを第二インクで印刷する工程と、第二パターン上に導電性材料の少なくとも１つの層を無電解めっきによって積層する工程と、第三のマスター版によって第一または第二パターンの少なくとも一方の上に複数のスペーサードットを第三のインクで印刷する工程とを備えている。

ひとつの実施例としての抵抗膜方式タッチセンサーは、第一基板と第二基板と接着促進剤とを備えており、第一基板が偏光フィルムを備えており、第一マスター版によって第一基板の第一面に第一の複数の線が印刷され、第二マスター版によって第一基板の第一面に１組のスペーサーが印刷されており、第二基板が光学的に等方性を有する透明フィルムを備えており、第三のマスター版によって第二基板の第一面に第二の複数の線が印刷されており、第一基板と第二基板がそれぞれ、第一と第二の複数の線を含んでいる第一面の表面の成す平面に沿ったｘ軸とｙ軸を備えており、第一の複数の線が第一基板のｘ軸に沿って印刷されており、第二の複数の線が第二基板のｙ軸に沿って印刷されており、無電解めっきによって第一と第二の複数の線がめっきされており、接着促進剤が第一基板の第一面と第二基板の第一面との間に配置され、第一基板と第二基板が組み立てられてｘｙグリッドが形成されている。

ひとつの実施例としての表示システムは、液晶ディスプレイと抵抗膜方式センサーとを備えており、抵抗膜方式センサーが内側面と外側面とを備えており、内側面は第二ガラス基板に配置されており、抵抗膜方式タッチセンサーがさらに、第一組の導体線と偏光フィルムとスペーサードットとを備えた第一基板および、第二組の導体線を備えた第二基板を含んでおり、第一組と第二組の印刷された線がフレキソ印刷プロセスを用いて印刷されており、第一組と第二組の印刷された線が無電解めっき法によって導電性材料でめっきされている。

本発明の例示的な実施例を詳細に説明するため、ここで添付の図面を参照しておく。
図１はタッチスクリーン構成の実施例の模式図である。 図２はタッチスクリーン構成の代替的な実施例である。 図３Ａ〜３Ｃはフレキソマスターパターンの実施例の等角断面図である。 図４Ａ〜４Ｂはフレキソマスターパターンの実施例の上面図である。 図５Ａ〜５Ｂは抵抗膜方式タッチセンサーの実施例の等角断面図である。 図６はタッチセンサーの製造方法の製造プロセスの実施例を説明する図である。 図７Ａ〜７Ｂは高精度のインク計量システムの方法の実施例である。 図８Ａ〜８Ｂはスペーサーを備えたプリントタッチセンサー回路の上面を説明する図である。 図９は黒マトリクスとタッチセンサーの上面を示す図である。 図１０はタッチスクリーン構成の等角図の実施例を説明する図である。 図１１は抵抗式タッチスクリーンセンサーの製造方法の実施例である。

詳細な説明
以下の説明は本発明のさまざまな実施例を対象とする。これらの実施例のひとつまたは複数が好ましいこともあるが、開示した実施例は、特許請求の範囲を含む開示内容の範囲を限定するものとして解釈したり用いたりしてはならない。また、当業者であれば以下の説明が広く応用できることを理解できるであろうし、どの実施例の説明もその実施例の例示を意味するものであって特許請求の範囲を含む本開示の範囲をその実施例に限定することを示唆する意図はない。

タッチスクリーンディスプレイは、液晶ディスプレイと、照明システムを含む抵抗膜方式タッチセンサーとを用いて構成することができ、照明システムは、光源と、増強フィルムと、少なくとも一個の光ガイドと、少なくとも一枚の拡散板と、光源の上に配置される第一ガラス基板と、第一ガラス基板上に配置される薄膜トランジスタと、複数の液晶セルとを用いて構成できる。この例では、赤・緑・青（ＲＧＢ）フィルタを用いて構成したカラーフィルタを複数の液晶セル上に配置し、黒マトリクスをＲＧＢフィルタに埋め込み、第二ガラス基板をＲＧＢフィルタ上に配置する。

図１はタッチスクリーンの構成を示している。その構造１００には光源１０２が含まれる。光源はバックライトとしてもよい。バックライトはタッチスクリーンに使用される照明源のひとつである。バックライトは裏側からみて最初の層としてもよい。一般的なバックライトには、光源と、増強フィルムと、光ガイドと、拡散板とが含まれていることがある。使用する光源は、例えば、エレクトロルミネセントパネル（ＥＬＰ）、冷陰極蛍光ランプ（ＣＣＦＬ）、熱陰極蛍光ランプ（ＨＣＦＬ）、光ファイバメッシュ、白熱ランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）としてもよい。光ガイドと拡散板は、他の光源の付属物（これも光源１０２と呼ぶことができる）とともに、光源から第一偏光フィルム１０４に至る光の分布を均一にする。第一偏光フィルム１０４は光源１０２上に配置することで、光源１０２から放たれた光を偏光し、特定の直線偏光のみを通過させることができる。偏光子は、二色性色素の分子ないし結晶を含む高度に一軸配向したポリマー材料で作製できる。二色比の大きい偏光子はさまざまな液晶の用途に用いるために必要な光学性能を有することがあるが、細長いヨウ素錯体を含有する薄いポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムで構成することができる。このような偏光子を吸収材料とするには高い分子秩序が必要となるかもしれないが、この秩序は色素をＰＶＡの延伸フィルムに吸着させることで達成できる。こういった二色性偏光子は、分子もしくは結晶の長軸が光吸収の遷移モーメントにほぼ平行となっている棒状構造の二色性材料を主体とするものであってもよい。

ひとつの実施例として、ヨウ素イオンや色素イオンがポリマーの内部まで行き渡るように、ポリマーに二色性液体を吸収させてもよい。ポリマーは加熱して延ばすことでＰＶＡ膜としてもよい。光の透過率は約５％とすることで望ましい条件で透過光を表示させることができる。残りの９５％の光はフィルムの層で反射、屈折、吸収させてもよい。偏光子は分子の長軸に沿った方向の偏光を吸収し、長軸に直交する方向に偏光した光の大部分を透過させることができる。二色性偏光子の吸収率と透過率は液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の明るさに影響を与える二つの要因となることがある。偏光子の温度耐性や湿度等の機械的特性が劣る可能性があるため、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）のフィルムを使用して偏光層を保護してもよい。ヨウ素系偏光フィルムの本体は上下両面をＴＡＣ保護フィルムでコーティングすることもでき、保護層の厚さは約２００ミクロンとすることができる。

図１に戻るが、偏光子１０４の上には第一ガラス基板ないしガラス層１０６を配置し、薄膜液晶層１１０を薄膜トランジスタ層１０８（ＴＦＴ）とＲＧＢ（赤・緑・青）フィルタ１１２の間に配置する。第一ガラス基板１０６と第二ガラス基板１４は、第二ガラス基板１１４がＲＧＢフィルタの上側に来るようにして液晶セルを挟み込む。

ひとつの実施例（図示せず）として、黒いマトリックス上に三原色パターン（赤・緑・青）を形成する。この実施例では、実質透明の導電性タッチセンサーを積層する前に、このクロムまたは樹脂からなる黒いマトリクスをあらかじめ第二ガラス基板１１４上に形成しておくことで、たとえばバックライトの漏れや隣接画素間での色のクロストークを防止することもできる。実施例によっては酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）フィルムを使用する。第二ガラス基板１１４の上に第二偏光子１６を配置することもできる。この第二偏光子１６は検光子と呼ばれることもある。検光子で使用する偏光方向は第一偏光フィルム１０４の偏光方向に対して垂直となるようにしてもよい。

第二偏光板１１６の上には抵抗膜方式タッチセンサー１２０を配置することができる。タッチセンサー１２０と第二偏光子１１６はスペーサードットと呼ぶこともある複数のスペーサー１１８で間隔を空け、タッチセンサー１２０を電磁気干渉から保護することができる。ひとつの実施例としては、複数のスペーサードットは直径を１ミクロンから２５ミクロン、高さを１ミクロンから２５ミクロンとする。好ましくは、複数のスペーサードットは直径を５ミクロンから１０ミクロン、高さを３ミクロンから５ミクロンとすることもできる。ひとつの実施例として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）は光学的に透明でかつ導電性があるため、抵抗膜方式タッチセンサー１２０としてタッチスクリーンセンサーの用途に用いることができる。抵抗膜方式タッチスクリーンは、使用者が指やスタイラスで画面に触れるとＩＴＯ膜が押されてＩＴＯガラスと接触し、電圧信号が生成する。プロセッサがこの信号を処理して接触が発生した座標（ＸとＹ）を計算し、接触点に対する適切な応答を行う。タッチスクリーンはカバーフィルム１２２を含めることで環境条件から装置を保護・隔離するとともに、摩擦や、通常の擦り減りや、酸素等の有害な化学物質から保護することができる。保護カバーフィルムは例えばポリエステル（ＰＥＴ）フィルムとすることができる。

図２はタッチスクリーンモジュール構造２００の実施例を示す図である。図２にあるように、このタッチスクリーン構造２００には光を発生させる光源２０２を含めることができ、その光は第一偏光子２０４によってある方向に直線偏光させることができる。液晶セル２１０は薄膜トランジスタ２０８とＲＧＢフィルタ２１２との間に配置することができる。液晶セルはガラス基板２０６とガラス基板２１４で挟み込む。このときガラス基板２０６には薄膜トランジスタ２０８を保持させ、ガラス基板２１４にはＲＧＢフィルタ２１２を保持させる。ひとつの実施例として、三原色のパターン（赤、緑、青）を黒マトリクスの上に形成してもよい。ひとつの実施例として、ガラス基板２１４上にクロムまたは樹脂の黒マトリクスを形成することで、バックライトの漏れや隣接画素間の色のクロストークを防止することもできる。黒マトリクスにパターンを形成した後、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）フィルム（図示せず）をカラーパターン上に積層させてもよい。

ガラス基板２１４の上には抵抗膜方式タッチセンサー２１６を配置することができる。タッチセンサー２１６は、巻き出し・巻き取り式の方法によって、偏光フィルムの片面に導体線を印刷することで形成することができる。この線からなるパターンは導電体微細構造パターンと呼べるものであり、導電性材料が基板の印刷面に沿った幅が５０μｍ未満となるように非導電性基板上に導電性材料をパターニングして構成することができる。

図１と図２を比較すると、タッチセンサー１２０と第二偏光フィルム１１６とスペーサー１１８の代わりに、柔軟な偏光フィルム上に構築した抵抗膜式タッチセンサー２１６を用いることができる。ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）の２個の偏光子の間にある材料・部品は、光学的に等方的なものにするとよい。ＬＣＤの機能は光を特定の方向に偏光させることであり、光の極性を拡散、屈折、変化させる材料があるとＬＣＤの性能が低下する。ガラスや一部のポリカーボネートは光学的に等方性を有する材料の例である。タッチスクリーンによってはカバーフィルム２１８を含めることで装置を環境条件から保護・隔離し、摩耗や、通常の擦り減りや、酸素等の有害な化学物質から保護することもできる。タッチスクリーンパネルの保護カバー層としては、一般に、ハード／クリアコーティングを施したポリエステル（ＰＥＴ）フィルムが使用される。また、実施例によってはカバーフィルム２１８を用いる代わりに抵抗膜式タッチセンサー２１６の外表面にハードコーティング（図示せず）を直接施してもよい。ハードコーティングは高密度に架橋したアクリルコートフィルムとすることができる。また、単官能性および多官能性のアクリルモノマーとアクリルオリゴマーを含む特別に配合したＵＶ硬化性コーティング液（図示せず）をタッチセンサー２１６の片面または両面に塗布することもできる。コート層形成方法は、浸漬コーティング法、スロットダイ法、巻き出し・巻き取り式印刷法を用いることができるが、これらに限定されない。コーティング液中のモノマー鎖どうしが架橋することによって形成される高密度の架橋ポリマー構造によれば、厚さがたとえば５から５０ミクロンのコーティング層を作成することができる。コーティング層は約６Ｈまでの鉛筆硬度とすることができる。

フレキソ印刷は輪転活版印刷の一形態であり、凸版が両面接着材などで版シリンダに取り付けられる。また、マスター版ないしフレキソ版と呼ぶこともできるこの凸版は、速乾・低粘性の溶媒と、アニロックスまたは他の２ロール方式を用いるインク供給システムから供給されるインクと組み合わせて使用することができる。インクは、液体状態のモノマー、オリゴマー、ポリマーのひとつ以上や、金属単体、金属元素錯体、有機金属の一つ以上の組み合わせとすることができ、これを基板表面に離散的に付着させる。アニロックスロールは計量した量のインクを印刷版に供給するために使用される円柱体としてもよい。マスター版は任意の基板に印刷するために使用される所定のパターンを保持するロールであれば何でもよい。アニロックスロールは、印刷版にインクの測定量を提供するために使用される円筒体としてもよい。インクは例えば水性または紫外線（ＵＶ）硬化性のインクとすることができる。ひとつの例として、第一ローラがインクパンないし計量システムからインクを計量ローラーないしアニロックスロールに移す。インクはアニロックスローラーから版胴に移るとき均一な厚さに計量される。基材が巻き出し・巻き取り式の取扱いシステムによって版胴から圧胴に移動すると、圧胴によって版胴に圧力が加わって版胴が凸版の像を基板に転写する。実施例によっては、版胴とドクターブレードの代わりに湿し水ローラを使用することでローラ面へのインクの分散を改善することもできる。

フレキソ版は例えばプラスチックや、ゴムや、ＵＶ感応ポリマーとも呼ばれる感光性ポリマーから作製することができる。フレキソ版はレーザー彫刻法、写真製版法、光化学法によって製造することができる。フレキソ版は任意の公知の方法によって購入または製造することができる。好ましいフレキソ印刷工程の設備は、印刷部を積み重ねたスタックを一つ以上印刷機フレームの側面に上下に配置したスタック型として構成することができる。各スタックは１種類のインクを使用して印刷する独自の版胴を備えており、この構成とすることで基板の片面または両面に印刷を行うことができる。別の実施例としては、プレスフレームに単一の圧胴を取り付けて使用する中央圧胴型を用いることもできる。基材は印刷機に入ると圧胴と接触して適当なパターンが印刷される。また、印刷部を横一列に配置し共通のラインシャフトで駆動するインライン型のフレキソ印刷工程を使用することもできる。この例では印刷部に、硬化部、切断機、折り機などの印刷後処理装置と結合することができる。硬化とは、それ以前に基板に付着させたあらゆるコーティングまたはインク像を乾燥、固化、あるいは定着させる過程を指す。これらとは別の構成のフレキソ印刷工程もまた利用することができる。

ひとつの実施例として、例えば円筒製版（ＩＴＲ）法においてフレキソ版スリーブを使用することができる。ＩＴＲ法はスリーブに感光性樹脂版材を施して印刷機に搭載するものであり、従来型の版胴とも呼べる平板を版シリンダに取り付ける上述の方法とは対照的である。フレキソスリーブは、フォトポリマーからなる連続的なスリーブの表面にレーザアブレーションマスクのコーティングを施したものとしてもよい。別の例としては、個々のフォトポリマー片をテープでベースとなるスリーブに固定し、その後は上述のレーザアブレーションマスクを施したスリーブと同様にイメージングおよび処理をすることができる。フレキソスリーブは例えば、製版した平坦なプレートを表面に固定する保持ロールとして、あるいは表面に版を直接刻印するスリーブ（円筒製版）としてなど、いくつかの方法で使用することができる。スリーブが単に保持体の役割として機能する例では、刻印した版面をスリーブに取り付け、これをその後シリンダ上の印刷部に設置することができる。このように事前に取り付けられる版面によれば、既にプレートが取り付けられたスリーブを格納することができるため、交換時間を低減することができる。スリーブは、熱可塑性複合材料、熱硬化性複合材料、およびニッケルを含む様々な材料から作ることができ、また割れや分裂に抵抗するために繊維で補強するかどうかは任意である。非常に高品質の印刷には、発泡体またはクッションを主体として組み込んだ長期的に再利用可能なスリーブが使用される。実施例によっては、発泡体やクッションを備えていない使い捨ての「薄い」スリーブを使用することもできる。

図３Ａ−３Ｃはフレキソマスターの実施例を示している。上述のとおり、「マスター版」と「フレキソマスター」との用語は互換性をもって用いることができる。図３Ａは、複数の線からなるパターン４０２を形成した直線パターンの円筒状フレキソマスター４００の等角図である。図３Ｂは図３Ａの直線とは異なる形状を形成した回路パターンのフレキソマスター４０４の実施例の等角図である。図３Ｃは図３Ａに示すパターン形成したフレキソマスターの複数の線４０６の断面図であり、断面視では凸部とも呼ぶことができる。図３Ｃに示す「Ｗ」はフレキソマスターの凸部の幅、「Ｄ」は凸部４０６の中心点間の距離、「Ｈ」は歯の高さである。実施例によっては寸法Ｄ、Ｗ、Ｈをフレキソマスター全体で均一としてもよいが、別の実施例としては寸法Ｄ、Ｗ、Ｈをフレキソマスターにわたって変えることもできる。実装例によっては、フレキソマスターの歯の幅Ｗを３〜５ミクロン、隣接する歯の間の距離Ｄを１から５ｍｍ、歯の高さＨを３〜４ミクロンで変化させ、歯の厚さＴを１．６７から１．８５ミリメートルの範囲としてもよい。ひとつの実施例として、印刷は、例えば、両方のパターンを備えた一個のロールを使用して、あるいはそれぞれがひとつのパターンを備える二個のロールを使用して基板の片面に行うことができ、基板はその後切断して組み立てられる。代替的な実施例としては、例えば、２か所の異なる印刷部と２個の異なるフレキソマスターを使用して基板の両面に印刷することもできる。フレキソマスターを使用することができるのは、版シリンダーが高価でかつ交換しにくく、大量印刷にとっては効率的なシリンダであるかもしれないが少量生産や他には無い形状にとっては望ましいシステムとならない可能性があるなどの理由による。取り替えは必要とする時間に起因してコストがかかる可能性がある。これとは対照的にフレキソ印刷によれば乾板を紫外線に露光することで新たなプレートを作成することができ、一時間もあれば製造することができる。ひとつの実施例として、このフレキソマスターとともに適切なインクを使用することでインク転写の圧力と表面エネルギーを制御することが可能となり、より調節の利く方法でインクを貯蔵容器ないしパンなどから取り込むことができる。この印刷プロセスに使用するインクは、接着性やＵＶ硬化性等の性質のみならず、印刷したときにインクが所定の位置に留まり印刷パターンににじみや汚れ等の変形が生じないような触媒としての性質を有するものとしてインクが集まって所望の形を形成するようにしてもよく、また無電解めっき等のめっきを助長する触媒を含むものとしてもよい。無電解めっきとは所与の表面上に導電性材料の層を積層するために用いる、触媒活性化を利用した化学的な技術である。めっき触媒はめっき工程で化学反応を可能にする物質としてもよい。実施例によっては、この物質は印刷インクに含有させることもできる。それぞれのパターンは、例えば、少なくとも一個のフレキソマスターと少なくとも一種類のインクを含めた指示書きを用いて作製することができる。精細度の異なる線、サイズの異なる線、異なる形状には、異なる指示書きが必要になることがある。異なるインクを異なるロールで使用してもよく、実施例によっては複数のロールを使用して単一のパターンを印刷してもよい。

図４Ａと図４Ｂはフレキソマスターの上面の説明図である。図４Ａ中５００ａで示す上面図は薄く柔軟な透明基板の一方の面に印刷するための第一パターンである。５００ａのような第一パターンは第一の柔軟な基板の一方の面に印刷してもよい。パターン５００ａはＸＹグリッドのＹ方向のセグメントを構成可能な複数の線５０２を備えている。端末部５０４は電気リード５０６と電気コネクタ５０８を備える。図４Ｂは、第二の柔軟な基板の一方の面に印刷することができる第二パターン５００ｂの実施例を示している。第二パターン５００ｂはＸＹグリッド（図示せず）のＸ方向のセグメントを構成可能な複数の線５１０を備える。端末部５１２は電気リード５１４および電気コネクタ５１６を備える。

図５Ａから５Ｂは抵抗膜式タッチセンサー構造の等角図と断面図を示している。図５Ａは抵抗膜方式タッチセンサー２１６の等角図６００を示す。図５Ｂに断面図を示す抵抗膜方式タッチセンサー２１６は、複数の第一導体線６０４と複数のスペーサードット６０６を第一基板となる偏光フィルム６０２上に配置し、複数の第二導体線６１２を第二基板６１０上に配置し、偏光フィルム６０２と第二基板６１０を接着促進剤６０８で接着して構成しており、第二基板６１０は光学的に等方性を有する透明フィルムとしている。図５Ｂにあるように、複数のスペーサードット６０６は、複数の第一導体線６０４の各配線に対し交互に配置してもよい。導体線を形成するために使用する材料は、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）、パラジウム（Ｐｄ）を含有させることができる。回路に使用される材料の抵抗率によって、回路の応答時間と電力要件を変えることができる。

実施例によっては、回路の配線の抵抗値を０．００５マイクロオーム毎スクエアから５００オーム毎スクエアの間とし、応答時間をナノ秒からピコ秒の範囲とすることができる。ここで「オーム毎スクエア」は２つのパターンを組み合わせることで形成される正方形を意味し、一般的に前記の金属配置を備えたものはＩＴＯ（酸化インジウムスズ）を用いたものよりも７５％少ない回路の消費電力（実施例によってはそれ以上）を達成することができることがわかる。特定の実施例として、印刷される電極の幅Ｗは５から１０ミクロンまで変化させることができ、公差は±１０％とすることができる。配線間の間隔Ｄは約１ｍｍから５ｍｍまで変化させることができる。最適な光学性能を得るためには、導電性パターンをディスプレイの黒マトリクスの大きさや形状と大体一致させる必要がある。したがって間隔Ｄと幅Ｗはディスプレイの黒マトリクスの大きさの関数となる。高さＨは約６ナノメートルから約１５０ミクロンの範囲とすることができる。接着促進剤６０８と複数のスペーサードット６０６の高さｈは導体線の高さＨに応じて５００ナノメートル以上とすることができる。ひとつの実施例として、接着促進剤６０８の高さと複数のスペーサードット６０６の高さは同じとしない。偏光フィルム６０２と第二基板６１０は厚さＴを１ミクロンから１ミリメートルとし、表面エネルギーを２０ダイン／センチメートル（Ｄ／ｃｍ）から９０Ｄ／ｃｍとしてもよい。

図６は抵抗膜方式タッチセンサーの製造方法の実施例である。図６は図２の抵抗膜方式タッチセンサー２１６を製造するために使用する方法７００を示している。巻き出しロール７０２には細長く柔軟な薄い偏光フィルム６０２を巻いておく。この基板６０２としては、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ポリエステル、ポリカーボネート等の透明基板を使用できる。偏光フィルム６０２の厚さはタッチセンサーを曲げたときに過度の応力を防ぐことができる程度に小さくする必要がある。薄い偏光フィルムとすると光透過率を向上させることができる。その一方で、偏光フィルム６０２の厚さは製造工程中にこの層の連続性や材料特性を脅かすほど小さくしてはならない。好ましくは、１ミクロンと１ミリメートルの間の厚さが適切である。方法７００に戻るが、偏光フィルム６０２は、例えば、任意の既知の巻き出し・巻き取り式の取扱い方法によって巻き戻しロール７０２から第一清掃部７０４に送る。巻き出し・巻き取り式のプロセスは柔軟な材料を扱うため、特徴部どうしの位置合わせが多少困難な場合がある。高精細の配線を印刷することがプロセスの重要な特徴であることを考えると、正しい整列状態を維持する精度が重要となる。ひとつの実施例としては位置決めケーブル７０６を用いて特徴部どうしの適切な整列状態を維持するが、別の実施例として任意の公知の手段をこの目的に使用することもできる。実施例によっては、第一洗浄システム７０４を高電界オゾン発生器で構成する。生成したオゾンを使用して偏光フィルム６０２から油またはグリース等の不純物を除去する。

次に、偏光フィルム６０２は第二清掃システム７０８に通すことができる。この特定の実施例では、第二清掃システム７０８をウエブクリーナを用いて構成する。ウェブクリーナは、ウェブないし基板から粒子を除去するためにウェブ製造で使用するものであれば任意の装置としてよい。これらの清掃段階の後、偏光フィルム６０２は第一印刷工程を経て、偏光フィルム６０２の両面のうちの一方に微細なパターンを印刷する。微細なパターンはＵＶ硬化型インクを使用してマスター版７１０で転写し、インクの粘度は２００から２０００ｃｐｓの間とすることができる。また、微細なパターンは幅が２から３５ミクロンの間である線で形成してもよい。ひとつの実施例として、このパターンは図５に示した第一パターンと同様としてもよい。ひとつの実施例として、複数のロールを使用してパターン（図示せず）を印刷してもよく、この複数のロールには異なるインク、類似したインク、あるいは同一のインクを使用することができる。パターンは厚さや、接続部の種類や、接続部の形状や、断面形状の異なる複数の線で構成することができるため、使用するインクの種類はパターンの特徴部分の形状および複雑さに依存する。

マスター版７１０から偏光フィルム６０２に移されるインクの量は高精度の計量システム７１２によって調節できる。移されるインクの量は、プロセスの速度、インクの組成、パターンを成す複数の線の形状と寸法に依存する。マシンの速度は毎分２０フィート（ｆｐｍ）から７５０ｆｐｍの範囲で変えてもよいが、用途によっては５０ｆｐｍから２００ｆｐｍが適するかもしれない。インクはめっき触媒を含有するものとしてもよい。第一印刷工程に続いて硬化工程を行うことができる。硬化工程には紫外線硬化７１４を含めて、その強度の目標値を約０．５ｍＷ／ｃｍ２から約５０ｍＷ／ｃｍ２とし、波長を約４８０ｎｍから約２８０ナノメートルとすることができるが、これに加えて、約２０°Ｃから約８５°Ｃまでの温度範囲内で熱を加えるオーブン加熱７１６のモジュールを含めることもできる。硬化工程の後には、偏光フィルム６０２の上に複数のパターン線７１８が形成されている。

片面に微細なパターンが印刷された状態の偏光フィルム６０２は、無電解めっき７２０を施すことができる。この工程では、微細パターン上に導電性材料の層が形成される。これはめっき部７２０において無電解めっき中に偏光フィルム６０２の第一パターン線７１８を液体状態の銅等の導電性材料が入っている槽に浸漬することによって実現することができ、導電性材料の温度は２０〜９０°Ｃの範囲とし、実施例によっては８０°Ｃとすることができる。これに代えて、導電性材料は、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）、パラジウム（Ｐｄ）の少なくとも１つとすることもできる。成膜速度は通常毎分約１０ナノメートルとし、用途に応じて、またウェブの速度に応じて、約０．００１ミクロンから約１００ミクロンの厚さまで導電性材料を積層する。この無電解めっき法は電流の印加を必要とせず、パターン形成された領域のうち硬化プロセス中に予め紫外線を照射することで活性化しておいためっき触媒を含有する領域のみをめっき可能である。めっき浴は、めっきを引き起こすことのできる水素化ホウ素や次亜リン酸塩などの強力な還元剤を含有させてもよい。無電解めっき法によるめっきの厚さは電界が存在しないために電気めっきよりも均一となる。無電解めっきは電解めっきよりも時間がかかるかもしれないが、無電解めっきは、高分解能の導体パターンに存在するような複雑な形状や多数の微細な特徴部分を有する部品に適していることがある。めっき部７２０においてめっきされた後には、偏光フィルム６０２の上に第一導体線６０４が形成されている。

めっき部７２０での無電解めっきに続いて洗浄プロセス７２２が行われる。めっき７２０した後、偏光フィルム６０２は室温の水を含む洗浄槽に浸漬することにより洗浄し、その後、偏光フィルム６０２は乾燥部７２４において室温の空気を当てることにより乾燥させることができる。別の実施例として、導電性材料と水との危険なまたは望ましくない化学反応を防止するために、スプレーパターンでの不動態化工程を乾燥工程の後に付け加えてもよい。

乾燥部７２４での乾燥の後には、複数のスペーサードット６０６を形成する工程を行うことができる。偏光フィルム６０２の第一面には微細構造スペーサーのパターンが印刷される。このパターンはＵＶ硬化型インクを用いて第二マスター版７２６で印刷し、インクの粘度を２００から２０００ｃｐｓの範囲とすることができる。第二マスター版７２６から偏光フィルム６０２に移されるインクの量は高精度計量システム７２８で調節でき、プロセスの速度、インクの組成、パターンの形状・寸法に依存する。スペーサードット６０６を複数印刷するために使用されるインクは、メチルテトラエチルオルトシリケートまたはグリシドプロピルトリメトキシシランを網目形成成分として用い塩酸で加水分解させた有機・無機ナノ複合材料とすることができる。粘度を調整するための添加剤としてシリカゾル、シリカ粉末、エチルセルロースおよびヒドロキシプロピルを使用することができる。インクにはＣｙｒａｃｕｒｅ、Ｆｌｅｘｏｃｕｒｅ、Ｄｏｕｂｌｅｃｕｒｅとして市販されている光開始剤を含めることで、紫外線硬化を使用することができる。複数のスペーサードット６０６は、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化チタンバリウム（チタン酸バリウム）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、白金（Ｐｔ）等のナノ粒子金属酸化物および顔料によって光学的に向上させることができる。ドットの屈折率は、光学的に第一導体線６０４の屈折率に一致させるのが好ましい。また、インクの粘度を調整するためにナノ粒子を使用することもできる。また、インクにナノ粒子リードを取り込むことによって硬化時の収縮を抑えることができる。第二印刷工程に続いて偏光フィルム６０２には第二硬化工程を行うことができ、この工程には約０．５ｍＷ／ｃｍ２から２０ｍＷ／ｃｍ２の強度での紫外線硬化７３０と、２０°Ｃから１５０°Ｃの範囲の温度での乾燥オーブン７３２の一方または両方を含めることができる。複数のスペーサードット６０６は、半径を８０ミクロンから４０ミクロン、高さを５００ナノメートルから１５ミクロンの範囲とすることができる。続いて、偏光フィルム６０２は公知の従来の洗浄技術を用いる第二洗浄工程７３４を行うことができ、その後、偏光フィルム６０２は乾燥部７３６において室温の空気を用いて乾燥させることができる。

これと並行して同様の手順に従って第二基板６１０の一方の面に第二導体線６１２を作成することができる。この基板は、例えば、セルローストリアセテート、アクリル、または類似のポリマー等の光学的に等方性の透明フィルムとできる。あるいは、上記に開示したと同様にして第二基板６１０上にスペーサードットも印刷することができる。

両方の導電パターンを印刷しめっきし終わった際には、抵抗膜式タッチセンサーを組み立てることができる。まず、複数の第一導体線６０４を囲うように偏光フィルム６０２に接着促進剤６０８の層を塗布することができ、層の厚さは実施例によっては５００ナノメートル以上とする。次に、両方の導電パターンを整列させ、互いに対向させ、スペーサードット６０６と接着促進剤６０８で形成された狭い隙間を隔てた状態で、複数の第二導体線６１２を有する第二基板６１０を偏光フィルム６０２に接着する。得られる構造は、図６に示すように導体線どうしの交点がそれぞれ常開の押しボタンスイッチを成すＸＹマトリクス抵抗膜方式タッチセンサーとなる。

図７Ａと７Ｂは高精度計量システム７１２と高精度計量システム７２８の実施例であり、これらは図７の製造方法７００の二つの印刷工程で説明したように、マスター版７１０および第二マスター版７２６によって偏光フィルム６０２に移されるインクの正確な量を制御する。図７Ｂは第一パターン線７１８を印刷するためのシステムの実施例を表しており、図７Ａはスペーサードット６０６を印刷するためのシステムのひとつの実施例である。図７Ａのシステムは、インクパン８０２ａ、転写ロール８０４ａ、アニロックスローラ８０６ａ、ドクターブレード８０８Ａ、７１０をを用いて構成することができる。図７Ａにあるように、インクパン８０２に入っているインクの一部がアニロックスローラ８０６に移されるが、このアニロックスローラは通常、セルとして知られる数百万個の非常に微細なディンプルを表面に備えた工業用セラミックで鋼またはアルミニウムのコアをコーティングして構成される。アニロックスローラ８０６は、印刷プロセスの設計に応じて、インクパン８０２に半分浸漬させるか、計量ロールと接触させるかのいずれとしてもよい。表面から余分なインクを掻き取ってセル内で計量されたインクだけを残しすためにドクターブレード８０８が使用される。ローラーはその後回転させてマスター版７１０等のフレキソ印刷版に接触し、この版面がセルからインクを受け取って偏光フィルム６０２に転写する。印刷版の回転速度はウェブの速度に一致させ、２０ｆｐｍから７５０ｆｐｍの範囲内で変えることができる。図７Ｂは、インクパン８０２内のインクの一部はアニロックスローラ８０６に移されるが、このアニロックスローラは通常、セルとして知られる数百万個の非常に微細なディンプルを表面に備えた工業用セラミックで鋼またはアルミニウムのコアをコーティングして構成される。アニロックスローラ８０６は、印刷プロセスの設計に応じて、インクパン８０２に半分浸漬させるか、計量ロールと接触させるかのいずれとしてもよい。表面から余分なインクを掻き取ってセル内で計量されたインクだけを残しすためにドクターブレード８０８を使用される。ローラーはその後回転さえてマスター版７２６等のフレキソ印刷版に接触し、この版面がセルからインクを受け取って偏光フィルム６０２に転写する。印刷版の回転速度はウェブの速度を一致させ、２０ｆｐｍから７５０ｆｐｍの範囲内で変えることができる。

図８Ａは、スペーサードット６０６と、第一導電線６０４と第二導体線６１２で形成されたＸＹグリッドとがある拡大図９１０を表している。図８Ｂは、さまざまな実施例による柔軟な偏光フィルム６０２に構築された抵抗膜式タッチセンサー２１６の上面図９００の実施例である。この図には導電性グリッド線９０２と、電気リード９０６と電気コネクタ９０８を含む端末部９０４とが示されている。この導電線によって使用者がセンサーにどの箇所で触れたかの認識を可能にするＸ−Ｙのグリッドを形成される。このグリッドは１６本×９本以上の導体線を含み、大きさを２．５ｍｍ×２．５ｍｍから２．１ｍ×２．１ｍの範囲とすることができる。Ｙ軸に相当する導体線とスペーサードット（図示せず）は偏光フィルム６０２上に印刷し、Ｘ軸に対応する導体線は光学的に等方性のある透明な第二基板上に印刷する。上で説明したようにスペーサードットは２枚のフィルムのいずれに印刷することもできる。

図９は、タッチセンサー２１６と黒マトリクス１００２の位置を一致させるために使用する整列方法１０００の実施例である。この特定の実施例では、位置合わせマーク１００４を使用してタッチセンサー２１６と黒マトリクス１００２を整列している。タッチスクリーンの最適な光学性能を得るためには、タッチセンサー２１６と黒マトリクス１００２はほぼ同じ大きさと形状とし、適切に整列させる必要がある。ひとつの例として整列した構造１００６を見てとることができる。ここに示された方法に代えて、他の任意の公知の整列手段を実施してもよい。

図１０は、図２に示すタッチスクリーン構造２００の等角図１００を示している。この図では、光源２０２と、第一偏光子２０４と、第一ガラス基板２０６と、ＴＦＴ２０８層と、液晶セル２１０と、ＲＧＢフィルタ２１２に埋め込まれた黒マトリクス１００２と、第二ガラス基板２１４とを用いて構成されたＬＣＤ１１０２を見ることができる。光源２０２の上には第一偏光子２０４が配置される。第一ガラス基板２０６上にＴＦＴ層２０８が配置され、ＴＦＴ層２０８の上には液晶セル２１０が配置される。液晶セル２１０上にはＲＧＢフィルタ２１２が配置され、黒マトリクス１００２がその中に埋め込まれている。ＲＧＢフィルタ２１２上には第二ガラス基板２１４は配置される。タッチスクリーン構造はまたタッチセンサー２１６を備える。タッチスクリーンセンサー２１６は、偏光フィルム６０２と、スペーサードット６０６と、第二基板６１０上に印刷された複数の第一導体線６０４を用いて構成される。第二基板６１０は複数の第二導体線６１２を含む。実施例によっては、タッチセンサー２１６の上にカバーフィルム２１８を配置してもよい。また、カバーフィルム２１８の代わりにハードコーティングをタッチセンサー２１６の外表面に重ねてもよい。

図１１は、製造抵抗膜方式タッチセンサーの方法１２００の実施例である。フレキソマスターとも呼べるマスター版は、マスター版の作成プロセス１２０２によって作成するか、あるいは購入する。ひとつの実施例として、フレキソマスターは図３のように作成する。第一部品と第二部品が形成プロセス１２３０によって形成される。第一部品１２０４は清掃部１２０６において洗浄される基板は、例えば、偏光フィルムを含んでもよい。ひとつの実施例としては、基板はその後の洗浄部１２０８での第二洗浄で洗浄することができる。洗浄部１２０６と洗浄部１２０８でのクリーニングは、プラズマ洗浄プロセス、エラストマー洗浄処理、超音波洗浄処理、高電界オゾン電界発生器、ウェブクリーニング、水洗浄うちの少なくとも１つによって実施することができる。実施例によっては、同一の洗浄方法を両方の洗浄部１２０６と１２０８において使用できる。実施例によっては、異なる洗浄方法を両方の洗浄部１２０６と１２０８において使用できる。印刷部１２１０において微細なパターンを第一印刷工程における基板の片面に印刷することができる。実施例としては、微細なパターンは、例えば、ＵＶ硬化型インクを用いて第一マスター版によって印刷部１２１０で印刷される。実施例としては、微細なパターンが２−３５ミクロンの幅を有する線を含むことができる。第一印刷工程の後には硬化部１２１２での硬化を行ってもよい。実施例としては、硬化部１２１２での硬化は、紫外線硬化を含んでもよい。別の実施例としては、硬化部１２１２での硬化は、オーブンまたは炉内での加熱を含むことができる。印刷後の基板はめっき部１２１６において無電解めっきを行うことができ、印刷されたパターンの形状に導電性線が形成され、硬化部１２１０と１２１２で硬化される。めっき部１２１６において微細パターンに導電性材料の層を積層させることができる。導電性材料は、例えば、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）、パラジウム（Ｐｄ）を含む。実施例としては、第一基板はめっき部１２１６での無電解めっきに続いて洗浄部１２１８で洗浄してもよい。第一基板は乾燥部１２２０で乾燥させてもよいし、実施例によっては、第一基板を不動態化部１２２２で不動態化する。第二印刷工程では印刷部１２２４においてスペーサードットを印刷してもよく、基板の面のうち導電性パターンと同じ側の面に微細構造スペーサーのパターンを印刷しててもよい。印刷部１２２４で印刷される微細構造スペーサーパターンは、第二マスター版を用いて印刷することができ、ＵＶ硬化インクを使用することができる。実施例として、印刷部１２２４で印刷されるスペーサーパターンは半径を４０から８０ミクロンの間とし、高さを１５ミクロンから５００ナノメートルの間とすることができる。基板はその後洗浄部１２２６で洗浄し、乾燥部１２２８で乾燥させてもよい。

並列するプロセス１２３２で、上記のステップ１２０６から１２２８と同様のステップ１２３４から１２５６にしたがって第二コンポーネントが作成される。実施例としては、第二基板（図示せず）を用いて第二部品が作成される。実施例によっては、この第二基板は、セルローストリアセテート、アクリル、または類似のポリマーなどの光学的に等方性の透明フィルムとしてもよい。実施例としては、印刷部１２２４で印刷されたスペーサードットに代えて、あるいはこれに加えて、印刷部１２５２でスペーサードットを印刷することができる。

第一および第二基板は組立部１２５８で組み立てて、抵抗膜方式センサーを形成することができる。実施例によっては、組立部１２５８での組み立ては図６で説明したように進めることができる。ひとつの実施例としては、組み立ては、両方の導電性パターンを揃えて互いに対向させ、印刷部１２２４や１２５２で印刷されたスペーサードットによってできた小さな隙間で隔てるように進める。得られる構造は図２に示すように導電性線の交点の各々が常開の押しボタンスイッチを構成するＸＹマトリックス抵抗膜方式タッチセンサーである。

なお、ここで与えた詳細な図面や具体例は本発明の例示的な実施例を説明するものであり、例示の目的のためであることを理解されたい。本明細書に開示した装置および方法は、開示された厳密な詳細と条件に限定されるものではない。本発明の方法は、接触感知機能を備えた電子機器に適用することができる。このような電子機器には、コンピューティングデバイス、コンピュータディスプレイ、携帯型メディアプレーヤー等の表示装置が含まれる。表示装置には、テキスト、グラフィックス、ビデオ、静止画やプレゼンテーションを含む画像を表示するのに適したテレビ、モニタ、プロジェクタが含まれる。こういった表示装置に用いることができる画像装置は、陰極線管（ＣＲＴ）、プロジェクター、フラットパネル液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＬＥＤシステム、ＯＬＥＤシステム、プラズマシステム、エレクトロルミネッセンスルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールド発光型ディスプレイ（ＦＥＤ）が含まれる。

また、これらの例示的な実施例に対しては、以下の特許請求の範囲によって特定される本発明の真意および範囲から逸脱することなく、多数の修正が可能であると理解されたい。

上記の説明は、本発明の原理およびさまざまな実施例を例示する意味がある。上記の開示を完全に理解すれば、多数の変形および修正が当業者には明らかになるであろう。なお、以下の特許請求の範囲はそのような変形および変更をすべて包含するものと解釈することが意図している。

Claims (28)

1. 抵抗膜方式タッチセンサー回路を製造するための方法であって、
   第一マスター版によって第一インクを用いて基板の第一面に第一の複数の線を含む第一パターンを印刷する工程と、
   無電解めっきによって第一パターン上に導電性材料からなる少なくとも１つの層を積層する工程と、
   第二マスター版によって第二インクを用いて第一基板の第一面に第二の複数の線を含む第二パターンを印刷する工程と、
   無電解めっきによって第二パターン上に導電性材料からなる少なくとも１つの層を積層する工程と、
   第三マスター版によって第三インクを用いて第一パターンと第二パターンの少なくとも一方に複数のスペーサードットを印刷する工程とを備えた方法。
2. 請求項１に記載の方法であって、基板の厚さが１ミクロンから１ミリメートルの間であるもの。
3. 請求項２に記載の方法であって、複数のスペーサードットの直径が１ミクロンから２５ミクロンであり、高さが１ミクロンから２５ミクロンであるもの。
4. 請求項２に記載の方法であって、複数のスペーサードットの直径が５ミクロンから１０ミクロンであり、高さが３ミクロンから５ミクロンであるもの。
5. 請求項３に記載の方法であって、高密度架橋アクリルでコーティングされたフィルムを含むハードコート層を配置する工程をさらに備えたもの。
6. 請求項３に記載の方法であって、第一パターン上の導電性材料にＰＥＴフィルムからなるカバーフィルムを配置する工程をさらに備えたもの。
7. 請求項６に記載の方法であって、フィルムを配置する工程で、厚さ２００ミクロンまでのトリアセチルセルロースを配置するもの。
8. 請求項１に記載の方法であって、プラズマクリーニングプロセス、エラストマー洗浄処理、超音波洗浄処理、高電界オゾン電界発生器、ウェブクリーニング、水洗浄の少なくとも１つによって基板を洗浄する工程をさらに備えたもの。
9. 請求項１に記載の方法であって、粘度が２００〜２０００ｃｐｓの間である第三インクを用いて複数のスペーサードットを印刷する工程をさらに備えたもの。
10. 請求項１に記載の方法であって、第一パターンを印刷する工程で、各線の幅が２から３５ミクロンである第一の複数の線を印刷するもの。
11. 請求項１に記載の方法であって、第一インクと第二インクがめっき触媒を含有しているもの。
12. 請求項１２に記載の方法であって、第一と第二インクが異なるめっき触媒を含有しているもの。
13. 請求項１に記載の方法であって、有機−無機ナノ複合体を含む第三インクを使用した複数のスペーサードットを印刷する工程をさらに備えたもの。
14. 請求項１３に記載の方法であって、ナノ複合体がメチルテトラエチルオルトシリケートとグリシドプロピルトリメトキシシランの少なくとも一つを含むもの。
15. 請求項１３に記載の方法であって、光開始剤と、シリカゾル、シリカ粉末、エチルセルロース、ヒドロキシのうちの少なくとも１つとを含む第三インクを使用して複数のスペーサードットを印刷する工程をさらに備えたもの。
16. 請求項１３に記載の方法であって、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化チタンバリウム（ＢａＴｉＯ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、白金（Ｐｔ）のうちの少なくとも１つを含む第三のインクを使用して複数のスペーサードットを印刷する工程をさらに備えたもの。
17. 抵抗膜方式センサーであって、第一基板と第二基板と接着促進剤とを備えており、
    第一基板が偏光フィルムを備えており、第一マスター版によって第一基板の第一面に第一の複数の線が印刷され、第二マスター版によって第一基板の第一面に１組のスペーサーが印刷されており、
    第二基板が光学的に等方性を有する透明フィルムを備えており、
    第三のマスター版によって第二基板の第一面に第二の複数の線が印刷されており、
    第一基板と第二基板がそれぞれ、第一と第二の複数の線を含んでいる第一面の表面の成す平面に沿ったｘ軸とｙ軸を備えており、
    第一の複数の線が第一基板のｘ軸に沿って印刷されており、第二の複数の線が第二基板のｙ軸に沿って印刷されており、
    無電解めっきによって第一と第二の複数の線がめっきされており、
    接着促進剤が第一基板の第一面と第二基板の第一面との間に配置され、第一基板と第二基板が組み立てられてｘｙグリッドが形成されているセンサー。
18. 請求項１７に記載の抵抗膜方式タッチセンサーであって、第一と第二の複数の線の断面形状が、半円形、台形、三角形、長方形、正方形の少なくとも１つであるもの。
19. 請求項１７に記載の抵抗膜方式タッチセンサーであって、第一の複数の線の少なくとも一つの断面形状が第二の複数の線の少なくとも一つの断面形状と異なっているもの。
20. 請求項１７に記載の抵抗膜方式タッチセンサーであって、銅、銀、金、ニッケル、スズ、パラジウムからなる導電性材料を用いて第一組と第二組の導体線が印刷されており、第一組の導体線と第二組の導体線の印刷に用いられる導電性材料が同じであるもの。
21. 請求項１７に記載の抵抗膜方式タッチセンサーであって、銅、銀、金、ニッケル、スズ、パラジウムからなる導電性材料を用いて第一組と第二組の導体線が印刷されており、第一組の導体線と第二組の導体線の印刷に用いられる導電性材料が異なっているもの。
22. 請求項１７に記載の抵抗膜方式タッチセンサーであって、基板の面のうち第一と第二の複数の線の少なくとも一方と同じ側の面に複数のスペーサーが印刷されているもの。
23. 請求項２２に記載の抵抗膜方式タッチセンサーであって、接着層の厚さが複数のスペーサーの高さまでであるもの。
24. ディスプレイシステムであって、液晶ディスプレイと抵抗膜方式センサーとを備えており、
    抵抗膜方式センサーが内側面と外側面とを備えており、内側面は第二ガラス基板に配置されており、
    抵抗膜方式タッチセンサーがさらに、第一組の導体線と偏光フィルムとスペーサードットとを備えた第一基板および、第二組の導体線を備えた第二基板を含んでおり、
    第一組と第二組の印刷された線がフレキソ印刷プロセスを用いて印刷されており、第一組と第二組の印刷された線が無電解めっき法によって導電性材料でめっきされているシステム。
25. 請求項２４に記載のタッチスクリーンセンサーであって、さらにカバーフィルムを備えており、カバーフィルムが抵抗膜方式タッチセンサー上に配置されているもの。
26. 請求項２４に記載のタッチスクリーンセンサーであって、さらにハードコート層を備えており、ハードコート層がタッチセンサーの外表面に配置されているもの。
27. 請求項２４に記載のタッチスクリーンセンサーであって、黒マトリクスが少なくともクロムと樹脂のいずれかを含んでおり、黒マトリクスがガラス基板上に形成されているもの。
28. 請求項２４に記載のタッチスクリーンセンサーであって、照明システムが、、光源から偏光フィルムに向けて出射される光の分布を均一にしているもの。
    

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