JP2014533306A - チタン含有錯体及び縮合反応触媒、該触媒の調製方法、及び該触媒を含有する組成物 - Google Patents

Abstract

組成物は、縮合反応によって硬化することができる。この組成物は、新規な縮合反応触媒を使用する。この新規な縮合反応触媒は、従来のスズ触媒に代わるものとして使用される。この組成物はガム、ゲル、ゴム、又は樹脂を形成するために反応することができる。

Description

スズ化合物は、接着剤、封止剤、低透過性製品（例えば、断熱ガラス用途、コーティング及びシリコーンエラストマーラテックスにおいて有用であるもの）といった多くのポリオルガノシロキサン組成物の縮合硬化のための触媒として有用である。縮合反応触媒のための有機スズ化合物は、スズの価数が＋４又は＋２のいずれかであるもの、すなわち、スズ（ＩＶ）化合物又はスズ（ＩＩ）化合物である。スズ（ＩＶ）化合物の例としては、カルボン酸の第二スズ塩、例えば、二ラウリン酸ジブチルスズ、二ラウリン酸ジメチルスズ、ジ−（ｎ−ブチル）スズビス−ケトネート、二酢酸ジブチルスズ、マレイン酸ジブチルスズ、ジブチルスズジアセチルアセトネート、ジブチルスズジメトキシド、カルボメトキシフェニルスズトリス−ウベレート（carbomethoxyphenyl tin tris-uberate）、ジオクタン酸ジブチルスズ、二ギ酸ジブチルスズ、イソブチルスズトリセロエート（isobutyl tin triceroate）、ジメチルスズジブチレート（dimethyl tin dibutyrate）、ジメチルスズジ−ネオデコノエート（dimethyl tin di-neodeconoate）、ジブチルスズジ−ネオデコノエート、酒石酸トリエチルスズ、二安息香酸ジブチルスズ、トリ−２−エチルヘキサン酸ブチルスズ、二酢酸ジオクチルスズ、オクチル酸スズ、オレイン酸スズ、酪酸スズ、ナフテン酸スズ、二塩化ジメチルスズ、これらの組み合わせ、及び／又はこれらの部分加水分解生成物が挙げられる。スズ（ＩＶ）化合物は当該技術分野において既知であり、例えば、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙの事業部門であるＡｃｉｍａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（欧州、スイス）からのＭｅｔａｔｉｎ（登録商標）７４０及びＦａｓｃａｔ（登録商標）４２０２といったように、市販されている。スズ（ＩＩ）化合物の例としては、有機カルボン酸のスズ（ＩＩ）塩、例えば、二酢酸スズ（ＩＩ）、ジオクタン酸スズ（ＩＩ）、ジエチルヘキサン酸スズ（ＩＩ）、二ラウリン酸スズ（ＩＩ）、カルボン酸の第一スズ塩、例えば、オクチル酸スズ、オレイン酸スズ、酢酸スズ、ジラウリン酸スズ（ＩＩ）、ステアリン酸スズ（ＩＩ）、ナフテン酸スズ（ＩＩ）、ヘキサン酸スズ（ＩＩ）、コハク酸スズ（ＩＩ）、カプリル酸スズ（ＩＩ）、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

ＲＥＡＣＨ（化学物質の登録、評価、許可、及び制限）は、ヒトの健康及び環境を守ることを支援し、化学産業の将来性及び競争を改善することを意図した欧州連合一次法である。この一次法により、封止剤及びコーティングのような多くの縮合反応硬化性ポリオルガノシロキサン製品において使用されているスズ系触媒は、使用が禁止されることになっている。それゆえに、縮合反応硬化性組成物において従来のスズ触媒を置き換えることが産業上必要とされている。

チタン前駆体（Ｔｉ前駆体）及び配位子を含む成分の反応生成物、及びその反応生成物の調製方法が開示される。縮合反応により生成物を形成可能な組成物は、上記反応生成物及びケイ素含有ベースポリマーを含む。

全ての量、比率、及びパーセンテージは、特に記載のない限り、重量である。組成物中の全ての成分量は合計で１００重量％である。簡単な発明の概要及び要約は、参照により本明細書に引用したものとする。冠詞「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」はそれぞれ、明細書の文脈により特に示されない限り、１つ以上を指す。範囲の開示には、範囲それ自体と、その中に包含される任意の数、並びに端点が含まれる。例えば、２．０〜４．０の範囲の開示には、２．０〜４．０の範囲だけでなく、２．１、２．３、３．４、３．５、及び４．０の個々の数、並びにその範囲に包含される任意の他の数も含まれる。更に、例えば２．０〜４．０の範囲の開示には、例えば２．１〜３．５、２．３〜３．４、２．６〜３．７、及び３．８〜４．０の部分集合、並びにその範囲に包含される任意の他の部分集合も含まれる。同様に、マーカッシュ群の開示には、群全体と、その中に包含される任意の個々の要素及び部分集合も含まれる。例えば、マーカッシュ群、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基の開示は、個々のアルキルメンバー、アルキル及びアリールのサブグループ、並びにそこに包含される任意の他の個々のメンバー及びサブグループを含む。

「アルキル」とは、非環式、分枝状又は非分枝状の一価の飽和炭化水素基を意味する。アルキルは、限定するものではないが、メチル、エチル、プロピル、１−メチルエチル、ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ペンチル、１−メチルブチル、１−エチルプロピル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、及びデシル、並びに炭素原子数６以上の一価の分枝飽和炭化水素基が例示される。

「アラルキル」とは、ペンダント及び／又は末端アリール基を有するアルキル基、又はペンダントアルキル基を有するアリール基を意味する。アラルキル基の例としては、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、及びフェニルブチルが挙げられる。

「炭素環式化合物」及び「炭素環式」とは、それぞれ、炭化水素環を意味する。炭素環式化合物は単環式でもよく、あるいは、縮合環、架橋環、又はスピロ多環式環であってもよい。単環式の炭素環式化合物は、炭素原子数３〜９のものであってよく、炭素原子数４〜７のものであってもよく、あるいは炭素原子数５〜６のものであってもよい。多環式の炭素環式化合物は、炭素原子数７〜１７のものであってよく、炭素原子数７〜１４のものであってもよく、あるいは炭素原子数９〜１０のものであってもよい。炭素環式化合物は飽和又は部分不飽和であってよい。

「シクロアルキル」とは、飽和炭素環式化合物を意味する。単環式のシクロアルキル基は、シクロブチル、シクロペンチル、及びシクロヘキシルが例示される。

「ハロゲン化炭化水素」とは、炭素原子に結合した１つ以上の水素原子がハロゲン原子に形式上（formally）置換された炭化水素を意味する。ハロゲン化炭化水素基としては、ハロアルキル基、ハロゲン化炭素環基、及びハロアルケニル基が挙げられる。ハロアルキル基としては、フッ素化アルキル基（例えば、トリフルオロメチル、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル、及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチル）、及び塩素化アルキル基（例えば、クロロメチル及び３−クロロプロピル）が挙げられる。ハロゲン化炭素環基としては、フッ素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル、及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチル）、及び塩素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジクロロシクロプロピル、及び２，３−ジクロロシクロペンチル）が挙げられる。ハロアルケニル基としては、アリルクロリドが挙げられる。

「ヘテロ原子」とは、ＩＵＰＡＣ周期表（ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｉｕｐａｃ．ｏｒｇ／ｆｉｌｅａｄｍｉｎ／ｕｓｅｒ＿ｕｐｌｏａｄ／ｎｅｗｓ／ＩＵＰＡＣ＿Ｐｅｒｉｏｄｉｃ＿Ｔａｂｌｅ−１Ｊｕｎ１２．ｐｄｆ）の１３〜１７族の、炭素を除く任意の元素を意味する。「ヘテロ原子」としては、例えば、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、及びＩが挙げられる。

「ヘテロ原子含有基」とは、水素原子及び炭素原子からなり、かつ少なくとも１つのヘテロ原子を含む有機基を意味する。ヘテロ原子含有基は、例えば、１つ以上のアシル、アミド、アミン、カルボキシル、シアノ、エポキシ、ハロゲン、ヒドロカルボノオキシ、イミノ、ケトキシム、メルカプト、オキソ、酸素、オキシム、及び／又はチオールを含んでいてよい。例えば、ヘテロ原子含有基が１つ以上のハロゲン原子を含む場合、ヘテロ原子含有基は上記で定義されたハロゲン化炭化水素基であってもよい。あるいは、ヘテロ原子が酸素の場合、ヘテロ原子含有基は例えば、アルコキシ基及びアルキルアルコキシ基等のヒドロカルボノオキシ基であってもよい。

「ヘテロアルキル」基とは、少なくとも１つのヘテロ原子を含む非環式、分枝状又は非分枝状の一価の飽和炭化水素基を意味する。「ヘテロアルキル」としては、少なくとも１つの炭素原子がヘテロ原子（例えば、Ｎ、Ｏ、Ｐ、又はＳ）に置換されたハロアルキル基及びアルキル基が挙げられ、ヘテロ原子がＯの場合、ヘテロアルキル基はアルコキシ基であってもよい。

「複素環」及び「複素環式」とは、それぞれ、炭素原子及び１つ以上のヘテロ原子を環の中に含む環状基を意味する。複素環中のヘテロ原子はＮ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、又はこれらの組み合わせであってよい。複素環は単環式でもよく、あるいは、縮合環、架橋環、又はスピロ多環式環であってもよい。単環式複素環は、環の中に３〜９の構成原子を有してもよく、あるいは４〜７の構成原子を有してもよく、あるいは５〜６の構成原子を有してもよい。多環式複素環は、環の中に７〜１７の構成原子を有してもよく、あるいは７〜１４の構成原子を有してもよく、あるいは９〜１０の構成原子を有してもよい。複素環は飽和又は部分不飽和であってよい。

「複素芳香族」とは、炭素原子及び１つ以上のヘテロ原子を環の中に含む完全不飽和環含有基を意味する。複素芳香族としては、ピリジル等のヘテロアリール基が挙げられる。複素芳香族としては、ヘテロアラルキル（すなわち、ペンダント及び／又は末端ヘテロアリール基を有するアルキル基、又はペンダントアルキル基をもつヘテロアリール基）が挙げられる。ヘテロアラルキルの例としては、メチルピリジル及びジメチルピリジルが挙げられる。

「．．．を含まない」は、組成物がその成分を感知不可能な量しか含有しない、又は、その成分を含まない同じ組成物と比較したときに、実施例のセクションに記載のとおり測定される、目視による粘度を変化させるのに不十分な量でしかその成分を組成物が含有しないことを意味する。例えば、本明細書に記載の組成物は、スズ触媒を含まないものであり得る。「スズ触媒を含まない」は、組成物が、組成物中の他の成分の加水分解性基との縮合反応を触媒できるスズ触媒を感知不可能な量でしか含有しない、又は、スズ触媒を含まない同じ組成物と比較したときに、実施例のセクションに記載のとおり測定される目視による粘度を変化させるのに不十分な量でしか組成物がスズ触媒を含有しないことを意味する。組成物は、チタン触媒を含まないものであり得る。「チタン触媒を含まない」は、組成物が、組成物中の他の成分の加水分解性基との縮合反応を触媒できるチタン触媒を感知不可能な量でしか含有しない、又は、チタン触媒を含まない同じ組成物と比較したときに、実施例のセクションに記載のとおり測定される目視による粘度を変化させるのに不十分な量でしか組成物がチタン触媒を含有しないことを意味する。あるいは、本明細書に記載される組成物は、金属縮合反応触媒（本明細書に記載される成分（Ａ）を除く）を含まないものであってよい。「金属縮合反応触媒を含まない」とは、組成物が、縮合反応に触媒作用を及ぼすことができる、周期表（ｔｈｅ ＣＲＣ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ，６５^ｔｈ ｅｄ．，ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ，Ｉｎｃ．，Ｂｏｃａ Ｒａｔｏｎ，Ｆｌｏｒｉｄａ，１９８４の表紙裏に記載）の３ａ、４ａ、５ａ、又は４ｂ族の金属の化合物（例えば、Ａｌ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｔｉ、及び／又はＺｒの化合物）を感知不可能な量でしか含有せず、ここで、上記金属原子に結合するいずれの置換基も下記表１に記載の配位子とは異なることを意味する。あるいは、「金属縮合反応触媒を含まない」とは、その金属縮合反応触媒（成分（Ａ）を除く）を含まない同じ組成物と比較したときに、実施例のセクションに記載のとおり測定される目視による粘度を変化させるのに不十分な量しかその金属縮合反応触媒を組成物が含有しないことを意味する。この定義のため、「感知不可能な量」は、例えばＡＳＴＭ Ｄ７１５１−０５ ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ原子発光分析）による絶縁油中の元素測定のための標準試験方法（Standard Test Method for Determination of Elements in Insulating Oils by Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometry（ＩＣＰ−ＡＥＳ））に記載の方法に従って測定されてよい。

「非官能性」とは、成分（例えば、ポリオルガノシロキサン）が縮合反応に関与する加水分解性基をもたないことを意味する。

本明細書において使用される略語は下記に定義される。略語「ｃＰ」とは、センチポアズを意味する。「ＤＰ」とは、ポリマーの重合度を意味する。「ＦＴＩＲ」とは、フーリエ変換赤外分光分析を意味する。「ＧＰＣ」とは、ゲル浸透クロマトグラフィーを意味する。「Ｍｎ」とは、数平均分子量を意味する。Ｍｎは、ＧＰＣを使用して測定され得る。「Ｍｗ」とは、重量平均分子量を意味する。「ＮＭＲ」とは、核磁気共鳴を意味する。「Ｍｅ」とは、メチルを意味する。「Ｅｔ」とは、エチルを意味する。「Ｐｈ」とは、フェニルを意味する。「Ｐｒ」とは、プロピルを意味し、ｉＰｒ及びｎＰｒ等の様々な構造を含む。「ｉＰｒ」とは、イソプロピルを意味する。「ｎＰｒ」とは、ノルマルプロピルを意味する。「Ｂｕ」とは、ブチルを意味し、ｎＢｕ、２級ブチル、ｔＢｕ、及びｉＢｕ等の様々な構造を含む。「ｉＢｕ」とは、イソブチルを意味する。「ｎＢｕ」とは、ノルマルブチルを意味する。「ｔＢｕ」とは、三級ブチルを意味する。

少なくとも１つの縮合反応可能な成分（組成物）を有する組成物は、
（Ａ）チタン含有縮合反応触媒、及び
（Ｂ）１分子当たり平均で１つ以上の加水分解性置換基を有するケイ素含有ベースポリマー（ベースポリマー）を含む。理論に縛られることを望むものではないが、Ｔｉ含有縮合反応触媒は、ベースポリマーの縮合反応に対し触媒作用を及ぼすのに効果的であると特徴づけることができると考えられる。ベースポリマーは縮合反応可能な加水分解性置換基を有する。ベースポリマーの縮合反応は反応生成物を調製する。この組成物は、場合により、１つ以上の追加の成分を更に含み得る。１つ以上の追加の成分は、成分（Ａ）及び（Ｂ）とは異なる。好適な追加の成分は、（Ｃ）架橋剤；（Ｄ）乾燥剤；（Ｅ）増量剤、可塑剤又はこれらの組み合わせ；（Ｆ）充填剤；（Ｇ）充填剤処理剤；（Ｈ）殺生物剤；（Ｊ）難燃剤；（Ｋ）表面改質剤；（Ｌ）鎖延長剤；（Ｍ）末端封鎖剤；（Ｎ）非反応性結合剤；（Ｏ）老化防止添加剤；（Ｐ）水放出剤；（Ｑ）顔料；（Ｒ）レオロジー添加剤；（Ｓ）賦形剤（例えば溶媒及び／又は希釈剤）；（Ｔ）粘着付与剤；（Ｕ）腐食防止剤；並びにこれらの組み合わせにより例示される。

成分（Ａ）は触媒的に有効量のチタン含有縮合反応触媒を含む。このチタン含有縮合反応触媒は、Ｔｉ前駆体と配位子との反応生成物を含む。理論に縛られることを望むものではないが、Ｔｉ−配位子錯体をこの反応生成物は含んでいると考えられる。Ｔｉ前駆体は、Ｔｉ前駆体と配位子との反応生成物とは異なる。Ｔｉ前駆体は、Ｔｉ前駆体と配位子との反応により調製されるＴｉ−配位子錯体とは異なる。

Ｔｉ前駆体は、Ｔｉの有機化合物であり、一般式（ｉ）：Ｔｉ−Ａ_４（式中、Ａはそれぞれ独立して置換可能な置換基である）を有する。Ａはそれぞれ一価の有機基であってよい。Ａの一価の有機基の例としては、一価の炭化水素基、アミノ基、シラザン基、カルボン酸エステル基及びヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。あるいは、Ａは炭化水素基及びヒドロカルボノオキシ基からなる群より選ばれてもよい。

Ａの一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル及びシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル基（例えば、ベンジル及び２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａはそれぞれベンジル等のアラルキル基であってもよい。

Ａのアミノ基の例としては、式−ＮＡ’_２を有するものが挙げられ、式中、Ａ’はそれぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基である。Ａ’の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、及び飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル、シクロペンタジエニル及びシクロオクタジエニル等の不飽和炭素環基）、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル及び２−フェニルエチル）に例示される炭素環基が挙げられる。あるいは、Ａ’はそれぞれ水素原子、又はメチル若しくはエチル等の炭素原子数１〜４のアルキル基であってもよい。

あるいは、一般式（ｉ）のＡはそれぞれシラザン基であってもよい。

あるいは、一般式（ｉ）のＡはそれぞれカルボン酸エステル基であってもよい。適切なＡのカルボン酸エステル基の例としては、限定するものではないが、エチルヘキサン酸（例えば、２−エチルヘキサン酸）、ネオデカン酸、オクタン酸、及びステアリン酸が挙げられる。

Ａの一価のヒドロカルボノオキシ基の例は、式−Ｏ−Ａ”を有するものでもよく、式中、Ａ”は一価の炭化水素基である。Ａ”の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エチルヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル及びヘキセニル）、シクロアルキル（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル）、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル、及びナフチル）、並びにアラルキル（例えば、ベンジル及び２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ”はそれぞれ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、又はｔ−ブチル等のアルキル基であってもよい。あるいは、Ａ”はそれぞれアルキル基であってよく、又は、Ａ”はそれぞれエチル、イソ−プロピル又はｎ−プロピル等のプロピル、又はブチルであってもよい。あるいは、Ａ”はそれぞれエチルであってもよい。

あるいは、Ａはそれぞれ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、又はｔ−ブチル等のアルキル基であってもよい。あるいは、Ａはそれぞれ、エチル、ベンジル、メシチル、フェニル、−ＮＥｔ_２、シクロオクタジエン、エトキシド、イソ−プロポキシド、ブトキシド、２−エチルヘキサン酸、ネオデカン酸、オクタン酸、及びステアリン酸からなる群より選ばれてもよい。

前駆体としての使用が適切なＴｉの有機化合物は、市販されている。例えば、Ｔｉ前駆体は、チタン（ＩＶ）エトキシド、チタン（ＩＶ）イソプロポキシド、チタン（ＩＶ）ｎ−ブトキシド、又はチタン（ＩＶ）ｔ−ブトキシド等のチタンのアルコキシドであることができる。このようなチタンアルコキシドは市販されている。例えば、チタン（ＩＶ）エトキシド及びチタン（ＩＶ）イソプロポキシドは、Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ．（Ｎｅｗｂｕｒｙｐｏｒｔ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から入手可能である。チタン（ＩＶ）ｎ−ブトキシド及びチタン（ＩＶ）ｔ−ブトキシドはＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，Ｍｉｓｓｏｕｒｉ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）より入手可能である。Ｔｉ（ＮＭｅ_２）_４及びＴｉ（ＮＥｔ_２）_４等のチタンのアミノ化合物もまた、Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．より市販されている。成分（Ａ）は、ＭＣＡＴ ＧｍｂＨ（Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔａｔｓｓｔｒａｓｓｅ １０，７８４５７ Ｋｏｎｓｔａｎｚ，Ｇｅｂａｕｄｅ Ｌ，Ｇｅｒｍａｎｙ）より市販されているテトラベンジルチタン等のチタンのアラルキル化合物を含んでもよい。

配位子は、Ｔｉと配位する有機化合物である。この有機化合物は中性形態と共役塩基形態を含む。理論に縛られることを望むものではないが、配位子は、上記一般式（ｉ）のＴｉ前駆体中の、置換可能な１つ以上の置換基Ａの例に置き換わり、成分（Ａ）の反応生成物を形成すると考えられる。

配位子は一般式（ｉｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｉｉ）において、Ｑ^１はＯ及びＳから選択されるヘテロ原子である。Ｑ^２は、Ｏ、Ｎ、Ｐ及びＳから選択されるヘテロ原子である。下付き文字ｘは、Ｑ^２として選ばれたヘテロ原子の価数により、１〜５の整数であり、あるいは１〜２の整数である。あるいは、Ｑ^１はＯであってもよい。あるいは、Ｑ^２はＯ又はＮであってもよい。あるいは、Ｑ^２はＮであってもよい。

一般式（ｉｉ）において、Ａ^１はＨ又は一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。あるいは、Ａ^１はＨ又はアルキルであってもよい。あるいは、Ａ^１はＨ又はＭｅであってもよい。

一般式（ｉｉ）において、Ａ^２はＨ又は一価の有機基であるが、但し、Ｑ^２がＳである場合、Ａ^２はメチル基以外の一価の炭化水素基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、複素芳香族基、ヒドロカルボノオキシ基、及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

一般式（ｉｉ）において、Ａ^３は、Ｈ、ハロゲン原子、及び一価の有機基から選択されるが、但し、Ａ^３はＭｅではない。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。あるいは、Ａ^３はＨである。

一般式（ｉｉ）において、Ａ^４、Ａ^５、及びＡ^６はそれぞれ独立してＨ、ハロゲン原子、及び一価の有機基から選択される。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。あるいは、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５、及びＡ^６のうち２つは、互いに結合してアリール、アラルキル、又は複素芳香族等の縮合環構造を形成してもよい。あるいは、Ａ^６はアリール又はアラルキルである。あるいは、Ａ^４はアルキル又はアラルキルである。あるいは、Ａ^５はＨ又はハロゲン原子である。一般式（ｉｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子１、６、７、１７、２５、２６、２７、３０、３１、３３、３４、３８、５５、６３、６４、６９、７０、及び７５が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｉｉｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｉｉｉ）において、Ｑ^３はＯ及びＳから選択されるヘテロ原子である。一般式（ｉｉｉ）に示されている炭素−炭素結合はそれぞれ単結合又は二重結合である。

一般式（ｉｉｉ）において、Ａ^７はそれぞれ独立してＨ、ハロゲン原子、及び一価の有機基から選択される。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ基及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

一般式（ｉｉｉ）において、Ａ^８は、一価の炭化水素基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、及び式：

で表わされる一価の有機基（式中、^＊は、一般式（ｉｉｉ）中の窒素原子に結合する位置を示す）から選択され、Ｑ^３、Ａ^７、Ａ^８、Ａ^９、Ａ^１０、及びＡ^１１は本明細書で定義されている通りである。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環基が挙げられる。

一般式（ｉｉｉ）において、Ａ^９、Ａ^１０、及びＡ^１１はそれぞれ独立してＨ、ハロゲン原子、及び一価の有機基から選択される。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環基が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。あるいは、Ａ^１０及びＡ^１１は、互いに結合してアリール基、アラルキル基、複素環基、又は複素芳香族基等の環構造を形成していてもよい。一般式（ｉｉｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子２、８、１３、１４、３３、４６、５２、８６、及び８７が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｉｖ）：

を有してもよい。

一般式（ｉｖ）において、Ｑ^４、Ｑ^５、及びＱ^６はそれぞれ独立してＮ、Ｏ、及びＳから選択されるヘテロ原子である。一般式（ｉｖ）に示されている炭素−炭素結合はそれぞれ単結合又は二重結合である。

一般式（ｉｖ）において、Ａ^１４及びＡ^１５はそれぞれ独立して水素原子及び一価の有機基から選択される。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

一般式（ｉｖ）において、Ａ^１６、Ａ^１７、Ａ^１８、及びＡ^１９はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、及び一価の有機基から選択されるが、但し、あるいはＡ^１７及びＡ^１８は互いに結合して、Ｑ^５と共に、複素環基又は複素芳香族基を形成してもよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

一般式（ｉｖ）において、Ａ^２０は、存在しない（例えば、Ｑ^５がＯ又はＳの場合）か、水素原子及び一価の有機基から選択される。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。一般式（ｉｖ）の配位子の例としては、表１に示される配位子４、５、７、２１、３２及び６３が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｖ）：

を有してもよい。

一般式（ｖ）において、Ａ^２１は二価の有機基である。Ａ^２１は炭化水素基であってよく、又はＡ^２１はヘテロ原子含有基であってもよい。Ａ^２１が炭化水素基である場合、Ａ^２１はアリーレン基、アルカリーレン基、又は炭素原子数２〜１２のアルキレン基であってよい。Ａ^２１がヘテロ原子含有基である場合、Ａ^２１は複素芳香族基であってよい。適切な二価の炭化水素基としては、アルキレン、アリーレン、アラルキレン、及びシクロヒドロカルビレンが挙げられる。適切な二価のヘテロ原子含有基としては、二価のヒドロカルボノオキシ及び二価のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。一般式（ｖ）の配位子の例としては、表１に示される配位子１９、２３、２４、８２及び８５が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｖｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｖｉ）において、下付き文字ａは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、あるいは０〜１の整数である。

一般式（ｖｉ）において、Ａ^２２は一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

一般式（ｖｉ）において、Ａ^２３は一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

一般式（ｖｉ）において、−−−Ａ^２４は、ピリジン環中の炭素原子に結合した置換基を表す。Ａ^２４はハロゲン原子又は一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。一般式（ｖｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子２８、２９、３０、及び６２が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｖｉｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｖｉｉ）において、下付き文字ｂは０〜３、あるいは０〜２、あるいは０〜１の整数であって、−−−Ａ^２５はフェニル環中の炭素原子に結合した置換基を表す。Ａ^２５はハロゲン原子又は一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

一般式（ｖｉｉ）において、Ｑ^７はＯ及びＳから選択されるヘテロ原子である。Ｑ^８はＯ、ＮＨ、Ｓ、及びＰから選択される。

一般式（ｖｉｉ）において、Ａ^２６はＨ又は一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。あるいは、Ａ^２６はＨ、アルキル基、及びアリール基から選択される。

一般式（ｖｉｉ）において、Ａ^２７はＨ又は一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。あるいは、Ａ^２７はＨ、アルキル基、アラルキル基、及びアラルキル基から選択されてもよい。

一般式（ｖｉｉ）において、Ａ^２８はＨ、一価の炭化水素基、又はＮを含有しない一価のヘテロ原子含有基である。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

一般式（ｖｉｉ）において、Ａ^２７及びＡ^２８はＱ^８を含む複素環基を形成してもよく、又はＱ^８を含む複素芳香族基を形成してもよいが、但し、Ｑ^８がＯの場合、環構造中の追加のヘテロ原子はＮＨ、Ｓ、Ｏ、及びＰから選択されてもよく、すなわち、Ｑ８に加えて、Ｎが上記環中のヘテロ原子である場合、Ｎに結合する環中の２つの結合は単結合であり、このＮは更に水素原子と結合する。一般式（ｖｉｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子１１、２２、４１、４２、４７、４８、４９、５３、５６、７６、７７及び８１が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｖｉｉｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｖｉｉｉ）において、Ｑ^９及びＱ^１０はヘテロ原子であり、それぞれ独立してＯ及びＳから選択される。

一般式（ｖｉｉｉ）において、Ａ^２９及びＡ^３２はそれぞれ独立してＨ及び一価の有機基から選択される。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。あるいは、Ａ^２９及びＡ^３２は、それぞれ独立してＨ、アルキル基、アラルキル基、及びアラルキル基から選択されてもよい。

一般式（ｖｉｉｉ）において、Ａ^３０及びＡ^３１はそれぞれ、炭素原子数が１以上の二価の有機置換基であるが、但し、Ａ^３０及びＡ^３１は、アリール基、アラルキル基、又は複素芳香族（heteroatomatic）基等の環構造の構成原子であってもよいが、但し、Ａ^３０及びＡ^３１は三級アミンではなく、またフェニルメチルケトン官能性を含まない。Ａ^３０とＡ^３１との間の結合は単結合又は二重結合であってもよく、また、任意で環構造の一部としてもよい。一般式（ｖｉｉｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子９、１０、２２、３７、３９、４３、４４、４５、５５、６０、６５、及び６６が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｉｘ）：

を有してもよい。

一般式（ｉｘ）において、Ｑ^１１及びＱ^１２はヘテロ原子を表す。Ｑ^１１及びＱ^１２は、それぞれ独立してＯ及びＳから選択される。

一般式（ｉｘ）において、Ａ^３３は一価の芳香族基；共役複素芳香族基（但し、前記共役複素芳香族基中のヘテロ原子はＯ及びＮから選択される）、又は縮合複素芳香族基（但し、前記縮合複素芳香族基中のヘテロ原子はＯ及びＳから選択される）である。一般式（ｉｘ）の配位子の例としては、表１に示される配位子１２、１５、１８、３６、５９、８３、及び８４が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘ）：

を有してもよい。

一般式（ｘ）において、Ｑ^１３はＮ、Ｏ、Ｐ及びＳから選択されるヘテロ原子である。Ａ^３４、Ａ^３５、Ａ^３６、及びＡ^３７はそれぞれ独立してＨ又は一価の有機基であるが、但し、Ａ^３４、Ａ^３５、Ａ^３６、及びＡ^３７のうち２つは互いに結合して、炭素環、アリール基、アラルキル基、複素芳香族基等の環構造を形成してもよい。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。一般式（ｘ）の配位子の例としては、表１に示される配位子５１、５８、６１、７９、及び８０が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｉ）において、

は単結合又は二重結合を表す。Ｑ^１４は、Ｏ、Ｐ及びＳから選択されるヘテロ原子である。Ｑ^１４に選ばれたヘテロ原子の価数によって、また、Ｑ^１４と炭素原子との間の結合が単結合か二重結合かによって、Ａ^４０は存在しないか、又は水素原子である。

一般式（ｘｉ）において、Ａ^３８及びＡ^３９はそれぞれ独立してＨ又は一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。あるいは、Ａ^３８及びＡ^３９はそれぞれ独立して、Ｈ、アルキル、アリール、アラルキル、及び複素芳香族基から選択されてもよい。一般式（ｘｉ）の配位子としては、表１に示される３５、７１、及び７４が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｉｉｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｉｉｉ）において、Ａ^４２及びＡ^４３はそれぞれ独立してＨ及び一価の炭化水素基から選択される。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。あるいは、Ａ^４２はＨであってもよい。あるいは、Ａ^４３はアリール又はアラルキルであってもよい。

一般式（ｘｉｉｉ）において、Ａ^４１はＨ及び一価の有機基から選択される。Ａ^４１の一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。あるいは、Ａ^４１はアルキル基、アリール基、又はアラルキル基であってもよい。一般式（ｘｉｉｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子２０が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｉｖ）：を有してもよい。

一般式（ｘｉｖ）において、Ａ^４５は一価の有機基である。Ａ^４５の一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。は、一価の炭化水素基である。Ａ^４５の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^４５の一価の炭化水素基は、フェニル等のアリール基又はベンジル等のアラルキル基であってもよい。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。あるいは、Ａ^４５はそれぞれ複素環基又は複素芳香族基であってもよい。

一般式（ｘｉｖ）において、Ａ^４６はそれぞれ独立してＨ又は一価の有機基である。Ａ^４６の一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。は、一価の炭化水素基である。Ａ^４６の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^４６の一価の炭化水素基は、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ等のアルキル基であってもよい。Ａ^４６の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^４６の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^４６のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシによって例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。あるいは、Ａ^４６はそれぞれＨであってもよい。

一般式（ｘｉｖ）において、Ａ^４７はそれぞれ独立して一価の有機基であり、下付き文字ｃは０〜５、あるいは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、あるいは０〜１の整数である。Ａ^４７の一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。は、一価の炭化水素基である。Ａ^４７の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^４７の一価の炭化水素基は、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ等のアルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^４７はそれぞれＰｒであってもよい。Ａ^４７の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^４７の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^４７のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。一般式（ｘｉｖ）の配位子の例としては、表１に示される配位子２０が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｖ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｖ）において、Ｑ^１５はＮＨ、Ｏ、及びＳから選択される。あるいは、Ｑ^１５はＮＨである。

一般式（ｘｖ）において、Ａ^４８は一価の有機基である。Ａ^４８の一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。Ａ^４８の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^４８の一価の炭化水素基は、Ｐｈ等のアリール基又はベンジル等のアラルキル基であってもよい。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ基及びハロゲン化炭化水素基、並びにフェニルメチルケトン等のケトン基が挙げられる。

一般式（ｘｖ）において、Ａ^４９は一価の有機基である。Ａ^４９の一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。適切な一価の炭化水素基としては、アルキル、アリール、アラルキル、及び炭素環が挙げられる。あるいは、Ａ^４９の一価の炭化水素基は、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ等のアルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^４９はＭｅであってもよい。適切な一価のヘテロ原子含有基としては、ヒドロカルボノオキシ及びハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

一般式（ｖｉｉｉ）において、Ａ^５０は一価の炭化水素基である。Ａ^５０の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^５０は、炭素原子数１〜４のアルキル基等のアルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^５０はそれぞれＨであってもよい。Ａ^５０の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^５０の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^５０のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。

あるいは、配位子は一般式（ｘｖｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｖｉ）において、Ｑ^１６はＣ、Ｏ、及びＳから選択される。Ｑ^１７はＣ及びＮから選択される。五員環は、飽和、部分不飽和、又は完全不飽和であってよい。

一般式（ｘｖｉ）において、Ａ^５１は一価の有機基である。Ａ^５１の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^５１はＰｈ等のアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^５１はそれぞれ、２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、又は３，５−ジメチルフェニル等のアラルキル基であってもよい。

Ａ^５１の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^５１の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^５１のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。あるいは、Ａ^５１はアルキル又はアラルキルであってもよい。

一般式（ｘｖｉ）において、Ａ^５２及びＡ^５５はそれぞれ独立して、存在しないか（すなわち、環が不飽和である、及び／又は、ヘテロ原子の原子価が満たされている場合）、又は一価の炭化水素基から選択される。Ａ^５２及び／又はＡ^５５の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^５２及び／又はＡ^５５は存在しなくてもよく、又はＭｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、及びＢｕから選択されるアルキル基であってもよい。一般式（ｘｖｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子７９及び８０が挙げられる。

一般式（ｘｖｉ）において、Ａ^５３及びＡ^５４はそれぞれ独立して一価の有機基から選択される。適切な一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。一価の炭化水素基としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^５３及び／又はＡ^５４は、Ｐｈ等のアリール、又はフェニルメトキシ等のアラルコキシであってもよい。

一般式（ｘｖｉ）において、Ａ^５６はＨ又は一価の炭化水素基である。Ａ^５６の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^５６は、炭素原子数１〜６のアルキル基等のアルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^５６は炭素環基であってもよい。あるいは、Ａ^５６は、シクロヘキシル等のシクロアルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^５６は、ベンジル等のアラルキル基であってもよい。あるいは、Ａ^５６は水素原子であってもよい。一般式（ｘｖｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子７９及び８０が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｖｉｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｖｉｉ）において、Ａ^５７及びＡ^５８はそれぞれ単結合又は二重結合によりＰに結合し、Ａ^５９はフェニル環中の炭素原子に結合した置換基を表す。Ａ^５７及びＡ^５８はそれぞれ独立して、ＯＨ、Ｏ（すなわち、上記結合がＰ原子への二重結合である場合）、及び一価の有機基から選択される。Ａ^５９は一価の有機基である。下付き文字ｅは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、あるいは０〜１の整数であり、あるいは下付き文字ｅは０である。

一般式（ｘｖｉｉ）において、Ａ^５７、Ａ^５８、及びＡ^５９の一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってもよい。一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^５７、Ａ^５８、及び／又はＡ^５９は、Ｐｈ等のアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^５７、Ａ^５８、及び／又はＡ^５９はそれぞれ、２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、又は３，５−ジメチルフェニル等のアラルキル基であってもよい。

Ａ^５７、Ａ^５８、及び／又はＡ^５９の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^５７、Ａ^５８、及び／又はＡ^５９の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^５７、Ａ^５８、及び／又はＡ^５９のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。一般式（ｘｖｉｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子１２が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｖｉｉｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｖｉｉｉ）において、下付き文字ｆは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、あるいは０〜１の整数であり、あるいは下付き文字ｆは０である。Ａ^６０はそれぞれ独立して一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。Ａ^６０の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^６０はＭｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ等のアルキル基であってもよい。

Ａ^６０の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^６０の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^６０のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。一般式（ｘｖｉｉｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子１５が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｉｘ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｉｘ）において、下付き文字ｇは、Ｑ^１８に選ばれる原子の価数により、０又は１であり、Ｑ^１８はＣ及びＮから選択される。Ｑ^１９はＳ及びＯから選択される。Ｑ^２０はＳＨ及びＯＨから選択される。

一般式（ｘｉｘ）において、Ａ^６１、Ａ^６２、及びＡ^６３はそれぞれ独立してＨ又は一価の有機基であるが、但し、あるいはＡ^６２及びＡ^６３は互いに結合して縮合複素環基又はＱ^１８を含有する五員環と共に縮合複素芳香族基を形成してもよい。Ａ^６１、Ａ^６２、及び／又はＡ^６３の一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってもよい。一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^６１、Ａ^６２、及び／又はＡ^６３（又は、互いに結合している場合は、Ａ６２及びＡ６３の組み合わせ）は、Ｐｈ等のアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^６１、Ａ^６２、及び／又はＡ^６３はそれぞれ、２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、又は３，５−ジメチルフェニル等のアラルキル基であってもよい。

Ａ^６１、Ａ^６２、及び／又はＡ^６３の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^６１、Ａ^６２、及び／又はＡ^６３の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^６１、Ａ^６２、及び／又はＡ^６３のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。Ａ^６２及びＡ^６３が互いに結合している場合、上述のとおり、それらは炭素環基、芳香族基、複素環基、又は複素芳香族基を形成してもよいが、縮合して五員複素環を形成する。一般式（ｘｉｘ）の配位子の例としては、表１に示される配位子１８及び３６が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｘ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｘ）において、下付き文字ｈは０〜５、あるいは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、あるいは０〜１の整数である。Ａ^６４はそれぞれ独立して、ハロゲン原子、ＯＨ、及び一価の有機基から選択される。ハロゲン原子はＢｒ、Ｃｌ、Ｆ、又はＩであってもよく、あるいはＢｒ、Ｃｌ、又はＦであってもよく、あるいはＣｌ又はＦであってもよい。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。Ａ^６４の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^６４は、Ｐｈ又はナフチル等のアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^６４はそれぞれ、２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、又は３，５−ジメチルフェニル等のアラルキル基であってもよい。

Ａ^６４の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^６４の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^６４のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。あるいは、Ａ^６４はそれぞれ独立して、Ｆ、ＯＨ、Ｍｅ、ｔＢｕ、及びナフチルから選択される。一般式（ｘｘ）の配位子の例としては、表１に示される配位子５９、８３及び８４が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｘｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｘｉ）において、Ａ^６５及びＡ^６６はそれぞれ独立して一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。Ａ^６５及び／又はＡ^６６の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^６５及び／又はＡ^６６は、Ｐｈ等のアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^６５及び／又はＡ^６６はそれぞれ、２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、又は３，５−ジメチルフェニル等のアラルキル基であってもよい。

Ａ^６５及び／又はＡ^６６の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^６５及び／又はＡ^６６の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^６５及び／又はＡ^６６のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。一般式（ｘｘｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子４５が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｘｉｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｘｉｉ）において、Ａ^６７、Ａ^６８、及びＡ^６９はそれぞれ独立して一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。Ａ^６７、Ａ^６８、及び／又はＡ^６９の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^６７、Ａ^６８、及び／又はＡ^６９は、Ｐｈ等のアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^６７、Ａ^６８、及び／又はＡ^６９は、２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、又は３，５−ジメチルフェニル等のアラルキル基であってもよい。

Ａ^６７、Ａ^６８、及び／又はＡ^６９の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^６７、Ａ^６８、及び／又はＡ^６９の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^６７、Ａ^６８、及び／又はＡ^６９のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。一般式（ｘｘｉｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子４３が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｘｉｉｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｘｉｉｉ）において、Ｑ^２０及びＱ^２１はそれぞれ独立してＮ及びＯから選択される。Ｑ^２０がＯの場合、Ａ^７１は存在しない。Ａ^７４は、部分飽和又は完全飽和していてよい、五員環構造を表す。

一般式（ｘｘｉｉｉ）において、Ａ^７０は一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。Ａ^７０の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^７０はＰｈ等のアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^７０はそれぞれ、２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、又は３，５−ジメチルフェニル等のアラルキル基であってもよい。

Ａ^７０の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^７０の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^７０のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。

一般式（ｘｘｉｉｉ）において、Ａ^７１は存在しないか、又は一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。Ａ^７１の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^７１はＰｈ等のアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^７１はそれぞれ、２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、又は３，５−ジメチルフェニル等のアラルキル基であってもよい。

Ａ^７１の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^７１の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^７１のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。

一般式（ｘｘｉｉｉ）において、Ａ^７２は一価の炭化水素基である。Ａ^７２の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^７２はＭｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ等のアルキル基であってもよく、あるいはＭｅであってもよい。

一般式（ｘｘｉｉｉ）において、下付き文字ｉは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、あるいは０〜１の整数である。Ａ^７３はそれぞれ独立して一価の有機基である。一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。Ａ^７３の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^７３はＰｈ等のアリール基であってもよい。あるいは、Ａ^７３はそれぞれ、２−フェニルメチル、２−メチルフェニル、又は３，５−ジメチルフェニル等のアラルキル基であってもよい。

Ａ^７３の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^７３の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^７３のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。一般式（ｘｘｉｉｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子４１及び７７が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｘｉｖ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｘｉｖ）において、Ｑ^２２及びＱ^２３はそれぞれ独立して、Ｏ及びＳから選択される。下付き文字ｊは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、あるいは０〜１の整数であり、あるいは下付き文字ｊは３である。下付き文字ｋは０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、あるいは０〜１の整数であり、あるいは下付き文字ｋは０である。

一般式（ｘｘｉｖ）において、Ａ^７４はＨ及び一価の有機基から選択される。Ａ^７６及びＡ^７７はそれぞれ独立して一価の有機基である。

一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。Ａ^７５、Ａ^７６、及び／又はＡ^７７の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^７５、Ａ^７６、及び／又はＡ^７７は、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ等のアルキル基であってもよく、あるいはＭｅであってもよい。

Ａ^７５、Ａ^７６、及び／又はＡ^７７の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^７５、Ａ^７６、及び／又はＡ^７７の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^７５、Ａ^７６、及び／又はＡ^７７のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。一般式（ｘｘｉｖ）の配位子の例としては、表１に示される配位子８１が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｘｖ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｘｖ）において、

は単結合又は二重結合を表す。Ｑ^２４はＯ及びＳから選択される。あるいは、Ｑ^２４はＯである。Ｑ^２５、Ｑ^２６、及びＱ^２７はそれぞれ独立して、Ｃ、Ｎ、Ｏ、及びＳから選択される。あるいは、Ｑ^２５は、Ｃ、Ｎ、及びＯから選択されてもよい。あるいは、Ｑ^２６は、Ｃ、Ｎ、及びＯから選択されてもよい。あるいは、Ｑ^２６は、Ｃ及びＮから選択されてもよい。あるいは、Ｑ^２７は、Ｃ、Ｎ、及びＯから選択されてもよい。

一般式（ｘｘｖ）において、Ａ^７８はそれぞれ独立して、Ｈ及び一価の有機基から選択される。Ａ^７９は、（Ｑ^２５の価数により）存在しないか、Ｈ及び炭素原子数２以上の一価の有機基から選択される。Ａ^８０及びＡ^８１はそれぞれ独立して、（Ｑ^２６及びＱ^２７それぞれの価数により）存在しないか、Ｈ又は一価の有機基から選択される。Ａ^８２及びＡ^８３はそれぞれ独立して、一価の有機基であるが、但し、あるいはＡ^８２及びＡ^８３は互いに結合して、炭素環基、アリール基、アラルキル基、複素芳香族基、又は複素環基等の環構造を形成してもよい。Ａ^８２及びＡ^８３が互いに結合する場合、配位子は一般式（ｘｘｖｉ）：

（式中、下付き文字ｍは、０〜４、あるいは０〜３、あるいは０〜２、あるいは０〜１の整数であり、Ａ^８４はそれぞれ独立して一価の有機基）を有してもよい。

Ａ^７８、Ａ^８０、Ａ^８１、Ａ^８２、Ａ^８３、及び／又はＡ^８４に適切な一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基が挙げられる。Ａ^７８、Ａ^８０、Ａ^８１、Ａ^８２、Ａ^８３及び／又はＡ^８４の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^７８、Ａ^８０、Ａ^８１、Ａ^８２、Ａ^８３及び／又はＡ^８４は、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ等のアルキル基であってもよく、あるいはＭｅであってもよい。あるいは、Ａ^８０は、シクロアルキル、アリール、及びアラルキルから選択されてもよい。

Ａ^７８、Ａ^８０、Ａ^８１、Ａ^８２、Ａ^８３、及び／又はＡ^８４の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^７８、Ａ^８０、Ａ^８１、Ａ^８２、Ａ^８３、及び／又はＡ^８４の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^７８、Ａ^８０、Ａ^８１、Ａ^８２、Ａ^８３、及び／又はＡ^８４のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。あるいは、Ａ^７８はＨ及びＭｅから選択されてもよい。あるいは、Ａ^７８はＨであってもよい。あるいは、Ａ^８０は存在しないか、シクロヘキシル等の炭素環、Ｐｈ等のアリール、及びエトキシ等のアルコキシから選択されてもよい。あるいは、Ａ^８１は存在しないか、Ｈから選択されてもよい。

一般式（ｘｘｖ）において、Ａ^７９は炭素原子数２以上の一価の有機基であってもよい。Ａ^７９の適切な一価の有機基は、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基であってよい。Ａ^７９の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^７９は、シクロアルキル、アリール、及びアラルキルから選択されてもよい。

Ａ^７９の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^７９の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^７９のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。あるいは、Ａ^７９は存在しないか、フェニル等のアリール、及び

等のハロゲン化フェニルから選択されてもよい。一般式（ｘｘｖ）の配位子の例としては、表１に示される配位子５０、５４、５７、６７、６８、７２、及び７８が挙げられる。

あるいは、配位子は一般式（ｘｘｖｉ）：

を有してもよい。

一般式（ｘｘｖｉ）において、Ａ^８５及びＡ^８６はそれぞれ独立して一価の有機基である。Ａ^８５及び／又はＡ^８６に適切な一価の有機基としては、一価の炭化水素基又は一価のヘテロ原子含有基が挙げられる。Ａ^８５及び／又はＡ^８６の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、Ｂｕ、ペンチル、又はヘキシル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、プロペニル、及びヘキセニル）、飽和炭素環基（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル）又は不飽和炭素環基（例えば、シクロペンタジエニル又はシクロオクタジエニル）に例示される炭素環基、アリール（例えば、Ｐｈ、トリル、キシリル、メシチル、及びナフチル）、及びアラルキル（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）が挙げられる。あるいは、Ａ^８５及び／又はＡ^８６は、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ、又はＢｕ等のアルキル基であってもよく、あるいはＭｅであってもよい。あるいは、Ａ^８５は、シクロアルキル、アリール、及びアラルキルから選択されてもよい。

Ａ^８５及び／又はＡ^８６の一価のヘテロ原子含有基の例としては、ハロゲン化炭化水素基又はヒドロカルボノオキシ基が挙げられる。Ａ^８５及び／又はＡ^８６の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、フッ素化アルキル基（例えば、ＣＦ_３、フルオロメチル、トリフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、及び４，４，４−トリフルオロブチル）、及びクロロメチル等の塩素化アルキル基等のハロアルキル基が挙げられる。Ａ^８５及び／又はＡ^８６のヒドロカルボノオキシ基の例としては、アルコキシ及びアラルキルオキシが挙げられる。アルコキシ基はＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ、及びＯＢｕに例示され、あるいはＯＭｅに例示される。アラルキルオキシ基はフェニルメトキシ及びフェニルエトキシに例示される。あるいは、一価のヘテロ原子含有基は、環中の炭素原子に結合した１つ以上の置換基を有するアリール基又はアラルキル基であってもよく、この場合、その１つ以上の置換基はヘテロ原子（例えば、上述のアラルキルオキシ、又は

（式中、^＊は結合の位置を示す）等の基）を含む。あるいは、Ａ^８５及び／又はＡ^８６はそれぞれ独立して、複素芳香族基、アラルキルオキシ基、又は

から選択される基でもよい。一般式（ｘｘｖｉ）の配位子の例としては、表１に示される配位子７３が挙げられる。

成分（Ａ）の調製に使用が適切な配位子例の中性型を下記表１に示す。

あるいは、配位子は、前駆体の選択も含む様々な要因によって選択されてもよい。例えば、前駆体が、チタン（ＩＶ）エトキシド等のチタンのアルコキシドである場合、上記配位子は、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３２、３３、３５、３７、３８、３９、４０、４１、４２、４３、４４、４６、４７、４８、４９、５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９、６０、６１、６２、６３、６４、６５、６６、６７、６８、６９、７０、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７、７８、７９、８０、８１、８２、８３、８４、８５、８６、８７、及び８８（上記表１に示される）からなる群より選ばれる配位子であってもよい。あるいは、上記配位子は、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１６、１７、１９、２０、２１、２２、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３２、３３、３５、３７、３８、３９、４０、４１、４２、４３、４４、４６、４７、４８、４９、５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９、６０、６１、６２、６３、６４、６５、６６、６７、６８、６９、７０、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７、７８、７９、８０、８１、８２、８３、８４、８５、８６、８７、及び８８からなる群より選ばれる配位子であってもよい。

あるいは、前駆体が、テトラベンジルチタン等のチタンのアラルキル化合物である場合、上記配位子は、１、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、３９、４０、４１、４２、４３、４４、４５、４６、４７、４８、４９、５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９、６０、６１、６２、６３、６４、６５、６６、６７、６８、６９、７０、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７、７８、７９、８０、８１、８２、８３、８４、８５、８６、８７、及び８８（上記表１に示される）からなる群より選ばれる配位子であってもよい。

あるいは、Ｔｉ−配位子錯体を含む組成物の組成物硬化時間に基づき配位子は選択されてもよい。例えば、配位子は、４８時間目視粘度が５である反応生成物を少なくとも１つ生じた配位子（例えば、上記表１の配位子２４及び８４）からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、４８時間目視粘度が４である反応生成物を少なくとも１つ生じた配位子（例えば、上記表１の配位子１２、２４、５２、５９、７７、８３、及び８４）からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、４８時間目視粘度が３である反応生成物を少なくとも１つ生じた配位子（例えば、上記表１の配位子１２、１５、１８、１９、３０、４１、４３、４５、５９、７１、７３、７７、７８、７９、８０、８１、８３、８５、８６、及び８８）からなる群より選ばれてもよい。

上記表１に示される各種配位子は市販されている。配位子３５は、Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｕｓｔｏｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｓａｎ Ｄｉｅｇｏ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）より市販されている。配位子２、６、９、１２、１５、１６、１７、１８、１９、２１、２２、２３、３２、３３、３４、３８、４１、４４、８２、８３、及び８５は、Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ，Ｉｎｃ．（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，Ｍｉｓｓｏｕｒｉ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）より市販されている。配位子５０及び８４は、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ（Ｗａｒｄ Ｈｉｌｌ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）より市販されている。配位子３６は、ＬａｂｏＴｅｓｔ（ドイツ）より市販されている。配位子２７は、Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ Ｂｉｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｒｅｓｅａｒｃｈ，Ｉｎｃ．（Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）より市販されている、２−（［（２−メトキシフェニル）アミノ］メチル）フェノールである。配位子４９は、Ｍａｙｂｒｉｄｇｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．（ベルギー）より市販されている。配位子３７及び３９は、ＴＣＩ Ａｍｅｒｉｃａ（Ｐｏｒｔｌａｎｄ，Ｏｒｅｇｏｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）より市販されている。配位子８７は、Ｔｏｒｏｎｔｏ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ．（Ｎｏｒｔｈ Ｙｏｒｋ，Ｏｎｔａｒｉｏ，Ｃａｎａｄａ）より市販されている。配位子５１は、Ｖｉｔａｓ−Ｍ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ Ｌｔｄ．（Ｍｏｓｃｏｗ，Ｒｕｓｓｉａ）より市販されている。成分（Ａ）を調製するために本明細書において使用される配位子は表１に示される配位子であってもよい。

あるいは、配位子は、表１の配位子に化学的に類似している基（例えば、同様の構造を持つ等）から選択されてもよい。例えば、配位子は、配位子１８及び５１からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子６、２０、２４、３１、４３、４５、４８、５３、５５、６３、６４、及び８２からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子２、８、１３、１４、３３、３４、４６、５２、８６、及び８７からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子４１及び４７からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子９、１０、１５、１６、１７、１９、２２、３９、４２、４４、５６、５９、６０、６５、６６、６９、７０、８１、８３、８４、８５、及び８８からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子７６及び７７からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子７８であってもよい。あるいは、配位子は、配位子２８、２９、３０、及び６２からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子１、１１、２５、２６、及び２７からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子３、４、５、７、２３、４９、及び７４からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子２１及び３２からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子３５、３６、３７、及び４０からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子３８、７３、及び７５からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子５０、５４、５７、及び７２からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子５８であってもよい。あるいは、配位子は、配位子６１及び８０からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子６７及び６８からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子７１及び７９からなる群より選ばれてもよい。あるいは、配位子は、配位子１２であってもよい。

あるいは、成分（Ａ）の調製に使用される配位子は、式

の３，５−ヘプタンジオン、又は式

の２−アセチル−１−テトラロンであってもよく、両者共にＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ，Ｉｎｃ．（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，Ｍｉｓｓｏｕｒｉ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）より入手可能である。

成分（Ａ）は、上述の、配位子及びＴｉ前駆体を反応させる工程を含み、それによりＴｉ−配位子錯体を含む触媒活性反応生成物を形成する方法で調製されてもよい。この方法は、任意で、Ｔｉ前駆体と配位子を混合する前に、Ｔｉ前駆体と配位子のどちらか１つ又は両方を、溶媒に溶かす工程を更に含んでもよい。適切な溶媒は、成分（Ｓ）として下記に示されるものが例示される。あるいは、配位子は容器の中で溶媒に溶かされてもよく、その後、その溶媒は、Ｔｉ前駆体を配位子の入った容器に加える前に、取り除いてもよい。配位子とＴｉ前駆体の分量は、配位子とＴｉ前駆体とのモル比（配位子：金属比）が１０：１〜１：１０、あるいは３：１〜１：２、あるいは１：１〜２：１の範囲となるように選択してもよい。Ｔｉ前駆体と配位子の混合は、両者を共に混ぜ合わせる、又は容器を振とうする等の、任意の簡便な手段で行ってもよい。

Ｔｉ前駆体と配位子との反応は、上述のように調製されたＴｉ前駆体と配位子とを、加熱して、又は室温（２５℃）にて一定時間、反応させる等の任意の簡便な手段で行ってもよい。加熱は、加熱マントル、加熱コイル、又は上記容器をオーブンに入れる等の任意の簡便な手段により行われてよい。反応温度は、選択された具体的なＴｉ前駆体及び配位子の反応性、配位子：金属比を含む様々な要因に依存するが、反応温度は２５℃〜２００℃、あるいは２５℃〜７５℃の範囲であってもよい。反応時間は、選択された反応温度を含む様々な要因に依存するが、反応時間は１分〜４８時間、あるいは４５分〜６０分の範囲であってもよい。配位子とＴｉ前駆体は、順次、混合してから加熱されてもよい。あるいは、配位子とＴｉ前駆体は、同時に、混合と加熱をされてもよい。

成分（Ａ）の触媒活性反応生成物の調製方法は、任意で、反応後に溶媒を加える工程を更に含んでいてもよい。適切な溶媒は、成分（Ｓ）として下記に示されるものが例示される。あるいは、溶媒が存在する場合（例えば、加熱前又は加熱中に、Ｔｉ前駆体と配位子との混合を行いやすくするために用いられた場合）、この方法は、任意で、反応副生成物及び／又は溶媒を取り除く工程を更に含んでいてもよい。副生成物は、例えば、Ｈ−Ａ（式中、Ａは上記一般式（ｉ）で定義されたとおりである）、又は配位子がＴｉ前駆体と反応する際に、Ｔｉ前駆体の有機基が反応することにより生じる全ての種を含む。副生成物は、加熱又は真空下でのストリッピング、蒸留、又はこれらの組み合わせ等の任意の簡便な手段により取り除かれてよい。得られる単離されたＴｉ−配位子錯体は、成分（Ａ）の触媒活性反応生成物として用いられてよい。

あるいは、成分（Ａ）として触媒活性反応生成物を使用する前に、反応副生成物を取り除かなくてもよい。例えば、溶媒を取り除いて又は取り除かずに、上記のように配位子とＴｉ前駆体を反応させてよく、得られる触媒活性反応生成物（Ｔｉ−配位子錯体、反応副生成物、及び任意で溶媒又は希釈剤を含む）は成分（Ａ）として使用されてよい。理論に縛られることを望むものではないが、Ｔｉ−配位子錯体のほかにも、副生成物は縮合反応触媒として作用し得る、又はＴｉ−配位子錯体の助触媒又は活性剤として作用し得ると考えられる。したがって、反応生成物は縮合反応に触媒作用を及ぼし得る。

組成物は１種の触媒を含んでいてもよい。あるいは、組成物は２種以上の上記触媒を成分（Ａ）として含んでいてもよく、この２種以上の触媒は、配位子の選択、前駆体の選択、配位子：金属比、及び一般式（ｉ）中のＡ基の定義等のうち、少なくとも１つ以上の性質が異なる。組成物はスズ触媒を含まなくてもよく、あるいは組成物はチタン触媒を含まなくてもよい、またあるいは組成物はスズ触媒及びチタン触媒を含まなくてもよい。あるいは、組成物は、Ｔｉ原子に結合するいずれの置換基も表１に示される配位子とは異なり、且つ、そのようなＴｉ化合物が成分（Ｂ）の加水分解性基の縮合反応に触媒作用を及ぼし得る、いかなるＴｉ化合物も含まなくてもよい。あるいは、組成物は、成分（Ａ）を除く金属縮合反応触媒を含まないものであってもよい。あるいは、組成物は、成分（Ａ）以外の、成分（Ｂ）の加水分解性基の縮合反応に触媒作用を及ぼし得る、いかなる成分も含まないものであってもよい。

組成物中に、成分（Ａ）は触媒的に有効量存在する。正確な量は、成分（Ａ）の反応性、成分（Ｂ）の種類と分量、及び、任意の追加の成分が存在する場合、その種類と分量といった、様々な要因によって異なる。しかし、組成物中の成分（Ａ）の分量は、組成物中の全ての成分の合計重量基準で、１ｐｐｍ（パーツ・パー・ミリオン）〜５％、あるいは０．１％〜２％、あるいは１ｐｐｍ〜１％、あるいは１ｐｐｍ〜５００ｐｐｍ、あるいは１ｐｐｍ〜４３０ｐｐｍ、あるいは１ｐｐｍ〜２２０ｐｐｍ、あるいは１ｐｐｍ〜１１５ｐｐｍの範囲であってもよい。

成分（Ｂ）はケイ素含有ベースポリマー（ベースポリマー）である。成分（Ｂ）は、１分子当たり平均で１つ以上の、共有結合した加水分解性置換基を有するポリマー主鎖を含む。あるいは、この１つ以上の加水分解性置換基は、加水分解性シリル置換基である。ポリマー主鎖は、ポリジオルガノシロキサン等のポリオルガノシロキサン、有機ポリマー主鎖、又はシリコーン−有機コポリマー主鎖（ポリマー主鎖中の原子に共有結合した加水分解性シリル置換基を１つ以上有する）から選択されてもよい。あるいは、成分（Ｂ）のポリマー主鎖は、ポリオルガノシロキサン主鎖又は有機主鎖であり得る。あるいは、成分（Ｂ）のポリマー主鎖は、ポリオルガノシロキサン主鎖であり得る。加水分解性置換基は、水素原子、ハロゲン原子、アミド基（例えば、アセトアミド基、ベンズアミド基、又はメチルアセトアミド基）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基）、ヒドロカルボノオキシ基（例えば、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基）、アミノ基、アミノキシ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、オキシモ基、ケトキシモ（ketoximo）基、アルコキシシリルヒドロカルビレン基、又はこれらの組み合わせにより、例示される。あるいは、成分（Ｂ）は、１分子当たり平均で２個以上の加水分解性置換基を有し得る。成分（Ｂ）中の加水分解性置換基は、ポリマー主鎖上の末端位置、側鎖位置又は末端位置と側鎖位置の両方に位置し得る。あるいは、成分（Ｂ）中の加水分解性置換基は、ポリマー主鎖上の１つ以上の末端位置に位置し得る。成分（Ｂ）は、直鎖、側鎖、環状又は樹脂性構造を含み得る。あるいは、成分（Ｂ）は、直鎖、側鎖、又は環状構造を含み得る。あるいは、成分（Ｂ）は、直鎖又は側鎖構造を含み得る。あるいは、成分（Ｂ）は、直鎖構造を含み得る。あるいは、成分（Ｂ）は、直鎖構造及び樹脂状構造を含み得る。成分（Ｂ）は、ホモポリマー又はコポリマー又はこれらの組み合わせを含み得る。

成分（Ｂ）は、以下の式（ｉｉ）の基の中に含有される加水分解性置換基を有し得る。

式中、Ｄはそれぞれ独立して、酸素原子、二価の有機基、二価のシリコーン有機基、又は二価の炭化水素基と二価のシロキサン基との組み合わせを表し、Ｘはそれぞれ独立して加水分解性置換基を表し、Ｒはそれぞれ独立して一価の炭化水素基を表し、下付き文字ｃは０、１、２又は３を表し、下付き文字ａは０、１又は２を表し、下付き文字ｂは０以上の値を有するが、但し、平均で少なくとも１つのＸが式中に存在するように、（ａ＋ｃ）の合計は少なくとも１である。あるいは、添字ｂは、０〜１８の範囲の値を有し得る。

あるいは、各Ｄはそれぞれ独立して、酸素原子及び二価の炭化水素基から選択され得る。あるいは、各Ｄは、酸素原子であり得る。あるいは、各Ｄは、アルキレン基（例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン又はヘキシレン）、アリーレン基（例えば、フェニレン）、又はアルキルアリーレン基（例えば、

）。あるいは、Ｄの例は酸素原子であり得、一方、Ｄの異なる例は二価の炭化水素基である。

あるいは、Ｘはそれぞれ独立して、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アミド基（例えば、アセトアミド、メチルアセトアミド基、又はベンズアミド基）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、アミノ基、アミノキシ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、オキシモ基、ケトキシモ基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる加水分解性置換基であってもよい。あるいは、Ｘはそれぞれ独立して、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基及びオキシモ基からなる群より選ばれてもよい。

あるいは、上記の式中の各Ｒは独立して、１〜２０個の炭素原子のアルキル基、６〜２０個の炭素原子のアリル基、及び７〜２０個の炭素原子のアラルキル基から選択され得る。

あるいは、添字ｂは０であり得る。

成分（Ｂ）は、ベースポリマーの０．２ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％、あるいは０．５ｍｏｌ％〜５ｍｏｌ％、あるいは０．５ｍｏｌ％〜２．０ｍｏｌ％、あるいは０．５ｍｏｌ％〜１．５ｍｏｌ％、あるいは０．６ｍｏｌ％〜１．２ｍｏｌ％の範囲の量で上記の式（ｉｉ）により説明されている基を含み得る。

成分（Ｂ）は、直鎖構造を持つポリオルガノシロキサン主鎖、すなわち、ポリジオルガノシロキサン主鎖を有し得る。成分（Ｂ）がポリジオルガノシロキサン主鎖を有する場合、成分（Ｂ）は、アルコキシ末端封鎖ポリジオルガノシロキサン、アルコキシシリルヒドロカルビレン末端封鎖ポリジオルガノシロキサン、ヒドロキシル末端封鎖ポリジオルガノシロキサン、又はこれらの組み合わせを含み得る。

成分（Ｂ）は、以下の式（Ｉ）のポリジオルガノシロキサンを含み得る。

式中、Ｒ^１はそれぞれ独立して加水分解性置換基であり、Ｒ^２はそれぞれ独立して一価の有機基であり、Ｒ^３はそれぞれ独立して酸素原子又は二価の炭化水素基であり、下付き文字ｄはそれぞれ独立して１、２又は３であり、下付き文字ｅは、２５℃にて少なくとも１００ｍＰａ・ｓの粘度及び／又は少なくとも８７のＤＰを、このポリジオルガノシロキサンに与えるのに十分な値を有する整数である。ＤＰはポリスチレン標準液による校正を用いて、ＧＰＣにより測定してもよい。あるいは、添字ｅは、１〜２００，０００の範囲の値を有し得る。

Ｒ^１に適切な加水分解性置換基としては、限定するものではないが、Ｘ基について上述した加水分解性置換基が挙げられる。あるいは、Ｒ^１の加水分解性置換基は、ハロゲン原子、アセトアミド基、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、アルコキシ基、アミド基、アミノ基、アミノキシ基、ヒドロキシル基、オキシモ基、ケトキシモ基、及びメチルアセトアミド基から選択され得る。

Ｒ^２に好適な有機基としては、限定されるものではないが、炭化水素基及びハロゲン化炭化水素基のような一価の有機基が挙げられる。Ｒ^２の一価の炭化水素基の例としては、限定するものではないが、アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル及びオクタデシル）、シクロアルキル（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル）、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル及びベンジル）、並びにアラルキル（例えば、２−フェニルエチル）が挙げられる。Ｒ^２の一価のハロゲン化炭化水素基の例としては、限定するものではないが、塩素化アルキル基（例えば、クロロメチル及びクロロプロピル基）、フッ素化アルキル基（例えば、フルオロメチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチル）、塩素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジクロロシクロプロピル、２，３−ジクロロシクロペンチル）、及びフッ素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチル）が挙げられる。Ｒ^２の他の一価の有機基の例としては、限定するものではないが、酸素原子で置換された炭化水素基（例えば、グリシドキシアルキル）、及び窒素原子で置換された炭化水素基（例えば、アミノアルキル）、及びシアノ官能基（例えば、シアノエチル及びシアノプロピル）が挙げられる。あるいは、Ｒ^２はそれぞれ、メチル等のアルキル基であってもよい。

成分（Ｂ）は、上記の式（Ｉ）において、下付き文字ｄがそれぞれ１であり、Ｒ^３がそれぞれ酸素原子である場合、α，ω−二官能性ポリジオルガノシロキサンを含んでもよい。例えば、成分（Ｂ）は、式（ＩＩ）：Ｒ^１Ｒ^２ _２ＳｉＯ−（Ｒ^２ _２ＳｉＯ）_ｅ’−ＳｉＲ^２ _２Ｒ^１（式中、Ｒ^１及びＲ^２は上記のとおりであり、下付き文字ｅ’は、式（ＩＩ）のポリジオルガノシロキサンに上記の粘度を与えるのに十分な値の整数である。あるいは、添字ｅ’は、１〜２００，０００、あるいは５０〜１，０００、あるいは２００〜７００の範囲の値を有し得る。）を有してもよい。

あるいは、成分（Ｂ）は、上記の式（ＩＩ）のヒドロキシル官能性ポリジオルガノシロキサンを含んでもよい（式中、Ｒ^１はそれぞれヒドロキシル基であってよく、Ｒ^２はそれぞれ、メチル等のアルキル基であってよく、下付き文字ｅ’は、２５℃にて１００ｍＰａ・ｓ以上の粘度をヒドロキシル官能性ポリジオルガノシロキサンが有するような値を有してよい。あるいは、下付き文字ｅ’は５０〜７００の範囲の値を有してもよい）。例示的なヒドロキシル末端封鎖ポリジオルガノシロキサンは、ヒドロキシル末端封鎖ポリジメチルシロキサンである。成分（Ｂ）としての使用に好適なヒドロキシル末端封鎖ポリジオルガノシロキサンは、対応するオルガノハロシランの加水分解及び縮合、又は、環式ポリジオルガノシロキサンの平衡化といった、当該技術分野において既知の方法により調製され得る。

あるいは、成分（Ｂ）は、例えば、上記の式（Ｉ）においてＲ^３がそれぞれ二価の炭化水素基、又は二価の炭化水素基と二価のシロキサン基との組み合わせである場合に、アルコキシシリルヒドロカルビレン末端封鎖ポリジオルガノシロキサンを含んでもよい。各Ｒ^３は、アルキレン基（例えば、エチレン、プロピレン、又はヘキシレン）、アリーレン基（例えば、フェニレン）、又はアルキルアリーレン基（例えば、

）。あるいは、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれアルキルであってもよく、Ｒ^３はそれぞれアルキレン（例えば、エチレン）であってもよく、下付き文字ｄはそれぞれ３であってもよい。

アルコキシシリルヒドロカルビレン末端封鎖ポリジオルガノシロキサンは、ビニル末端ポリジメチルシロキサンを（アルコキシシリルヒドロカルビル）テトラメチルジシロキサンと反応させることにより、調製され得る。

あるいは、成分（Ｂ）は、水分硬化性シラン官能性有機ポリマーを含み得る。あるいは、有機ポリマーは、ポリマー主鎖中の少なくとも半分の原子が、ケイ素原子に結合した加水分解性置換基を含有する末端水分硬化性シリル基を有する炭素原子であるポリマーであってもよい。有機ポリマーは、例えば、炭化水素ポリマー、ポリエーテル、アクリレートポリマー、ポリウレタン及びポリ尿素から選択することができる。

成分（Ｂ）は、エラストマーであってよく、すなわち、０℃未満のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し得る。成分（Ｂ）がエラストマーである場合、Ｔｇに基づき、成分（Ｂ）は、半結晶質及び非晶質ポリオレフィン（例えば、α−オレフィン）とは区別することができ、一般に熱可塑性ポリマーと呼ばれる。

成分（Ｂ）は、シリル化ポリ（α−オレフィン）、イソ−モノ−オレフィンとビニル芳香族モノマーのシリル化コポリマー、ジエンとビニル芳香族モノマーのシリル化コポリマー、オレフィンとジエンのシリル化コポリマー（例えば、ポリイソブチレンとイソプレンから調製されたシリル化ブチルゴム、場合によりハロゲン化されていてもよい）、又はこれらの組み合わせ（シリル化コポリマー）、イソ−モノ−オレフィンのシリル化ホモポリマー、ビニル芳香族モノマーのシリル化ホモポリマー、ジエンのシリル化ホモポリマー（例えば、シリル化ポリブタジエン又はシリル化水素添加ポリブタジエン）、又はこれらの組み合わせ（シリル化ホモポリマー）、又はシリル化コポリマーとシリル化ホモポリマーとの組み合わせを含んでもよい。議論を進めるため、シリル化コポリマー及びシリル化ホモポリマーは、集合的に「シリル化ポリマー」と表される。シリル化ポリマーは、シリル化ポリマーの原子に共有結合している１つ以上のハロゲン基、特に臭素基、を任意で含んでいてもよい。

好適なモノ−イソ−オレフィンの例としては、限定するものではないが、イソアルキレン（例えば、イソブチレン、イソペンチレン、イソヘキシレン及びイソヘプチレン）、あるいはイソブチレンが挙げられる。好適なビニル芳香族モノマーの例としては、限定するものではないが、アルキルスチレン（例えば、α−メチルスチレン、ｔ−ブチルスチレン及びパラ−メチルスチレン）、あるいはパラ−メチルスチレンが挙げられる。好適なアルキル基の例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル及びｔ−ブチル、あるいはメチルが挙げられる。好適なアルケニル基の例としては、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル及びヘキセニル、あるいはビニルが挙げられる。シリル化有機ポリマーは、２０，０００〜５００，０００、あるいは５０，０００〜２００，０００、あるいは２０，０００〜１００，０００、あるいは２５，０００〜５０，０００、あるいは２８，０００〜３５，０００の範囲のＭｎをもっていてもよく。Ｍｎの値は、１モル当たりのグラム数（ｇ／ｍｏｌ）として示され、トリプル検出サイズ排除クロマトグラフィーにより測定し、ポリスチレン分子量標準に基づいて計算した。

適切なシリル化ポリ（α−オレフィン）の例は、当該技術分野において既知であり、市販されている。例としては、ＶＥＳＴＯＰＬＡＳＴ（登録商標）として流通している縮合反応硬化性シリル化ポリマーが挙げられ、これはＤｅｇｕｓｓａ ＡＧ Ｃｏａｔｉｎｇｓ ＆ Ｃｏｌｏｒａｎｔｓ（Ｍａｒｌ，Ｇｅｒｍａｎｙ，Ｅｕｒｏｐｅ）から市販されている。

簡潔に言えば、シリル化コポリマーの調製方法は、ｉ）炭素原子数４〜７のイソ−モノ−オレフィンの残留物を含む繰り返し単位を５０モル％以上、及びビニル芳香族モノマーの残留物を含む繰り返し単位を５０モル％以下含有するオレフィンコポリマー、ｉｉ）少なくとも２つの加水分解性基及び少なくとも１つのオレフィン系不飽和炭化水素又はヒドロカルボノオキシ基を含有するシラン、及びｉｉｉ）フリーラジカル発生剤、を接触させる工程を含む。

あるいは、シリル化コポリマーは、既知の方法（例えば、イソシアネート官能性アルコキシシランと反応させる手法、Ｎａの存在下で塩化アリルと反応させ、その後、ヒドロシリル化する手法）により、市販のヒドロキシル化ポリブタジエン（例えば、Ｃｒａｙ Ｖａｌｌｅｙ ＳＡ（Ｐａｒｉｓ，Ｆｒａｎｃｅ）から商品名Ｐｏｌｙ ＢＤ及びＫｒａｓｏｌで市販されているもの）を転化する工程を含む方法により、調製され得る。

あるいは、適切なシリル改質炭化水素ポリマーの例としては、シリル改質ポリイソブチレンが挙げられ、これはテレケリックポリマーの形態で市販されている。シリル改質ポリイソブチレンは、例えば、シリル置換アルキルアクリレート又はメタクリレートモノマー（例えば、ジアルコキシアルキルシリルプロピルメタクリレート又はトリアルコキシシリルプロピルメタクリレート）から誘導された硬化性シリル基を含有することができ、これは、リビングアニオン重合、原子移動ラジカル重合又は連鎖移動重合により調製されたポリイソブチレンと反応することができる。

あるいは、成分（Ｂ）は、ポリエーテルを含み得る。ポリエーテルの１つのタイプは、式（−Ｃ_ｔＨ_２ｔ−Ｏ−）の繰り返しオキシアルキレン単位を含むポリオキシアルキレンポリマーである（式中、下付き文字ｔは２〜４の範囲の値を有する整数である）。ポリオキシアルキレンポリマーは典型的には末端ヒドロキシル基を有し、例えば、末端ヒドロキシル基を過剰なアルキルトリアルコキシシランと反応させて末端アルキルジアルコキシシリル基を導入することにより、ケイ素原子に結合した加水分解性置換基を有するシリル基で容易に末端封鎖することができる。あるいは、重合は、ヒドロシリル化型プロセスによって生じ得る。ほとんどオキシプロピレン単位から構成されるポリオキシアルキレンは、多くの封止剤用途に好適な特性を有し得る。末端アルキルジアルコキシシリル又はトリアルコキシシリル基を有するポリオキシアルキレンポリマー（特にポリオキシプロピレン）は、成分（Ａ）及び水分の存在下で互いに反応し得る。これらのベースポリマーを含む組成物は、任意で、更に架橋剤を含んでいてもよい。

あるいは、加水分解性シリル基を有する有機ポリマーは、アクリレートポリマーとすることができ、これはアクリレート及び／又はメタクリレートエステルモノマーの付加ポリマーであり、アクリレートポリマー中に少なくとも５０モル％の繰り返しモノマー単位を含んでいてもよい。適切なアクリレートエステルモノマーの例は、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−プロピル、エチル、メチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル及び２−エチルヘキシルアクリレートである。適切なメタクリレートエステルモノマーの例は、ｎ−ブチル、イソブチル、メチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル及びラウリルメタクリレートである。一部の適用例では、アクリレートポリマーは、周囲温度よりも低いＴｇを有してもよく、アクリレートポリマーはメタクリレートポリマーよりも低いＴｇのポリマーを生じ得る。例示的なアクリレートポリマーは、ポリブチルアクリレートである。アクリレートポリマーは、スチレン、アクリロニトリル又はアクリルアミドのような他のモノマーをより少量含有する。アクリレートポリマーは、従来のラジカル重合又はリビングラジカル重合（例えば、原子移動ラジカル重合）、可逆的付加開裂連鎖移動重合、又はアニオン重合（例えば、リビングアニオン重合）といった様々な方法により調製することができる。硬化性シリル基は、例えば、シリル置換アルキルアクリレート又はメタクリレートモノマーから誘導することができる。加水分解性シリル基（例えば、ジアルコキシアルキルシリル又はトリアルコキシシリル基）は、例えば、ジアルコキシアルキルシリルプロピルメタクリレート又はトリアルコキシシリルプロピルメタクリレートから誘導することができる。アクリレートポリマーが、反応性末端基を形成する重合プロセス（例えば、原子移動ラジカル重合、連鎖移動重合又はリビングアニオン重合）により調製された場合、アクリレートポリマーは、シリル置換アルキルアクリレート又はメタクリレートモノマーと容易に反応して、末端加水分解性シリル基を形成することができる。

シラン改質ポリウレタン又はポリ尿素は、例えば、末端エチレン性不飽和基を有するポリウレタン又はポリ尿素を、加水分解性基とＳｉ−Ｈ基とを含有するシリルモノマー（例えば、ジアルコキシアルキルケイ素水素化物又はトリアルコキシケイ素水素化物）と反応させることにより、調製することができる。

あるいは、ベースポリマーは、シリコーン−有機ブロックコポリマー主鎖を有してもよく、これは少なくとも１つのポリオルガノシロキサン基のブロックと、少なくとも１つの有機ポリマー鎖のブロックと、を含む。ポリオルガノシロキサン基は、式−（Ｒ^４ _ｆＳｉＯ_{（４−ｆ）／２}）−（式中、Ｒ^４はそれぞれ独立して、有機基、例えば、炭素原子数１〜１８の炭化水素基、炭素原子数１〜１８のハロゲン化炭化水素基（例えば、クロロメチル、ペルフルオロブチル、トリフルオロエチル、及びノナフルオロヘキシル）、炭素原子数１８以下のヒドロカルボノオキシ基、あるいは、酸素原子含有基（例えば、（メタ）アクリル又はカルボキシル）、窒素原子含有基（例えば、アミノ官能基、アミド官能基、及びシアノ官能基）、硫黄原子含有基（例えば、メルカプト基）により例示される別の有機基であり、下付き文字ｆは平均で１〜３、あるいは１．８〜２．２の範囲の値を有する）の基を含んでもよい。

あるいは、Ｒ^４はそれぞれ、炭素原子数１〜１０の炭化水素基、又はハロゲン化炭化水素基であってもよく、下付き文字ｆは０、１又は２であってもよい。Ｒ^４に適切な基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ビニル、シクロヘキシル、フェニル、トリル基、塩素又はフッ素で置換されたプロピル基（例えば、３，３，３−トリフルオロプロピル）、クロロフェニル、β−（ペルフルオロブチル）エチル又はクロロシクロヘキシル基が挙げられる。

ポリマー主鎖中の有機ブロックは、例えば、ポリスチレン及び／又は置換ポリスチレン、例えば、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリ（ビニルメチルスチレン）、ジエン、ポリ（ｐ−トリメチルシリルスチレン）及びポリ（ｐ−トリメチルシリル−α−メチルスチレン）を含み得る。ポリマー主鎖中に組み込まれてもよい他の有機基としては、アセチレン末端オリゴフェニレン、ビニルベンジル末端芳香族ポリスルホンオリゴマー、芳香族ポリエステル、芳香族ポリエステル系モノマー、ポリアルキレン、ポリウレタン、脂肪族ポリエステル、脂肪族ポリアミド、及び芳香族ポリアミドを挙げることができる。

あるいは、成分（Ｂ）のシロキサン有機ブロックコポリマー中の有機ポリマーブロックは、平均式（−Ｃ_ｇＨ_２ｇ−Ｏ−）_ｈ（式中、下付き文字ｇは２〜４の範囲の値の整数であり、下付き文字ｈは４以上の整数である）で表される繰り返しオキシアルキレン単位を含むポリオキシアルキレン系ブロックであってもよい。各ポリオキシアルキレンポリマーブロックの数平均分子量（Ｍｎ）は３００〜１０，０００の範囲であってよい。更に、オキシアルキレン単位は必ずしもポリオキシアルキレンブロックの全体にわたって同一でなくともよく、単位毎に異なることができる。例えば、ポリオキシアルキレンブロックは、オキシエチレン単位（−Ｃ_２Ｈ_４−Ｏ−）、オキシプロピレン単位（−Ｃ_３Ｈ_６−Ｏ−）、又はオキシブチレン単位（−Ｃ_４Ｈ_８−Ｏ−）_、又はこれらの組み合わせを含むことができる。あるいは、ポリオキシアルキレンポリマー主鎖は、オキシエチレン単位及び／又はオキシプロピレン単位を主成分としてもよい。他のポリオキシアルキレンブロックは、例えば、構造：−［−Ｒ^５−Ｏ−（−Ｒ^６−Ｏ−）_ｉ−Ｐｎ−ＣＲ^７ _２−Ｐｎ−Ｏ−（−Ｒ^６−Ｏ−^） _ｊ−Ｒ^５］−（式中、Ｐｎは１，４−フェニレン基であり、Ｒ^５はそれぞれ、同一又は互いに異なって、炭素原子数２〜８の二価の炭化水素基であり、Ｒ^６はそれぞれ、同一又は互いに異なって、エチレン基又はプロピレン基であり、Ｒ^７はそれぞれ、同一又は互いに異なって、水素原子又はメチル基であり、下付き文字ｉ及びｊはそれぞれ３〜３０の範囲の値を持つ正の整数を表す）の単位を含んでもよい。

あるいは、成分（Ｂ）は、成分（Ｂ）について上述したポリマーのうちの１つに加えて又はその代わりに、シリコーン樹脂を含み得る。好適なシリコーン樹脂は、ＭＱ樹脂により例示され、これは、次の式のシロキサン単位を含む：
Ｒ^２９ _ｗＲ^３０ _{（３−ｗ）}ＳｉＯ_１／２及びＳｉＯ_４／２、（式中、Ｒ^２９及びＲ^３０は、一価の有機基（例えば、アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル及びオクタデシル）、シクロアルキル（例えば、シクロペンチル及びシクロヘキシル）、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル及びベンジル）、及びアラルキル（例えば、２−フェニルエチル）により例示される一価の炭化水素基）、ハロゲン化炭化水素基（塩素化アルキル基（例えば、クロロメチル及びクロロプロピル基）、フッ素化アルキル基（例えば、フルオロメチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル、及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチル）、塩素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジクロロシクロプロピル、２，３−ジクロロシクロペンチル）及びフッ素化シクロアルキル（例えば、２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル、及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチルにより例示される））、及び、他の一価の有機基（例えば、酸素原子で置換された炭化水素基（例えば、グリシドキシアルキル）及び窒素原子で置換された炭化水素基（例えば、アミノアルキル）及びシアノ官能基（例えば、シアノエチル及びシアノプロピル）であり、下付き文字ｗの各例は、０、１又は２である。あるいは、Ｒ^２９及びＲ^３０はそれぞれ、アルキル基であってもよい）ＭＱ樹脂は、０．５：１〜１．５：１の、Ｍユニット対Ｑユニットのモル比（Ｍ：Ｑ）を有し得る。これらのモル比は、Ｓｉ^２９ ＮＭＲ分光法により簡単に測定される。この技法は、シリコーン樹脂の総ヒドロキシル量に加えて、シリコーン樹脂及び最初のシリコーン樹脂中に存在したネオペンタマー（neopentamer）Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ_３）_４から誘導されたＲ^２９ _３ ＳｉＯ_１／２（「Ｍ」）単位とＳｉＯ_４／２（「Ｑ」）単位の濃度を量的に測定することができる。

ＭＱシリコーン樹脂は、液体炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシレン及びヘプタンにより例示される）のような溶媒又は液体有機ケイ素化合物（低粘度環状及び直鎖ポリジオルガノシロキサン）に可溶性である。

ＭＱシリコーン樹脂は、式Ｘ”ＳｉＯ_３／２により表される末端単位を２．０％以下、あるいは０．７％以下、あるいは０．３％以下を含んでもよい。（式中、Ｘ”は、ヒドロキシル又は加水分解性基（例えば、アルコキシ（例えば、メトキシ及びエトキシ）、アルケニルオキシ（例えば、イソプロペニルオキシ）、ケトキシモ（例えば、メチルエチルケトキシモ）、カルボキシ（例えば、アセトキシ）、アミドオキシ（例えば、アセトアミドオキシ）、及びアミノキシ（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノキシ））を表す）シリコーン樹脂中に存在するシラノール基の濃度は、ＦＴＩＲを使用して測定することができる。

ＭＱシリコーン樹脂の所望の流動特性を達成するのに望ましいＭｎは、少なくとも部分的に、シリコーン樹脂のＭｎ及びこの成分中に存在するＲ^２９により表される有機基のタイプに応じ異なることができる。ＭＱシリコーン樹脂のＭｎは、典型的には３，０００超、より典型的には４５００〜７５００である。

ＭＱシリコーン樹脂は、任意の好適な方法により調製することができる。このタイプのシリコーン樹脂は、報告によると、対応するシランの共加水分解により、又は当該技術分野において既知のシリカヒドロゾルキャッピング法（silica hydrosol capping methods）により、調製されている。簡単に述べると、この方法は、酸性条件下でシリカヒドロゾルをトリメチルクロロシラン等の加水分解性トリオルガノシラン、ヘキサメチルジシロキサン等のシロキサン又はそれらの組み合わせと反応させる工程と、Ｍ及びＱ単位を含む生成物（ＭＱ樹脂）を回収する工程を包含する。得られるＭＱ樹脂は、２〜５重量パーセントのケイ素結合ヒドロキシル基を含有し得る。

ＭＱシリコーン樹脂を調製するのに使用される中間体は、式Ｒ^２９ _３ＳｉＸのトリオルガノシランであってもよい。（式中、Ｘは、成分（Ｂ）について上述したように、４個の加水分解性基（例えば、ハロゲン、アルコキシ又はヒドロキシル）を有するシラン、又はアルカリ金属ケイ酸塩（例えば、ケイ酸ナトリウム）のいずれかの加水分解性基を表す）。

一部の組成物では、シリコーン樹脂中のケイ素結合ヒドロキシル基（すなわち、ＨＯＲ^２９ＳｉＯ_１／２又はＨＯＳｉＯ_３／２基）の量は、シリコーン樹脂の総重量の０．７重量％未満、あるいは０．３重量％未満であることが望ましいものであり得る。シリコーン樹脂の調製中に形成されるケイ素結合ヒドロキシル基は、シリコーン樹脂を、適切な末端基を含有するシラン、ジシロキサン又はジシラザンと反応させることにより、トリヒドロカルビルシロキシ基又は加水分解性基に転化される。加水分解性基を含有するシランは、シリコーン樹脂のケイ素結合ヒドロキシル基の理論量よりも過剰に添加されてもよい。

様々な好適なＭＱ樹脂が、例えばＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ、ＭＩ、Ｕ．Ｓ．Ａ．）、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（Ａｌｂａｎｙ、Ｎ．Ｙ．、Ｕ．Ｓ．Ａ．）、及びＢｌｕｅｓｔａｒ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ ＵＳＡ Ｃｏｒｐ．（Ｅａｓｔ Ｂｒｕｎｓｗｉｃｋ、Ｎ．Ｊ．、Ｕ．Ｓ．Ａ．）等の企業から市販されている。例えば、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＭＱ−１６００固形樹脂、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＭＱ−１６０１固形樹脂、及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）１２５０界面活性剤、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）７４６６樹脂、及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）７３６６樹脂（これらは全てＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されている）が、本明細書に記述されている方法での使用に好適である。あるいは、これもＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されているＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＭＱ−１６４０ Ｆｌａｋｅ樹脂のようなＭ、Ｔ及びＱ単位を含有する樹脂が使用され得る。このような樹脂は、有機溶媒の溶液として供給され得る。

あるいは、シリコーン樹脂は、シルセスキオキサン樹脂、すなわち、式（Ｒ^３１ＳｉＯ_３／２）のＴ単位を含有する樹脂を含んでもよい。Ｒ^３１はそれぞれ独立して水素原子及び一価の有機基、例えば、一価の炭化水素基（アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、ウンデシル、及びオクタデシル）、シクロアルキル（例えば、シクロペンチル、及びシクロヘキシル）、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル、及びベンジル）、及びアラルキル（例えば、２−フェニルエチル）により例示される）、ハロゲン化炭化水素基（塩素化アルキル基（例えば、クロロメチル及びクロロプロピル基）、フッ素化アルキル基（例えば、フルオロメチル、２−フルオロプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフルオロペンチル、６，６，６，５，５，４，４，３，３−ノナフルオロヘキシル、及び８，８，８，７，７−ペンタフルオロオクチル）、塩素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジクロロシクロプロピル、及び２，３−ジクロロシクロペンチル）、及びフッ素化シクロアルキル基（例えば、２，２−ジフルオロシクロプロピル、２，３−ジフルオロシクロブチル、３，４−ジフルオロシクロヘキシル、及び３，４−ジフルオロ−５−メチルシクロヘプチルにより例示される）、及び別の一価の有機基（例えば、酸素原子で置換された炭化水素基（例えば、グリシドキシアルキル）、及び窒素原子で置換された炭化水素基（例えば、アミノアルキル）及びシアノ官能基（例えば、シアノエチル及びシアノプロピル））から選択されてもよい。本明細書での使用に好適なシルセスキオキサン樹脂は、当該技術分野において既知であり、市販されている。例えば、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，２００ｇ／ｍｏｌであり、ＤＰが１５であるメチルメトキシシロキサン・メチルシルセスキオキサン樹脂はＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＵＳ−ＣＦ ２４０３樹脂としてＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている。あるいは、シルセスキオキサン樹脂は、フェニルシルセスキオキサン単位、メチルシルセスキオキサン単位、又はこれらの組み合わせを有してもよい。このような樹脂は、当該技術分野において既知であり、これもまたＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）２００ Ｆｌａｋｅ樹脂として市販されている。あるいは、シリコーン樹脂は、式（Ｒ^３１ _２ＳｉＯ_２／２）及び／又は（Ｒ^３１Ｒ^３２ＳｉＯ_２／２）のＤ単位と、式（Ｒ^３１ＳｉＯ_３／２）及び／又は（Ｒ^３２ＳｉＯ_３／２）のＴ単位とを含んでもよい、すなわち、ＤＴ樹脂である（式中、Ｒ^３１は上記の通りであり、Ｒ^３２は、上記のＸ基のような加水分解性基である）。ＤＴ樹脂は当該技術分野において既知であり、市販されており、例えば、メトキシ官能性ＤＴ樹脂としては、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）３０７４及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）３０３７樹脂が挙げられ、シラノール官能性樹脂としては、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）８００ Ｓｅｒｉｅｓ樹脂が挙げられ、これらもまたＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されている。他の好適な樹脂としては、メチル及びフェニル基を含有するＤＴ樹脂が挙げられる。

組成物に添加されるシリコーン樹脂の量は、組成物の最終用途に応じ変動することができる。例えば、組成物の反応生成物がゲルである場合、シリコーン樹脂はほとんど又は全く添加されない可能性もある。しかしながら、組成物中のシリコーン樹脂の量は、組成物の全成分の重量に基づいて０〜９０重量％、あるいは０．１〜５０重量％の範囲であり得る。

成分（Ｂ）の量は、組成物の反応生成物の最終用途、成分（Ｂ）に選択されるベースポリマーのタイプ、並びに、もし存在すれば、存在する任意の追加の成分のタイプ及び量といった様々な因子に応じて異なることができる。しかしながら、成分（Ｂ）の量は、組成物の０．０１〜９９重量％、あるいは１０〜９５重量％、あるいは１０〜６５重量％の範囲であり得る。

成分（Ｂ）は、１つの単一ベースポリマー、又は以下の特性のうちの少なくとも１つが異なる２つ以上のベースポリマーを含む組み合わせであり得る：平均分子量、加水分解性置換基、シロキサン単位、配列、及び粘度。成分（Ｂ）の１つのベースポリマーが１分子当たり平均で１〜２個のみの加水分解性置換基を含有する場合、組成物は、１分子当たり平均で２個を超える加水分解性置換基を有する追加のベースポリマー、又は成分（Ｃ）架橋剤を更に含み得る。

組成物は、場合により、１つ以上の追加の成分を更に含んでもよく、すなわち、成分（Ａ）及び（Ｂ）に加えて、成分（Ａ）及び（Ｂ）とは異なる１つ以上の成分を更に含んでもよい。追加の成分は、存在する場合、組成物の使用方法及び／又は組成物の硬化生成物の最終用途のような因子に基づいて選択され得る。追加の成分は、（Ｃ）架橋剤；（Ｄ）乾燥剤；（Ｅ）増量剤、可塑剤又はこれらの組み合わせ；（Ｆ）充填剤（例えば、（ｆ１）補強充填剤、（ｆ２）増量充填剤、（ｆ３）伝導性充填剤（例えば、導電性、熱伝導性、又はその両方））；（Ｇ）充填剤処理剤；（Ｈ）殺生物剤（例えば、（ｈ１）殺真菌剤、（ｈ２）除草剤、（ｈ３）殺虫剤、又は（ｈ４）抗菌剤）；（Ｊ）難燃剤；（Ｋ）表面改質剤（例えば、（ｋ１）接着促進剤又は（ｋ２）離型剤）；（Ｌ）鎖延長剤；（Ｍ）末端封鎖剤；（Ｎ）非反応性結合剤；（Ｏ）老化防止添加剤；（Ｐ）水放出剤；（Ｑ）顔料；（Ｒ）レオロジー添加剤；（Ｓ）賦形剤；（Ｔ）粘着付与剤；（Ｕ）腐食防止剤；及びこれらの組み合わせであってもよい。追加の成分は互いに異なる。幾つかの実施形態では、少なくとも１つの、又は追加の成分（Ｃ）〜（Ｕ）のそれぞれ、又はこれらの組み合わせは、成分（Ｂ）の縮合反応を完全には妨げない。

成分（Ｃ）は、成分（Ｂ）が１分子当たり平均で１又は２個のみの加水分解性置換基を含有する場合に、並びに／あるいは、組成物の縮合反応により調製される反応生成物の架橋密度を増加させるために、組成物に添加され得る架橋剤である。一般に、成分（Ｃ）は、組成物の反応生成物において所望される架橋度に依存して変動できる官能基により、並びに、反応生成物が縮合反応の副生成物に起因する重量喪失を著しく示すことのないように、選択される。一般に、成分（Ｃ）の選択は、組成物が、水分不透過性パッケージにおいて、数ヶ月にわたる保存中に有用であるべく十分な反応性を保つように、行われる。一般に、成分（Ｃ）は成分（Ｃ）の加水分解性置換基が成分（Ｂ）に反応するように選択される。例えば、成分（Ｂ）のＸがヒドロキシ基である場合、成分（Ｃ）の加水分解性置換基は、水素原子、ハロゲン原子、アミド基、アシロキシ基、ヒドロカルボノオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、メルカプト基、オキシモ基、ケトキシモ基、又はアルコキシシリルヒドロカルビレン基、又はこれらの組み合わせであってもよい。成分（Ｃ）の正確な量は、選択されるベースポリマー及び架橋剤のタイプ、ベースポリマー及び架橋剤の加水分解性置換基の反応性、並びに、反応生成物に所望される架橋密度といった因子に応じて変動できる。しかしながら、架橋剤の量は、成分（Ｂ）１００重量部に基づいて、０．５〜１００重量部の範囲であり得る。

成分（Ｃ）は、加水分解性基を有するシラン架橋剤、又はその部分若しくは完全加水分解生成物を含み得る。成分（Ｃ）は、成分（Ｂ）の加水分解性置換基と反応性である置換基を、１分子当たり平均で２個を超えて有する。成分（Ｃ）に適切なシラン架橋剤の例は、一般式（ＩＩＩ）Ｒ^８ _ｋＳｉ（Ｒ^９）_{（４−ｋ）}（式中、Ｒ^８はそれぞれ独立して、一価の炭化水素基（例えば、アルキル基）であり、Ｒ^９はそれぞれ加水分解性置換基であり、これは成分（Ｂ）について上述したＸと同じであってもよい。あるいは、Ｒ^９はそれぞれ、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アセトアミド基、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、アルコキシ基、アミド基、アミノ基、アミノキシ基、ヒドロキシル基、オキシモ基、ケトキシモ基、又はメチルアセトアミド基であってもよく、下付き文字ｋの各例は、０、１、２、又は３であってもよい）を有してもよい。成分（Ｃ）について、添字ｋは、２より大きい平均値を有する。あるいは、添字ｋは、３〜４の範囲の値を有し得る。あるいは、Ｒ^９はそれぞれ独立して、ヒドロキシル、アルコキシ、アセトキシ、アミド、又はオキシムから選択され得る。あるいは、成分（Ｃ）は、アシルオキシシラン、アルコキシシラン、ケトキシモシラン、及びオキシモシランから選択され得る。

成分（Ｃ）は、アルコキシシラン（ジアルコキシシラン（例えば、ジアルキルジアルコキシシラン）、トリアルコキシシラン（例えば、アルキルトリアルコキシシラン）、テトラアルコキシシランにより例示される）、又は、その部分若しくは完全加水分解生成物、又はこれらの別の組み合わせを含み得る。好適なトリアルコキシシランの例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、及びこれらの組み合わせ、あるいは、メチルメトキシシランが挙げられる。好適なテトラアルコキシシランの例としては、テトラエトキシシランが挙げられる。硬化性シリコーン組成物中で使用されるアルコキシシランの量は、成分（Ｂ）１００重量部当たり０．５〜１５重量部の範囲であり得る。

成分（Ｃ）は、アシルオキシシラン（例えば、アセトキシシラン）を含み得る。アセトキシシランとしては、テトラアセトキシシラン、オルガノトリアセトキシシラン、ジオルガノジアセトキシシラン、又はこれらの組み合わせが挙げられる。このアセトキシシランは、アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル及び三級ブチル）、アルケニル基（例えば、ビニル、アリル又はヘキセニル）、アリル基（例えば、フェニル、トリル、又はキシリル）、アラルキル基（例えば、ベンジル又は２−フェニルエチル）、及びフッ素化アルキル基（例えば、３，３，３−トリフルオロプロピル）を含有し得る。例示のアセトキシシランとしては、限定するものではないが、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、プロピルトリアセトキシシラン、ブチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、オクチルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、フェニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、テトラアセトキシシラン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。あるいは、成分（Ｃ）は、オルガノトリアセトキシシラン、例えば、メチルトリアセトキシシランとエチルトリアセトキシシランとを含む混合物、を含み得る。硬化性シリコーン組成物中で使用されるアセトキシシランの量は、成分（Ｂ）１００重量部当たり０．５〜１５重量部、あるいは３〜１０重量部の範囲であり得る。

組成物中で使用され得るアルコキシ基とアセトキシ基とを両方含有する成分（Ｃ）に好適なシランの例としては、メチルジアセトキシメトキシシラン、メチルアセトキシジメトキシシラン、ビニルジアセトキシシラン、ビニルアセトキシジメトキシシラン、メチルジアセトキシエトキシシラン、メチルアセトキシジエトキシシラン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（Ｃ）として適しているアミノ官能性アルコキシシランは、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、及びこれらの組み合わせにより例示される。

成分（Ｃ）に好適なオキシモシランとしては、アルキルトリオキシモシラン（例えば、メチルトリオキシモシラン、エチルトリオキシモシラン、プロピルトリオキシモシラン、及びブチルトリオキシモシラン）、アルコキシトリオキシモシラン（例えば、メトキシトリオキシモシラン、エトキシトリオキシモシラン及びプロポキシトリオキシモシラン）、又はアルケニルトリオキシモシラン（例えば、プロペニルトリオキシモシラン又はブテニルトリオキシモシラン）、アルケニルオキシモシラン（例えば、ビニルオキシモシラン）、アルケニルアルキルジオキシモシラン（例えば、ビニルメチルジオキシモシラン、ビニルエチルジオキシモシラン、ビニルメチルジオキシモシラン、又はビニルエチルジオキシモシラン）、又はこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（Ｃ）に好適なケトキシモシランとしては、メチルトリス（ジメチルケトキシモ）シラン、メチルトリス（メチルエチルケトキシモ）シラン、メチルトリス（メチルプロピルケトキシモ）シラン（methyl tris（methylpropylketoximo）silane）、メチルトリス（メチルイソブチルケトキシモ）シラン、エチルトリス（ジメチルケトキシモ）シラン（ethyl tris（dimethylketoximo）silane）、エチルトリス（メチルエチルケトキシモ）シラン（ethyl tris（methylethylketoximo）silane）、エチルトリス（メチルプロピルケトキシモ）シラン（ethyl tris（methylpropylketoximo）silane）、エチルトリス（メチルイソブチルケトキシモ）シラン（ethyl tris（methylisobutylketoximo）silane）、ビニルトリス（ジメチルケトキシモ）シラン、ビニルトリス（メチルエチルケトキシモ）シラン、ビニルトリス（メチルプロピルケトキシモ）シラン（vinyl tris（methylpropylketoximo）silane）、ビニルトリス（メチルイソブチルケトキシモ）シラン、テトラキス（ジメチルケトキシモ）シラン（tetrakis（dimethylketoximo）silane）、テトラキス（メチルエチルケトキシモ）シラン、テトラキス（メチルプロピルケトキシモ）シラン（tetrakis（methylpropylketoximo）silane）、テトラキス（メチルイソブチルケトキシモ）シラン（tetrakis（methylisobutylketoximo）silane）、メチルビス（ジメチルケトキシモ）シラン（methylbis（dimethylketoximo）silane）、メチルビス（シクロヘキシルケトキシモ）シラン（methylbis（cyclohexylketoximo）silane）、トリエトキシ（エチルメチルケトキシム）シラン（triethoxy（ethylmethylketoxime）silane）、ジエトキシジ（エチルメチルケトキシム）シラン（diethoxydi（ethylmethylketoxime）silane）、エトキシトリ（エチルメチルケトキシム）シラン、メチルビニルビス（メチルイソブチルケトキシモ）シラン（methylvinylbis（methylisobutylketoximo）silane）、又はこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、成分（Ｃ）は、高分子であり得る。例えば、成分（Ｃ）は、ビス（トリエトキシシリル）ヘキサン）、１，４−ビス［トリメトキシシリル（エチル）］ベンゼン、及びビス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］テトラスルフィドといった、ジシランを含み得る。

成分（Ｃ）は、１つの単一の架橋剤、又は、以下の特性のうちの少なくとも１つにおいて異なる２つ以上の架橋剤を含む組み合わせであり得る：加水分解性置換基、及びケイ素に結合した他の有機基、並びに、高分子架橋剤が使用される場合には、シロキサン単位、構造、分子量及び配列。

成分（Ｄ）は、乾燥剤である。乾燥剤は、様々な供給源由来の水を捕捉する。例えば、乾燥剤は、水及びアルコールといった、縮合反応の副生成物を捕捉し得る。

成分（Ｄ）に好適な吸着剤の例としては、無機粒子を挙げることができる。吸着剤は、１０マイクロメートル以下、あるいは５マイクロメートル以下の粒径を有し得る。吸着剤は、例えば、１０Å（オングストローム）以下、あるいは５Å以下、あるいは３Å以下といった、水及びアルコールを吸着するのに十分な平均孔径を有し得る。吸着剤の例としては、沸石（例えば、菱沸石、モルデン沸石及び方沸石）、分子篩（例えば、アルカリ金属のアルミノケイ酸塩、シリカゲル、シリカマグネシアゲル、活性炭、活性アルミナ、酸化カルシウム）及びこれらの組み合わせが挙げられる。

市販の乾燥剤の例としては、乾燥分子篩（例えば、Ｇｒａｃｅ Ｄａｖｉｄｓｏｎから商品名ＳＹＬＯＳＩＶ（登録商標）で、及びＺｅｏｃｈｅｍ（Ｌｏｕｉｓｖｉｌｌｅ，Ｋｅｎｔｕｃｋｙ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から商品名ＰＵＲＭＯＬで市販されている３Å（オングストローム）の分子篩、並びに、Ｉｎｅｏｓ Ｓｉｌｉｃａｓ（Ｗａｒｒｉｎｇｔｏｎ，Ｅｎｇｌａｎｄ）から入手可能なＤｏｕｃｉｌゼオライト４Ａ等の４Å（オングストローム）の分子篩）が挙げられる。他の有用な分子篩としては、ＵＯＰ（Ｉｌｌｉｎｏｉｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から全て市販されているＭＯＬＳＩＶ ＡＤＳＯＲＢＥＮＴ ＴＹＰＥ １３Ｘ、３Ａ、４Ａ、及び５Ａ、Ａｔｏｆｉｎａ（Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からのＳＩＬＩＰＯＲＩＴＥ ＮＫ ３０ＡＰ及び６５ｘＰ、並びに、Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅ（Ｍａｒｙｌａｎｄ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から入手可能な分子篩が挙げられる。

あるいは、乾燥剤は、化学的手段により水及び／又は他の副生成物を捕捉し得る。（成分（Ｃ）に加えて）組成物に添加された一定量のシラン架橋剤は、化学的乾燥剤としても機能し得る。理論に束縛されるものではないが、化学的乾燥剤は、組成物の複数の構成部分を一緒に混合した後に、この組成物を水に触れさせないようにするために、多部構成組成物（multiple part composition）の乾燥部分に添加され得る。例えば、乾燥剤として好適なアルコキシシランとしては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（Ｄ）の量は、選択される具体的な乾燥剤に依存する。しかしながら、成分（Ｄ）が化学的乾燥剤である場合、その量は、０部〜５部、あるいは０．１部〜０．５部の範囲であり得る。成分（Ｄ）は、１つの化学的乾燥剤であり得る。あるいは、成分（Ｄ）は、２つ以上の異なる化学的乾燥剤を含み得る。

成分（Ｅ）は、増量剤及び／又は可塑剤である。非官能性ポリオルガノシロキサンを含む増量剤を、組成物に使用することができる。例えば、非官能性ポリオルガノシロキサンは、式Ｒ^２２ _２ＳｉＯ_２／２の二官能性単位及び式Ｒ^２３ _３ＳｉＤ’−の末端単位を有してもよい。（式中、Ｒ^２２及びＲ^２３はそれぞれ独立して一価の有機基（例えば、一価の炭化水素基（アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、及びブチル）、アルケニル（例えば、ビニル、アリル、及びヘキセニル）、アリール（例えば、フェニル、トリル、キシリル、及びナフチル）、及びアラルキル基（例えば、フェニルエチル）により例示される）であり、Ｄ’は、酸素原子、又は末端単位のケイ素原子を別のケイ素原子と連結する二価基（例えば、成分（Ｂ）について上述した基Ｄ）であり、あるいは、Ｄ’は酸素原子である）非官能性ポリオルガノシロキサンは、当該技術分野において既知であり、市販されている。好適な非官能性ポリオルガノシロキサンは、限定するものではないが、ポリジメチルシロキサンにより例示される。このようなポリジメチルシロキサンとしては、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されているＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）２００流体が挙げられ、５Ｅ−５ｍ^２／ｓ（５０ｃＳｔ）〜０．１ｍ^２／ｓ（１００，０００ｃＳｔ）、あるいは５Ｅ−５ｍ^２／ｓ（５０ｃＳｔ）〜０．０５ｍ^２／ｓ（５０，０００ｃＳｔ）、あるいは０．０１２５〜０．０６ｍ^２／ｓ（１２，５００〜６０，０００ｃＳｔ）の範囲の粘度を有し得る。

有機可塑剤は、上記の非官能性ポリオルガノシロキサン増量剤に加えて、又はその代わりに、使用され得る。有機可塑剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。有機可塑剤は、フタル酸塩、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、アジピン酸塩、又はこれらの組み合わせを含み得る。有機可塑剤は、ビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート、ビス（２−エチルヘキシル）−１，４−ベンゼンジカルボキシレート、２−エチルヘキシルメチル−１，４−ベンゼンジカルボキシレート、分枝状及び直鎖の１，２シクロヘキサンジカルボン酸，ジノニルエステル、ビス（２−プロピルへプチル）フタレート、ジイソノニルアジペート、及びこれらの組み合わせからなる群より選択され得る。

有機可塑剤は、式

の基を１分子当たり平均で少なくとも１つ有してもよい。（式中、Ｒ^１８は、水素原子又は一価の有機基を表す。あるいは、Ｒ^１８は、分枝状又は直鎖一価の炭化水素基を表してもよい。）一価の有機基は、４〜１５個の炭素原子、あるいは９個〜１２個の炭素原子のアルキル基といった、分枝状又は直鎖の一価の炭化水素基であり得る。好適な可塑剤は、アジピン酸塩、カルボン酸塩、フタル酸塩及びこれらの組み合わせからなる群より選択され得る。

あるいは、有機可塑剤は、環式炭化水素中の炭素原子に結合した上記の式の基を、１分子当たり平均で少なくとも２個有し得る。有機可塑剤は、次の一般式を有し得る：

（式中、Ｚ基は、３個以上の炭素原子、あるいは３〜１５個の炭素原子を有する炭素環基を表す。添字ｓは、１〜１２の範囲の値を有し得る。Ｚ基は、飽和又は芳香族であり得る。Ｒ^２０はそれぞれ独立して水素原子、又は分枝状若しくは直鎖の一価の有機基である。Ｒ^１９の一価の有機基は、メチル、エチル、又はブチルといった、アルキル基であってもよい。あるいは、Ｒ^２０の一価の有機基は、エステル官能基であってもよい。Ｒ^１９はそれぞれ独立して、４〜１５個の炭素原子のアルキル基といった、分枝状又は直鎖の一価の炭化水素基である。）

好適な有機可塑剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。可塑剤は、フタレート、例えば、ジアルキルフタレート、例えば、ジブチルフタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＢＰ可塑剤）、ジヘプチルフタレート、ジ（２−エチルヘキシル）フタレート、又はジイソデシルフタレート（ＤＩＤＰ）、ビス（２−プロピルヘプチル）フタレート（ＢＡＳＦ Ｐａｌａｔｉｎｏｌ（登録商標）ＤＰＨＰ）、ジ（２−エチルヘキシル）フタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＯＰ可塑剤）、ジメチルフタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＭＰ可塑剤）；ジエチルフタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＭＰ可塑剤）；ブチルベンジルフタレート、及びビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）４２５可塑剤）；ジカルボキシレート、例えば、ベンジル、Ｃ７〜Ｃ９直鎖及び分枝アルキルエステル、１，２ベンゼンジカルボン酸（Ｆｅｒｒｏ ＳＡＮＴＩＣＩＺＥＲ（登録商標）２６１Ａ）、１，２，４−ベンゼントリカルボン酸（ＢＡＳＦ Ｐａｌａｔｉｎｏｌ（登録商標）ＴＯＴＭ−Ｉ）、ビス（２−エチルヘキシル）−１，４−ベンゼンジカルボキシレート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）１６８可塑剤）；２−エチルヘキシルメチル−１，４−ベンゼンジカルボキシレート；１，２シクロヘキサンジカルボン酸、ジノニルエステル、分枝及び直鎖（ＢＡＳＦ Ｈｅｘａｍｏｌｌ ^＊ＤＩＮＣＨ）；ジイソノニルアジペート；トリメリタート、例えば、トリオクチルトリメリタート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＴＯＴＭ可塑剤）；トリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサン酸）（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＴＥＧ−ＥＨ可塑剤）；トリアセチン（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）トリアセチン）；非芳香族二塩基酸エステル、例えば、ジオクチルアジペート、ビス（２−エチルヘキシル）アジペート（Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＤＯＡ可塑剤、及びＥａｓｔｍａｎ（商標）ＤＯＡ可塑剤，Ｋｏｓｈｅｒ）、ジ−２−エチルヘキシルアジペート（ＢＡＳＦ Ｐｌａｓｔｏｍｏｌｌ（登録商標）ＤＯＡ）、ジオクチルセバシン酸塩、ジブチルセバシン酸塩及びジイソデシルコハク酸塩；脂肪族エステル、例えば、ブチルオレイン酸塩及びメチルアセチルリシノレート；リン酸塩、例えば、トリクレジルリン酸塩及びトリブチルリン酸塩；塩素化パラフィン；炭化水素油、例えば、アルキルジフェニル及び部分水素化テルフェニル；プロセス油；エポキシ可塑剤、例えば、エポキシ化大豆油及びベンジルエポキシステアリン酸塩；トリス（２−エチルヘキシル）エステル；脂肪酸エステル；及びこれらの組み合わせを含み得る。その他の適切な可塑剤及びそれらの市販元としては、ＢＡＳＦ Ｐａｌａｍｏｌｌ（登録商標）６５２及びＥａｓｔｍａｎ １６８ Ｘｔｒｅｍｅ（商標）可塑剤が挙げられる。

あるいは、ポリマー可塑剤を使用することもできる。ポリマー可塑剤の例としては、様々な方法によりビニル若しくはアリルモノマーを重合することによって得られるアルケニルポリマー；ポリアルキレングリコールエステル（例えば、ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジベンゾエート、及びペンタエリスリトールエステル）；二塩基酸（例えば、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸及びフタル酸）と二価アルコール（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール及びジプロピレングリコール）から得られるポリエステル可塑剤；それぞれ５００以上の分子量を有するポリエーテルポリオール（例えば、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール）とポリスチレン（例えば、ポリスチレン及びポリ−α−メチルスチレン）とを含むポリエーテル；並びに、ポリブタジエン、ポリブテン、ポリイソブチレン、ブタジエンアクリロニトリル及びポリクロロプレンが挙げられる。

有機可塑剤が存在する場合、有機可塑剤の量は、組成物中の全成分の総重量に基づいて、５〜１５０重量部の範囲であり得る。

成分（Ｅ）について上述したポリオルガノシロキサン増量剤及び有機可塑剤は、それぞれ単独で、又は、これらを２つ以上組み合わせて、のいずれかで使用され得る。低分子量有機可塑剤と高分子量ポリマー可塑剤を組み合わせて使用してもよい。組成物中で使用される成分（Ｅ）の正確な量は、組成物及びその硬化生成物の所望される最終用途といった様々な因子によって異なることができる。しかしながら、成分（Ｅ）の量は、組成物中の全成分の総重量に基づいて０．１〜１０重量％の範囲であり得る。

成分（Ｆ）は、充填剤である。充填剤は、補強充填剤、増量充填剤、伝導性充填剤、又はこれらの組み合わせを含み得る。例えば、組成物は、場合により、成分（ｆ１）補強充填剤を更に含み得、これは、存在する場合には、組成物の０．１〜９５重量％、あるいは１〜６０重量％の範囲の量で添加され得る。成分（ｆ１）の正確な量は、組成物の反応生成物の形態、及び、他の充填剤が添加されるかどうか、といった様々な因子によって異なる。好適な補強充填剤の例としては、補強シリカ充填剤（例えば、ヒュームシリカ、シリカエアロゲル、シリカキセロゲル及び沈殿シリカ）が挙げられる。ヒュームドシリカは、当該技術分野において既知であり、市販されている：例えば、Ｃａｂｏｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から名称ＣＡＢ−Ｏ−ＳＩＬで販売されているヒュームドシリカ。

組成物は、場合により、成分（ｆ２）増量充填剤を、組成物の０．１〜９５重量％、あるいは１〜６０重量％、あるいは１〜２０重量％の範囲の量で更に含み得る。増量充填剤の例としては、破砕石英、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム（例えば、軽質炭酸カルシウム）、酸化亜鉛、タルク、珪藻土、酸化鉄、粘土、雲母、白亜、二酸化チタン、ジルコニア、砂、カーボンブラック、グラファイト、又はこれらの組み合わせが挙げられる。増量充填剤は、当該技術分野において既知であり、例えば、Ｕ．Ｓ．Ｓｉｌｉｃａ（Ｂｅｒｋｅｌｅｙ Ｓｐｒｉｎｇｓ，ＷＶ）により名称ＭＩＮ−Ｕ−ＳＩＬで販売されている破砕シリカといったように、市販されている。好適な軽質炭酸カルシウムとしては、ＳｏｌｖａｙからのＷｉｎｎｏｆｉｌ（登録商標）ＳＰＭ、並びに、ＳＭＩからのＵｌｔｒａｐｆｌｅｘ（登録商標）及びＵｌｔｒａｐｆｌｅｘ（登録商標）１００が挙げられる。

組成物は、場合により、成分（ｆ３）伝導性充填剤を更に含む。伝導性充填剤は、熱伝導性又は導電性であってよく、あるいはいずれもであってもよい。伝導性充填剤は、当該技術分野において既知であり、金属粒子（例えば、アルミニウム、銅、金、ニッケル、銀、及びこれらの組み合わせ）；非伝導性基材上にコーティングされたこのような金属；金属酸化物（例えば、酸化アルミニウム、酸化ベリリウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛及びこれらの組み合わせ）、溶融性充填剤（例えば、はんだ）、窒化アルミニウム、アルミニウム三水和物、チタン酸バリウム、窒化ホウ素、炭素繊維、ダイヤモンド、グラファイト、水酸化マグネシウム、オニキス、炭化ケイ素、炭化タングステン、及びこれらの組み合わせにより例示される。

あるいは、他の充填剤が組成物に添加されてもよく、タイプ及び量は、組成物の硬化生成物の最終用途等の因子によって異なる。このような他の充填剤の例としては、磁気粒子（例えば、フェライト）、及び誘電性粒子（例えば、溶融ガラス微小球、チタニア、及び炭酸カルシウム）が挙げられる。

組成物は、場合により、成分（Ｇ）処理剤を更に含み得る。成分（Ｇ）の量は、選択される処理剤のタイプ、処理される粒子のタイプ及び量、粒子が組成物の添加前に処理されるのかどうか、又は、粒子がその場で処理されるのかどうか、といった因子に応じて変動することができる。しかしながら、成分（Ｇ）は、組成物の０．０１〜２０重量％、あるいは０．１〜１５重量％、あるいは０．５〜５重量％の範囲の量で使用され得る。粒子、例えば、充填剤、物理的乾燥剤、特定の難燃剤、特定の顔料、及び／又は、特定の水放出剤は、存在する場合には、場合により、成分（Ｇ）で表面処理され得る。粒子は、組成物に添加される前に、又は、その場にて、成分（Ｇ）で処理され得る。成分（Ｇ）は、アルコキシシラン、アルコキシ官能性オリゴシロキサン、環式ポリオルガノシロキサン、ヒドロキシル官能性オリゴシロキサン、例えば、ジメチルシロキサン、又はメチルフェニルシロキサン、又は脂肪酸を含み得る。脂肪酸の例としては、ステアリン酸カルシウムといったステアリン酸塩が挙げられる。

成分（Ｇ）として使用できる一部の代表的な有機ケイ素充填剤処理剤としては、シリカ充填剤を処理するのに通常使用される組成物、例えば、オルガノクロロシラン、オルガノシロキサン、オルガノシラザン（例えば、ヘキサアルキルジシラザン）、及びオルガノアルコキシシラン、例えば、Ｃ_６Ｈ_１３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_８Ｈ_１７Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、Ｃ_１０Ｈ_２１Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_１２Ｈ_２５Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_１４Ｈ_２９Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、及びＣ_６Ｈ_５ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３が挙げられる。使用できる他の処理剤としては、アルキルチオール、脂肪酸、チタン酸塩、チタン酸塩カップリング剤、ジルコン酸塩カップリング剤、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、成分（Ｇ）は、式：Ｒ^１３ _ｏＳｉ（ＯＲ^１４）_{（４−ｐ）}を有するアルコキシシランを含んでよい（式中、下付き文字ｐは１〜３の範囲の値を有してもよく、あるいは下付き文字ｐは３である。各Ｒ^１３はそれぞれ独立して、１〜５０個の炭素原子、あるいは８〜３０個の炭素原子、あるいは８〜１８個の炭素原子の一価の炭化水素基といった、一価の有機基である。Ｒ^１３としては、ヘキシル、オクチル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル及びオクタデシル等のアルキル基、並びにベンジル及びフェニルエチル等の芳香族基が挙げられる。Ｒ^１３は、飽和又は不飽和、並びに、分枝状又は非分枝状であり得る。あるいは、Ｒ^１３は、飽和及び非分枝状であり得る。

各Ｒ^１４は、独立して、１〜４個の炭素原子、あるいは１〜２個の炭素原子の飽和炭化水素基である。成分（Ｇ）は、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、テトラデシルトリメトキシシラン、フェニルエチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、及びこれらの組み合わせにより例示される。

アルコキシ官能性オリゴシロキサンはまた、処理剤としても使用され得る。例えば、好適なアルコキシ官能性オリゴシロキサンとしては、式（Ｒ^１５Ｏ）_ｑＳｉ（ＯＳｉＲ^１６ _２Ｒ^１７）_{（４−ｑ）}のものが挙げられる。（式中、添字ｑは１、２、又は３であり、あるいは添字ｑは３である。各Ｒ^１５は、アルキル基であり得る。各Ｒ^１６は、１〜１０個の炭素原子の不飽和一価の炭化水素基であり得る。各Ｒ^１７は、少なくとも１０個の炭素原子を有する不飽和一価の炭化水素基であり得る。）

金属充填剤等の特定の粒子は、アルキルチオール（例えば、オクタデシルメルカプタン）、脂肪酸（例えば、オレイン酸及びステアリン酸）、及びこれらの組み合わせで処理され得る。

他の処理剤としては、アルケニル官能性ポリオルガノシロキサンが挙げられる。好適なアルケニル官能性ポリオルガノシロキサンとしては、限定するものではないが、以下のものが挙げられる：

（式中、下付き文字ｒは、１，５００までの値を有する）。

あるいは、水素結合可能なポリオルガノシロキサンが、処理剤として有用である。充填剤の表面を処理するためのこの方法は、相溶性の部分を充填剤表面に繋ぎ止める手段として、集積している又は分散している又はその両方のいずれかの多数の水素結合を利用する。水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、水素結合可能なケイ素結合基を１分子当たり平均で少なくとも１つ有する。この基は、多数のヒドロキシル官能基を有する有機基、又は、少なくとも１つのアミノ官能基を有する有機基から選択され得る。水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、水素結合が、充填剤に対するポリオルガノシロキサンにとっての主な取り付け様式であることを意味する。ポリオルガノシロキサンは、充填剤と共有結合を形成できなくてもよい。ポリオルガノシロキサンは、縮合可能なシリル基（例えば、ケイ素が結合したアルコキシ基、シラザン、及びシラノール）を含まなくてもよい。水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、糖−シロキサンポリマー、アミノ官能性ポリオルガノシロキサン、及びこれらの組み合わせからなる群より選択され得る。あるいは、水素結合可能なポリオルガノシロキサンは、糖−シロキサンポリマーであり得る。

成分（Ｈ）は、殺生物剤である。成分（Ｈ）の量は、選択される殺生物剤のタイプ及び所望される効果といった因子に応じて変動することができる。しかしながら、成分（Ｈ）の量は、組成物の全成分の重量に基づいて０重量％超〜５重量％の範囲であり得る。成分（Ｈ）は、（ｈ１）殺真菌剤、（ｈ２）除草剤、（ｈ３）殺虫剤、（ｈ４）抗菌剤、又はこれらの組み合わせにより、例示される。

成分（ｈ１）は、殺真菌剤であり、例えば、殺真菌剤としては、Ｎ−置換ベンゾイミダゾールカルバメート、ベンゾイミダゾリルカルバメート（例えば、メチル２−ベンゾイミダゾリルカルバメート、エチル２−ベンゾイミダゾリルカルバメート、イソプロピル２−ベンゾイミダゾリルカルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−５−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）−５−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［２−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）−６−メチルベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、イソプロピルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、イソプロピルＮ−｛２−［１−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［Ｎ−メチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−プロピルカルバモイル）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、エトキシエチルＮ−｛２−［１−（Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ）ベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、メチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−クロロベンゾイミダゾリル］｝カルバメート、及びメチルＮ−｛２−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）−６−ニトロベンゾイミダゾリル］｝カルバメート）、１０，１０’−オキシビスフェノキサルシン（商品名：Ｖｉｎｙｚｅｎｅ，ＯＢＰＡ）、ジ−ヨードメチル−パラ−トリルスルホン、ベンゾチオフェン−２−シクロヘキシルカルボキサミド−Ｓ，Ｓ−ジオキシド、Ｎ−（フルオロジクロリド（fluordichloride）メチルチオ）フタルイミド（商品名：Ｆｌｕｏｒ−Ｆｏｌｐｅｒ，Ｐｒｅｖｅｎｔｏｌ Ａ３）、メチル−ベンゾイミダゾール−２−イルカルバメート（商品名：Ｃａｒｂｅｎｄａｚｉｍ，Ｐｒｅｖｅｎｔｏｌ ＢＣＭ）、亜鉛−ビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）（亜鉛ピリチオン）２−（４−チアゾリル）−ベンゾイミダゾール、Ｎ−フェニル−ヨードプロパルギルカルバメート、Ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロリド−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、Ｎ−ブチル−１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、及び／又は、トリアゾリル化合物（例えば、銀を含有するゼオライトと組み合わせたテブコナゾール）が挙げられる。

成分（ｈ２）は除草剤であり、例えば、好適な除草剤としては、アミド系除草剤（例えば、アリドクロルＮ，Ｎ−ジアリル−２−クロロアセトアミド、ＣＤＥＡ ２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、エトニプロミド（ＲＳ）−２−［５−（２，４−ジクロロフェノキシ）−２−ニトロフェノキシ］−Ｎ−エチルプロピオンアミド）、アニリド系除草剤（例えば、シサニリドシス−２，５−ジメチルピロリジン−１−カルボキシアニリド、フルフェナセット４’−フルオロ−Ｎ−イソプロピル−２−［５−（トリフルオロメチル）−１，３，４−チアジアゾール−２−イルオキシ］アセトアニリド、ナプロアニリド（ＲＳ）−α−２−ナフトキシプロピオンアニリド）、アリールアラニン系除草剤（例えば、ベンゾイルプロップＮ−ベンゾイル−Ｎ−（３，４−ジクロロフェニル）−ＤＬ−アラニン、フラムプロップ−Ｍ Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−Ｄ−アラニン）、クロロアセトアニリド系除草剤（例えば、ブタクロールＮ−ブトキシメチル−２−クロロ−２’，６’−ジエチルアセトアニリド、メタザクロル２−クロロ−Ｎ−（ピラゾール−１−イルメチル）アセト−２’，６’−キシリジド、プリナクロル（ＲＳ）−２−クロロ−Ｎ−（１−メチルプロパ−２−イニル）アセトアニリド）、スルホンアニリド系除草剤（例えば、クロランスラム３−クロロ−２−（５−エトキシ−７−フルオロ［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ｃ］ピリミジン−２−イルスルホンアミド）安息香酸、メトスラム２’，６’−ジクロロ−５，７−ジメトキシ−３’−メチル［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ａ］ピリミジン−２−スルホンアニリド）、抗生物質系除草剤（例えば、ビラナホス４−［ヒドロキシ（メチル）ホスフィノイル］−Ｌ−ホモアラニル−Ｌ−アラニル−Ｌ−アラニン）、安息香酸系除草剤（例えば、クロランベン３−アミノ−２，５−ジクロロ安息香酸、２，３，６−ＴＢＡ ２，３，６−トリクロロ安息香酸）、ピリミジニルオキシ安息香酸系除草剤（例えば、ビスピリバック２，６−ビス（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルオキシ）安息香酸）、ピリミジニルチオ安息香酸系除草剤（例えば、ピリチオバック２−クロロ−６−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルチオ）安息香酸）、フタル酸系除草剤（例えば、クロルタールテトラクロロテレフタル酸）、ピコリン酸系除草剤（例えば、アミノピラリド４−アミノ−３，６−ジクロロピリジン−２−カルボン酸）、キノリンカルボン酸系除草剤（例えば、キンクロラック３，７−ジクロロキノリン−８−カルボン酸）、ヒ素系除草剤（例えば、ＣＭＡカルシウムビス（水素メチルアルソネート）、ＭＡＭＡアンモニウム水素メチルアルソネート、亜ヒ酸ナトリウム）、ベンゾイルシクロヘキサンジオン系除草剤（例えば、メソトリオン２−（４−メシル−２−ニトロベンゾイル）シクロヘキサン−１，３−ジオン）、ベンゾフラニルアルキルスルホネート系除草剤（例えば、ベンフレセート２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチルベンゾフラン−５−イルエタンスルホネート）、カルバミン酸塩系除草剤（例えば、カルボキサゾールメチル５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，２−オキサゾール−３−イルカルバメート、フェナスラム（fenasulam）メチル４−［２−（４−クロロ−ｏ−トリルオキシ）アセトアミド］フェニルスルホニルカルバメート）、カルバニル酸塩系除草剤（例えば、ＢＣＰＣ（ＲＳ）−ｓｅｃ−ブチル３−クロロカルバニレート、デスメジファム エチル３−フェニルカルバモイルオキシフェニルカルバメート、スウェップメチル３，４−ジクロロカルバニレート）、シクロヘキセンオキシム系除草剤（例えば、ブトロキシジム（ＲＳ）−（ＥＺ）−５−（３−ブチリル−２，４，６−トリメチルフェニル）−２−（１−エトキシイミノプロピル）−３−ヒドロキシシクロヘキサ−２−エン−１−オン、テプラロキシジム（ＲＳ）−（ＥＺ）−２−｛１−［（２Ｅ）−３−クロロアリルオキシイミノ］プロピル｝−３−ヒドロキシ−５−ペルヒドロピラン−４−イルシクロヘキサ−２−エン−１−オン）、シクロプロピルイソオキサゾール系除草剤（例えば、イソキサクロルトール４−クロロ−２−メシルフェニル５−シクロプロピル−１，２−オキサゾール−４−イルケトン）、ジカルボキシミド系除草剤（例えば、フルメジン２−メチル−４−（α，α，α−トリフルオロ−ｍ−トリル）−１，２，４−オキサジアジナン−３，５−ジオン）、ジニトロアニリン系除草剤（例えば、エタルフルラリンＮ−エチル−α，α，α−トリフルオロ−Ｎ−（２−メチルアリル）−２，６−ジニトロ−ｐ−トルイジン、プロジアミン５−ジプロピルアミノ−α，α，α−トリフルオロ−４，６−ジニトロ−ｏ−トルイジン）、ジニトロフェノール系除草剤（例えば、ジノプロップ４，６−ジニトロ−ｏ−シメン−３−オール、エチノフェンα−エトキシ−４，６−ジニトロ−ｏ−クレゾール）、ジフェニルエーテル系除草剤（例えば、エトキシフェンＯ−［２−クロロ−５−（２−クロロ−α，α，α−トリフルオロ−ｐ−トリルオキシ）ベンゾイル］−Ｌ乳酸）、ニトロフェニルエーテル系除草剤（例えば、アクロニフェン２−クロロ−６−ニトロ−３−フェノキシアニリン、ニトロフェン２，４−ジクロロフェニル４−ニトロフェニルエーテル）、ジチオカルバメート系除草剤（例えば、ダゾメット３，５−ジメチル−１，３，５−チアジアジナン−２−チオン）、ハロゲン化脂肪族系除草剤（例えば、ダラポン２，２−ジクロロプロピオン酸）、クロロ酢酸）、イミダゾリノン系除草剤（例えば、イマザピル（ＲＳ）−２−（４−イソプロピル−４−メチル−５−オキソ−２−イミダゾリン−２−イル）ニコチン酸）、無機除草剤（例えば、四ホウ酸二ナトリウム十水和物、アジ化ナトリウム）、ニトリル系除草剤（例えば、クロロキシニル３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾニトリル、イオキシニル４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ヨードベンゾニトリル）、有機リン系除草剤（例えば、アニロホスＳ−４−クロロ−Ｎ−イソプロピルカルバニロイルメチルＯ，Ｏ−ジメチルホスホロジチオネート、グルホシネート４−［ヒドロキシ（メチル）ホスフィノイル］−ＤＬ−ホモアラニン、フェノキシ系除草剤（例えば、クロメプロップ（ＲＳ）−２−（２，４−ジクロロ−ｍ−トリルオキシ）プロピオンアニリド、フェンテラコール２−（２，４，５−トリクロロフェノキシ）エタノール）、フェノキシ酢酸系除草剤（例えば、ＭＣＰＡ（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酢酸）、フェノキシ酪酸系除草剤（例えば、ＭＣＰＢ ４−（４−クロロ−ｏ−トリルオキシ）酪酸）、フェノキシプロピオン酸系除草剤（例えば、フェノプロップ（ＲＳ）−２−（２，４，５−トリクロロフェノキシ）プロピオン酸）、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤（例えば、イソキサピリホップ（ＲＳ）−２−［２−［４−（３，５−ジクロロ−２−ピリジルオキシ）フェノキシ］プロピオニル］イソオキサゾリジン）、フェニレンジアミン系除草剤（例えば、ジニトラミンＮ^１，Ｎ^１−ジエチル−２，６−ジニトロ−４−トリフルオロメチル−ｍ−フェニレンジアミン）、ピラゾリルオキシアセトフェノン系除草剤（例えば、ピラゾキシフェン２−［４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−ジメチルピラゾール−５−イルオキシ］アセトフェノン）、ピラゾリルフェニル系除草剤（例えば、ピラフルフェン２−クロロ−５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−メチルピラゾール−３−イル）−４−フルオロフェノキシ酢酸）、ピリダジン系除草剤（例えば、ピリダフォル６−クロロ−３−フェニルピリダジン−４−オール）、ピリダジノン系除草剤（例えば、クロリダゾン５−アミノ−４−クロロ−２−フェニルピリダジン−３（２Ｈ）−オン、オキサピラゾン５−ブロモ−１，６−ジヒドロ−６−オキソ−１−フェニルピリダジン−４−イルオキサム酸）、ピリジン系除草剤（例えば、フルロキシピル４−アミノ−３，５−ジクロロ−６−フルオロ−２−ピリジルオキシ酢酸、チアゾピルメチル２−ジフルオロメチル−５−（４，５−ジヒドロ−１，３−チアゾール−２−イル）−４−イソブチル−６−トリフルオロメチルニコチネート）、ピリミジンジアミン除草剤（例えば、イプリダム６−クロロ−Ｎ^４−イソプロピルピリミジン−２，４−ジアミン）、四級アンモニウム系除草剤（例えば、ジエタムクアット１，１’−ビス（ジエチルカルバモイルメチル）−４，４’−ビピリジニウム、パラクアット１，１’−ジメチル−４，４’−ビピリジニウム）、チオカルバメート系除草剤（例えば、シクロエートＳ−エチルシクロヘキシル（エチル）チオカルバメート、チオカルバジルＳ−ベンジルジ−ｓｅｃ−ブチルチオカルバメート）、チオカルボネート除草剤（例えば、ＥＸＤ Ｏ，Ｏ−ジエチルジチオビス（チオホルメート））、チオ尿素系除草剤（例えば、メチウロン１，１−ジメチル−３−ｍ−トリル−２−チオ尿素）、トリアジン系除草剤（例えば、トリアジフラム（ＲＳ）−Ｎ−［２−（３，５−ジメチルフェノキシ）−１−メチルエチル］−６−（１−フルオロ−１−メチルエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン）、クロロトリアジン系除草剤（例えば、シプラジン６−クロロ−Ｎ^２−シクロプロピル−Ｎ^４−イソプロピル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン、プロパジン６−クロロ−Ｎ^２，Ｎ^４−ジ−イソプロピル−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン）、メトキシトリアジン系除草剤（例えば、プロメトンＮ^２，Ｎ^４−ジ−イソプロピル−６−メトキシ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン）、メチルチオトリアジン系除草剤（例えば、シアナトリン２−（４−エチルアミノ−６−メチルチオ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）−２−メチルプロピオニトリル）、トリアジノン系除草剤（例えば、ヘキサジノン３−シクロヘキシル−６−ジメチルアミノ−１−メチル−１，３，５−トリアジン−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−ジオン）、トリアゾール系除草剤（例えば、エプロナズＮ−エチル−Ｎ−プロピル−３−プロピルスルホニル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−カルボキサミド）、トリアゾロン系除草剤（例えば、カルフェントラゾン（ＲＳ）−２−クロロ−３−｛２−クロロ−５−［４−（ジフルオロメチル）−４，５−ジヒドロ−３−メチル−５−オキソ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル］−４−フルオロフェニル｝プロピオン酸）、トリアゾールピリミジン系除草剤（例えば、フロラスラム２’，６’，８−トリフルオロ−５−メトキシ［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ｃ］ピリミジン−２−スルホンアニリド）、ウラシル系除草剤（例えば、フルプロパシルイソプロピル２−クロロ−５−（１，２，３，６−テトラヒドロ−３−メチル−２，６−ジオキソ−４−トリフルオロメチルピリミジン−１−イル）ベンゾエート）、尿素系除草剤（例えば、シクルロン３−シクロ−オクチル−１，１−ジメチル尿素、モニソウロン（monisouron）１−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，２−オキサゾール−３−イル）−３−メチル尿素）、フェニル尿素系除草剤（例えば、クロロクスロン３−［４−（４−クロロフェノキシ）フェニル］−１，１−ジメチル尿素、シデュロン１−（２−メチルシクロヘキシル）−３−フェニル尿素）、ピリミジニルスルホニル尿素系除草剤（例えば、フラザスルフロン１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−３−（３−トリフルオロメチル−２−ピリジルスルホニル）尿素、ピラゾスルフロン５−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルバモイル）スルファモイル］−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸）、
トリアジニルスルホニル尿素除草剤（例えば、チフェンスルフロン３−（４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジン−２−イルカルバモイルスルファモイル）チオフェン−２−カルボン酸）、チアジアゾリル尿素除草剤（例えば、テブチウロン１−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）−１，３−ジメチル尿素）、並びに／又は、未分類の除草剤（例えば、クロルフェナック（２，３，６−トリクロロフェニル）酢酸、メタゾール２−（３，４−ジクロロフェニル）−４−メチル−１，２，４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオン、トリタック（tritac）（ＲＳ）−１−（２，３，６−トリクロロベンジルオキシ）プロパン−２−オール、２，４−Ｄ、クロリムロン、及びフェノキサプロップ）、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（ｈ３）は、殺虫剤である。好適な殺虫剤は、アトラジン、ダイアジノン、及びクロロピリホスにより、例示される。議論を進めるため、殺虫剤は、昆虫忌避剤（例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチル−メタ−トルアミド）及びプレスロイド（例えば、ピレトリン）を包含するものとする。

成分（ｈ４）は、抗菌剤である。好適な抗菌剤は市販されており、例えば、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）５７００及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）５７７２が挙げられ、これらはＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からのものである。

あるいは、成分（Ｈ）は、例えば、ホウ素無水物、ホウ砂又は八ホウ酸二ナトリウム四水和物といったホウ素含有物質を含んでよく、これは殺虫剤、殺真菌剤、及び／又は難燃剤として機能し得る。

成分（Ｊ）は、難燃剤である。好適な難燃剤としては、例えば、カーボンブラック、水酸化アルミニウム水和物、及びケイ酸塩（例えば、ウォラストナイト）、白金及び白金化合物を挙げることができる。あるいは、難燃剤は、ハロゲン系難燃剤（例えば、デカブロモジフェニルオキシド、オクタブロモジフェニルオキシド（octabromordiphenyl oxide）、ヘキサブロモシクロドデカン、デカブロモビフェニルオキシド、ジフェニルオキシベンゼン、エチレンビス−テトラブロモフタルアミド、ペンタブロモエチルベンゼン、ペンタブロモベンジルアクリレート、トリブロモフェニルマレイン酸イミド、テトラブロモビスフェニルＡ、ビス−（トリブロモフェノキシ）エタン、ビス−（ペンタブロモフェノキシ）エタン、ポリジブロモフェニレンオキシド、トリブロモフェニルアリルエーテル、ビス−ジブロモプロピルエーテル、テトラブロモフタル酸無水物、ジブロモネオペンチルグリコール、ジブロモエチルジブロモシクロヘキサン、ペンタブロモジフェニルオキシド、トリブロモスチレン、ペンタブロモクロロシクロヘキサン、テトラブロモキシレン、ヘキサブロモシクロドデカン、臭素化ポリスチレン、テトラデカブロモジフェノキシベンゼン、トリフルオロプロペン及びＰＶＣから選択され得る。あるいは、難燃剤は、リン系難燃剤（例えば、（２，３−ジブロモプロピル）−ホスフェート、リン、環式リン酸塩、トリアリルホスフェート、ビス−メラミニウムペンテート、ペンタエリスリトール二環式ホスフェート、ジメチルメチルホスフェート、ホスフィンオキシドジオール、トリフェニルホスフェート、トリス−（２−クロロエチル）ホスフェート）、リン酸エステル（例えば、トリクレイル（tricreyl）、トリキシレニル、イソデシルジフェニル、エチルヘキシルジフェニル）、様々なアミンのリン酸塩（例えば、リン酸アンモニウム、トリオクチル、トリブチル又はトリス−ブトキシエチルホスフェートエステル）から選択され得る。他の難燃剤としては、テトラアルキル鉛化合物（例えば、テトラエチル鉛）、ペンタカルボニル鉄、メチルシクロペンタジエニルマンガントリカルボニル、メラミン及び誘導体（例えば、メラミン塩）、グアニジン、ジシアンジアミド、スルファミン酸アンモニウム、アルミナ三水和物、及び水酸化マグネシウムとアルミナ三水和物を挙げることができる。

難燃剤の量は、選択される難燃剤、及び溶媒が存在するかどうかといった因子に応じて変動することができる。しかしながら、組成物中の難燃剤の量は、組成物の全成分の総重量に基づいて０重量％超〜１０重量％の範囲であり得る。

成分（Ｋ）は、表面改質剤である。好適な表面改質剤は、（ｋ１）接着促進剤又は（ｋ２）離型剤により、例示される。成分（ｋ１）に好適な接着促進剤は、遷移金属キレート、ハイドロカルボノオキシシラン、例えば、アルコキシシラン、アルコキシシランとヒドロキシ官能性ポリオルガノシロキサンの組み合わせ、アミノ官能性シラン、又はこれらの組み合わせを含み得る。接着促進剤は、当該技術分野において既知であり、式Ｒ^２４ _ｔＲ^２５ _ｕＳｉ（ＯＲ^２６）_{４−（ｔ＋ｕ）}を有するシランを含んでよく、式中、Ｒ^２４はそれぞれ独立して、少なくとも３個の炭素原子を有する一価の有機基であり、Ｒ^２５は、接着促進基（例えば、アミノ、エポキシ、メルカプト、又はアクリレート基）を有するＳｉＣ結合置換基を少なくとも１つ含有し、下付き文字ｔは０〜２の範囲の値を有し、下付き文字ｕは１又は２のいずれかであり、（ｔ＋ｕ）の合計は３以下である。あるいは、接着促進剤は、上記シランの部分縮合体を含み得る。あるいは、接着促進剤は、アルコキシシランとヒドロキシ官能性ポリオルガノシロキサンの組み合わせを含み得る。

あるいは、接着促進剤は、不飽和又はエポキシ官能性化合物を含み得る。あるいは、接着促進剤は、不飽和又はエポキシ官能性アルコキシシランを含み得る。例えば、官能性アルコキシシランは、式Ｒ^２７ _ｖＳｉ（ＯＲ^２８）_{（４−ｖ）}を有することができ、添字ｖは１、２又は３であり、あるいは、添字ｖは１である。各Ｒ^２７は、それぞれ独立して一価の有機基であるが、但し、少なくとも１つのＲ^２７は、不飽和有機基又はエポキシ官能性有機基である。Ｒ^２７のエポキシ官能性有機基は、３−グリシドキシプロピル及び（エポキシシクロヘキシル）エチルにより例示される。Ｒ^２７の不飽和有機基は、３−メタクリロイルオキシプロピル、３−アクリロイルオキシプロピル、並びに、ビニル、アリル、ヘキセニル、ウンデシレノイル（undecylenyl）等の不飽和一価の炭化水素基により例示される。Ｒ^２８は、それぞれ独立して、１〜４個の炭素原子、あるいは１〜２個の炭素原子の飽和炭化水素基である。Ｒ^２８は、メチル、エチル、プロピル及びブチルにより例示される。

好適なエポキシ官能性アルコキシシランの例としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、（エポキシシクロヘキシル）エチルジメトキシシラン、（エポキシシクロヘキシル）エチルジエトキシシラン及びこれらの組み合わせが挙げられる。好適な不飽和アルコキシシランの例としては、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ヘキセニルトリメトキシシラン、ウンデシレノイル（undecylenyl）トリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン及びこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、接着促進剤は、上記のようなヒドロキシ末端ポリオルガノシロキサンとエポキシ官能性アルコキシシランの反応生成物、又は、ヒドロキシ末端ポリオルガノシロキサンとエポキシ官能性アルコキシシランの物理的ブレンド等のエポキシ官能性シロキサンを含み得る。接着促進剤は、エポキシ官能性アルコキシシランとエポキシ官能性シロキサンの組み合わせを含み得る。例えば、接着促進剤は、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランと、ヒドロキシ末端メチルビニルシロキサンと３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの反応生成物と、の混合物、あるいは、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとヒドロキシ末端メチルビニルシロキサンの混合物、あるいは、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとヒドロキシ末端メチルビニル／ジメチルシロキサンコポリマーの混合物により、例示される。

あるいは、接着促進剤は、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_５ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２、及びこれらの組み合わせ等に例示される、アミノ官能性アルコキシシラン等のアミノ官能性シランを含んでいてもよい。

あるいは、接着促進剤は、遷移金属キレートを含み得る。好適な遷移金属キレートとしては、チタン酸塩、アセチルアセトナトジルコニウム等のジルコン酸塩、アセチルアセトナトアルミニウム等のアルミニウムキレート、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

成分（ｋ２）は、離型剤である。好適な離型剤は、フッ素化化合物（例えば、フルオロ官能性シリコーン又はフルオロ官能性有機化合物）により、例示される。

あるいは、成分（Ｋ）にの表面改質剤は、組成物の反応生成物の表面の外観を変化させるために使用することができる。例えば、表面改質剤は、組成物の反応生成物の表面の光沢を増加させるために使用することができる。このような表面改質剤は、アルキル及びアリル基を有するポリジオルガノシロキサンを含み得る。例えば、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）５５０流体は、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されている、０．０００１２５ｍ^２／ｓ（１２５ｃＳｔ）の粘度を有するトリメチルシロキシ末端ポリ（ジメチル／メチルフェニル）シロキサンである。

あるいは、成分（Ｋ）は、亜麻仁油、桐油、大豆油、ヒマシ油、魚油、麻実油、綿実油、オイチシカ油及び菜種油といった、植物又は動物資源から得られる天然油であり得る。

成分（Ｋ）の正確な量は、成分（Ｋ）として選択される表面改質剤のタイプ、並びに、組成物及びその反応生成物の最終用途といった、様々な因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｋ）は、存在する場合、組成物の重量に基づいて０．０１〜５０重量部、あるいは０．０１〜１０重量部、あるいは０．０１〜５重量部の範囲の量で組成物に添加され得る。成分（Ｋ）は、１つの接着促進剤であってもよい。あるいは、成分（Ｋ）は、以下の特性のうちの少なくとも１つが異なる２つ以上の異なる表面改質剤を含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列。

鎖延長剤は、二官能性シラン及び二官能性シロキサンを含んでよく、これらは、架橋が生じる前にポリオルガノシロキサン鎖の長さを延長する。鎖延長剤は、硬化生成物の引張弾性率を減少させるために使用することができる。鎖延長剤と架橋剤は、成分（Ｂ）中の加水分解性置換基との反応において競合する。顕著な鎖延長を得るためには、二官能性シランは、これと共に使用される三官能性架橋剤よりもかなり高い反応性を有する必要がある。好適な鎖延長剤としては、ジアミノシラン（例えば、ジアルキルジアセトアミドシラン又はアルケニルアルキルジアセトアミドシラン、特にメチルビニルジ（Ｎ−メチルアセトアミド）シラン又はジメチルジ（Ｎ−メチルアセトアミド）シラン）、ジアセトキシシラン（例えば、ジアルキルジアセトキシシラン又はアルキルアルケニルジアセトキシシラン）、ジアミノシラン（例えば、ジアルキルジアミノシラン又はアルキルアルケニルジアミノシラン）、ジアルコキシシラン（例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン）、並びに、α−アミノアルキルジアルコキシアルキルシラン、２〜２５の重合度を有し、１分子当たり平均で少なくとも２個の加水分解性基（例えば、アセトアミド又はアセトキシ又はアミノ又はアルコキシ又はアミド又はケトキシモ置換基）を有するポリジアルキルシロキサン、並びに、ジケトキシミノシラン（diketoximinosilanes）（例えば、ジアルキルケトキシミノシラン及びアルキルアルケニルジケトキシミノシラン）が挙げられる。成分（Ｌ）は、１つの鎖延長剤であってもよい。あるいは、成分（Ｌ）は、以下の特性のうちの少なくとも１つが異なる２つ以上の異なる鎖延長剤を含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列。

成分（Ｍ）は、末端封鎖剤であり、これはＭ単位、すなわち、式Ｒ^２９ _３ＳｉＯ_１／２のシロキサン単位を含む。（式中、Ｒ^２９はそれぞれ独立して、一価の炭化水素基等の、成分（Ｂ）とは反応性ではない一価の有機基を表す）成分（Ｍ）は、一方の末端をトリオルガノシリル基（例えば、（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ−）により、もう一方の末端をヒドロキシル基により末端封鎖されたポリオルガノシロキサンを含んでよい。成分（Ｍ）は、ポリジオルガノシロキサン（例えば、ポリジメチルシロキサン）であり得る。ヒドロキシル末端基とトリオルガノシリル末端基の両方を有するポリジオルガノシロキサンは、全ての末端基の５０％超、あるいは７５％超をヒドロキシル基として有し得る。ポリジメチルシロキサン中のトリオルガノシリル基の量は、組成物の縮合反応により調製される反応生成物の弾性率を制御するために使用することができる。理論に束縛されるものではないが、トリオルガノシリル末端基の濃度が高いほど、特定の硬化生成物における弾性率が低くなり得ると考えられている。成分（Ｍ）は、１つの末端封鎖剤であってもよい。あるいは、成分（Ｍ）は、以下の特性のうちの少なくとも１つが異なる２つ以上の異なる末端封鎖剤を含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列。

成分（Ｎ）は、非反応性のエラストマー有機ポリマーであり、すなわち、成分（Ｂ）と反応しないエラストマー有機ポリマーである。成分（Ｎ）は成分（Ｂ）と相溶性であり、すなわち、成分（Ｎ）は成分（Ｂ）と二相系を形成しない。成分（Ｎ）の気体及び水分透過性は低くてもよい。成分（Ｎ）は、３０，０００〜７５，０００の範囲のＭｎを有し得る。あるいは、成分（Ｎ）は、高分子量の非反応性エラストマー有機ポリマーと低分子量の非反応性エラストマー有機ポリマーとのブレンドであり得る。この場合、高分子量ポリマーは１００，０００〜６００，０００の範囲のＭｎを有し、低分子量ポリマーは９００〜１０，０００、あるいは９００〜３，０００の範囲のＭｎを有する。Ｍｎの範囲の下端の値は、成分（Ｎ）が成分（Ｂ）及び組成物の他の成分と相溶性を有するように、選択され得る。

成分（Ｎ）は、ポリイソブチレンを含み得る。ポリイソブチレンは当該技術分野において既知であり、市販されている。成分（Ｎ）として使用に好適な例としては、ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ドイツ）により商品名ＯＰＰＡＮＯＬ（登録商標）で流通しているポリイソブチレンが挙げられる。

他のポリイソブチレンとしては、日油株式会社化成事業部（１５０〜６０１９東京都渋谷区恵比寿四丁目２０番３号恵比寿ガーデンプレイスタワー、日本）からの最高分子量の水素添加ポリイソブテンＰＡＲＬＥＡＭ（登録商標）ＳＶ（ＰＯＬＹＳＹＮＬＡＮＥ ＳＶ）（動粘度（９８．９℃）４７００）といった異なるＰａｒｌｅａｍグレードが挙げられる。他のポリイソブチレンは、ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．（Ｂａｙｔｏｗｎ，Ｔｅｘａｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されており、例としては、商品名ＶＩＳＴＡＮＥＸ（登録商標）（例えば、ＭＭＬ−８０、ＭＭＬ−１００、ＭＭＬ−１２０、及びＭＭＬ−１４０）で流通しているポリイソブチレンが挙げられる。ＶＩＳＴＡＮＥＸ（登録商標）ポリイソブチレンは、鎖末端オレフィン結合のみを含有する長い直鎖マクロ分子から構成されるパラフィン系炭化水素である。ＶＩＳＴＡＮＥＸ（登録商標）ＭＭポリイソブチレンは、７０，０００〜９０，０００の範囲の粘度平均分子量を有する。低分子量ポリイソブチレンとしては、ＶＩＳＴＡＮＥＸ（登録商標）ＬＭ（例えば、ＬＭ−ＭＳ（８，７００〜１０，０００の範囲の粘度平均分子量、これもまたＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．製））及びＶＩＳＴＡＮＥＸ ＬＭ−ＭＨ（１０，０００〜１１，７００の粘度平均分子量）、並びに、ＡｍｏｃｏからのＳｏｌｔｅｘ ＰＢ−２４（Ｍｎ ９５０）及びＩｎｄｏｐｏｌ（登録商標）Ｈ−１００（Ｍｎ ９１０）及びＩｎｄｏｐｏｌ（登録商標）Ｈ−１２００（Ｍｎ ２１００）が挙げられる。他のポリイソブチレンは、ＢＰ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｌｏｎｄｏｎ，Ｅｎｇｌａｎｄ）により商品名ＮＡＰＶＩＳ（登録商標）及びＨＹＶＩＳ（登録商標）で流通している。これらのポリイソブチレンとしては、ＮＡＰＶＩＳ（登録商標）２００、Ｄ１０及びＤＥ３、並びに、ＨＹＶＩＳ（登録商標）２００が挙げられる。ＮＡＰＶＩＳ（登録商標）ポリイソブチレンは、９００〜１３００の範囲のＭｎを有し得る。

あるいは、成分（Ｎ）は、ブチルゴムを含み得る。あるいは、成分（Ｎ）は、スチレン−エチレン／ブチレン−スチレン（ＳＥＢＳ）ブロックコポリマー、スチレン−エチレン／プロピレン−スチレン（ＳＥＰＳ）ブロックコポリマー、又はこれらの組み合わせを含み得る。ＳＥＢＳ及びＳＥＰＳブロックコポリマーは、当該技術分野において既知であり、Ｋｒａｔｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ Ｕ．Ｓ．ＬＬＣ（Ｈｏｕｓｔｏｎ，Ｔｅｘａｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からＫｒａｔｏｎ（登録商標）Ｇポリマーとして、及びＫｕｒａｒａｙ Ａｍｅｒｉｃａ，Ｉｎｃ．（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，ＮＹ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からＳｅｐｔｏｎポリマーとして市販されている。あるいは、成分（Ｎ）はポリオレフィンプラストマーを含んでいてもよい。ポリオレフィンプラストマーは、当該技術分野において既知であり、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｅｌａｓｔｏｍｅｒｓ ＆ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｄｉｖｉｓｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からＡＦＦＩＮＩＴＹ（登録商標）ＧＡ １９００及びＡＦＦＩＮＩＴＹ（登録商標）ＧＡ １９５０として市販されている。

成分（Ｎ）の量は、組成物の重量に基づいて０部〜５０部、あるいは１０部〜４０部、あるいは５部〜３５部の範囲であり得る。成分（Ｎ）は、１つの非反応性エラストマー有機ポリマーであり得る。あるいは、成分（Ｎ）は、以下の特性のうちの少なくとも１つが異なる２つ以上の異なる非反応性エラストマー有機ポリマーを含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、ポリマー単位、及び配列。あるいは、成分（Ｎ）は、成分（Ｂ）が有機ポリマー主鎖を有するベースポリマーを含む場合に、組成物に添加され得る。

成分（Ｏ）は、老化防止添加剤である。老化防止添加剤は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、熱安定剤、又はこれらの組み合わせを含み得る。好適な酸化防止剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。好適な酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、及び、フェノール系酸化防止剤と安定剤の組み合わせが挙げられる。フェノール系酸化防止剤は、完全立体障害フェノール及び部分障害フェノールを含む。あるいは、安定剤は、テトラメチル−ピペリジン誘導体のような立体障害アミンであってもよい。適切なフェノール系酸化防止剤としては、ビタミンＥ、及びＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｕ．Ｓ．Ａ．）からのＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０が挙げられる。ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）を含む。紫外線吸収剤の例としては、分枝状及び直鎖の、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ドデシル−４−メチル−フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）５７１）が挙げられる。紫外線安定剤の例としては、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、メチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピぺリジル／セバケート、及びこれらの組み合わせ（ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）２７２）が挙げられる。これらの及び他のＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）添加剤（例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）７６５）は、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，ＮＹ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている。その他の紫外線及び光安定剤は市販されており、ＣｈｅｍｔｕｒａからのＬｏｗＬｉｔｅ、ＰｏｌｙＯｎｅからのＯｎＣａｐ、Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｄｅｌａｗａｒｅ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からのＬｉｇｈｔ Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒ ２１０に例示される。あるいは、（高分子量）オリゴマーの安定剤は、例えば、組成物又はその硬化物から安定剤が移る可能性を最小限にするために使用されてもよい。オリゴマーの酸化防止剤安定剤（特に障害アミン光安定剤（ＨＡＬＳ））は、Ｃｉｂａ ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）６２２であり、これは、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールと共重合したブタン二酸のジメチルエステルである。熱安定剤は、酸化鉄及びカーボンブラック、カルボン酸鉄、セリウム水和物、ジルコン酸バリウム、オクタン酸セリウム及びオクタン酸ジルコニウム、並びにポルフィリンを含み得る。

成分（Ｏ）の量は、選択される特定の老化防止添加剤及び所望される老化防止効果といった様々な因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｏ）の量は、組成物の重量に基づいて０〜５重量％、あるいは０．１〜４重量％、あるいは０．５〜３重量％の範囲であり得る。成分（Ｏ）は、１つの老化防止添加剤であってもよい。あるいは、成分（Ｏ）は、２つ以上の異なる老化防止添加剤であってもよい。

成分（Ｐ）は、適用温度範囲にわたって水を放出する水放出剤である。成分（Ｐ）は、組成物と部分的又は完全に反応するのに十分な量の水を成分（Ｐ）が含有するように、並びに、使用温度（すなわち、組成物が使用される温度）に十分な時間にわたって曝露されたときに成分（Ｐ）が十分な量の水を放出するように、選択される。しかしながら、成分（Ｐ）は、組成物の製造工程の間及び組成物を貯蔵する間に過度の水が放出されないように水を十分に捕捉する。例えば、成分（Ｐ）は、組成物が使用される適用プロセスの間又はその後に、十分な水が組成物の縮合反応に利用可能であるように、組成物の混練中に水を十分に捕捉する。この「制御放出」特性はまた、過度の水が適用プロセス中にあまりにも急速に放出されないようにするという効果をもたらし得るが、それは、これが組成物の縮合反応により形成される反応組成物中に発泡又は空隙を生じ得るからである。軽質炭酸カルシウムは、適用温度が８０℃〜１２０℃、あるいは９０℃〜１１０℃、あるいは９０℃〜１００℃の範囲である場合に、成分（Ｐ）として使用され得る。しかしながら、組成物が連続（二軸）混練装置で調製される場合、成分は、短い時間にわたって適合温度よりも２０℃〜３０℃高い温度にて混練され得る。それゆえに、成分（Ｐ）は、混練中に含水量の全てを放出せず、しかしながら、十分な時間にわたって適切な範囲の温度に曝露されると成分（Ｐ）が組成物の縮合反応に十分な量の水を放出するように、選択される。

好適な水放出剤の例は、金属塩水和物、水和分子篩、及びＳｏｌｖａｙから商品名ＷＩＮＮＯＦＩＬ（登録商標）ＳＰＭで入手可能な軽質炭酸カルシウムにより、例示される。選択される水放出剤は、組成物のために選択される他の成分（例えば、触媒のタイプ及び量）、混練、包装、及び適用中のプロセス条件といった、様々な因子に応じて異なることができる。二軸混練装置において、滞留時間は、数分未満、典型的には１〜２分未満であり得る。成分は急速に加熱されるが、それは、容器における及び軸に沿った表面積／容積比が高く、成分をせん断することにより熱が生じるからである。どれだけの量の水が成分（Ｐ）から得られるかは、水結合能力、温度、曝露時間（持続時間）、及び混練装置の中を通過する組成物を剥離するために使用される真空のレベルに応じて異なる。理論に縛られることを望むものではないが、１２０℃の二軸混練温度では、組成物が９０℃にて適用された場合、室温にて１〜２週間にわたる縮合反応により組成物を反応させるのに十分な水が析出したＣａＣＯ_３上に残るものと考えられる。

水放出剤は、例えば、ベースポリマーの水透過性が低い場合（例えば、ベースポリマーが有機ポリマー主鎖を有する場合）に、添加することができ、並びに／又は、組成物中の成分（Ｐ）の量は、成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の選択、及び、任意の追加の成分が存在するかどうかといった様々な因子に応じて異なるが、成分（Ｐ）の量は、組成物の重量に基づいて５〜３０部の範囲であり得る。

理論に縛られることを望むものではないが、組成物を適用温度に加熱すると、熱は水を遊離させ、水は、成分（Ｂ）の加水分解性基と反応して組成物を反応させると考えられる。組成物中に残されるアルコール及び／又は水等の副生成物は、乾燥剤により捕捉され得、これにより、縮合反応（平衡反応である）は完了に向かって進行する。

成分（Ｑ）は、顔料である。議論を進めるため、用語「顔料」は、本明細書に記載の組成物の反応生成物に色を付与するのに使用される任意の成分を包含するものとする。顔料の量は、選択される顔料のタイプ及び反応生成物の所望される色合いといった様々な因子に応じて異なる。例えば、組成物は、組成物中の全成分の量に基づいて、０〜２０重量％、あるいは０．００１〜５重量％の顔料を含み得る。

好適な顔料の例としては、インディゴ、二酸化チタンＳｔａｎ−Ｔｏｎｅ ５０ＳＰ０１ Ｇｒｅｅｎ（ＰｏｌｙＯｎｅから市販されている）及びカーボンブラックが挙げられる。カーボンブラックの代表的な非限定例としては、Ｓｈａｗｉｎｉｇａｎアセチレンブラック（Ｃｈｅｖｒｏｎ Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ ＬＰから市販されている）、ＳＵＰＥＲＪＥＴ（登録商標）カーボンブラック（ＬＢ−１０１１）（Ｅｌｅｍｅｎｔｉｓ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．（Ｆａｉｒｖｉｅｗ Ｈｅｉｇｈｔｓ，ＩＬ Ｕ．Ｓ．Ａ．）により供給されている）、ＳＲ ５１１（Ｓｉｄ Ｒｉｃｈａｒｄｓｏｎ Ｃａｒｂｏｎ Ｃｏ，（Ａｋｒｏｎ，ＯＨ Ｕ．Ｓ．Ａ．）により供給されている）、並びに、Ｎ３３０、Ｎ５５０、Ｎ７６２、Ｎ９９０（Ｄｅｇｕｓｓａ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ Ｃａｒｂｏｎｓ（Ｐａｒｓｉｐｐａｎｙ，ＮＪ，Ｕ．Ｓ．Ａ．））が挙げられる。

組成物は、場合により、組成物のレオロジーを改質するために、組成物の重量に基づいて最大で５重量％、あるいは１〜２重量％の成分（Ｒ）レオロジー添加剤を更に含み得る。レオロジー添加剤は、当該技術分野において既知であり、市販されている。例としては、ポリアミド、Ｅｖｏｎｉｋから市販されているＰｏｌｙｖｅｓｔ、Ｋｉｎｇ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されているＤｉｓｐａｒｌｏｎ、Ｄｕ Ｐｏｎｔから市販されているＫｅｖｌａｒ Ｆｉｂｒｅ Ｐｕｌｐ、Ｎａｎｏｃｏｒから市販されているＲｈｅｏｓｐａｎ、Ｌｕｂｒｉｚｏｌから市販されているＩｒｃｏｇｅｌが挙げられる。他の好適なレオロジー添加剤としては、ポリアミド蝋、硬化ヒマシ油誘導体、及び金属石鹸（例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム及びステアリン酸バリウム）、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

あるいは、成分（Ｒ）は、２５℃にて固体（蝋）である微結晶性ワックスを含み得る。融点は、所望される温度の適用範囲の下端にて蝋が融点を有するように、選択することができる。理論に束縛されるものではないが、成分（Ｒ）は、流動特性を改善する一方で、例えば、組成物を基材に適用した後に、組成物を数度冷却する際に生強度を急激に増大（すなわち、温度降下に伴って組成物から生成されるシールの負荷保持能力の増加に対応する粘度の大幅な増加）を可能にする加工助剤として働くと考えられる。理論に束縛されるものではないが、蝋の組み込みは、充填剤の組み込み、（組成物の製造中の）混練及び脱気、及び混合（多部構成組成物の複数の構成部分の適用中の静的又は動的混合）を促進し得ると考えられる。蝋は、溶融すると加工助剤として働き、混練中の組成物において充填剤の組み込み、混練プロセスそれ自体、並びに、使用される場合には脱気工程を容易にすると考えられる。蝋は、１００℃未満の溶融温度では、単純な静的ミキサーでも、適用前の多部構成組成物の複数の構成部分の混合を促進し得る。蝋はまた、８０℃〜１１０℃、あるいは９０℃〜１００℃の範囲の温度にて、良好なレオロジーを伴って、組成物の適用を促進し得る。

成分（Ｒ）としての使用に好適な蝋は、無極性炭化水素であり得る。蝋は、分枝状構造、環状構造、又はこれらの組み合わせを有し得る。例えば、石油微結晶性ワックスは、Ｓｔｒａｈｌ ＆ Ｐｉｔｓｃｈ，Ｉｎｃ．（Ｗｅｓｔ Ｂａｂｙｌｏｎ，ＮＹ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から入手可能であり、例としては、ＳＰ ９６（６２℃〜６９℃の範囲の融点）、ＳＰ １８（７３℃〜８０℃の範囲の融点）、ＳＰ １９（７６℃〜８３℃の範囲の融点）、ＳＰ ２６（７６℃〜８３℃の範囲の融点）、ＳＰ ６０（７９℃〜８５℃の範囲の融点）、ＳＰ ６１７（８８℃〜９３℃の範囲の融点）、ＳＰ ８９（９０℃〜９５℃の範囲の融点）、及びＳＰ ６２４（９０℃〜９５℃の範囲の融点）が挙げられる。その他の石油微結晶性ワックスとしては、Ｃｒｏｍｐｔｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｐｅｔｒｏｌｉａ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からＭｕｌｔｉｗａｘ（登録商標）の商標の下、市販されているワックスが挙げられる。これらのワックスは、７９℃〜８７℃の範囲の融点をもち、飽和分枝及び環状の非極性炭化水素を含む１８０−Ｗ、７６℃〜８３℃の範囲の融点をもち、飽和分枝及び環状の非極性炭化水素を含むＭｕｌｔｉｗａｘ（登録商標）Ｗ−４４５、及び７３℃〜８０℃の範囲の融点をもち、飽和分枝及び環状の非極性炭化水素を含むＭｕｌｔｉｗａｘ（登録商標）Ｗ−８３５が挙げられる。

成分（Ｒ）の量は、選択される特定のレオロジー添加剤及び組成物の他の成分の選択といった様々な因子に応じて異なる。しかしながら、成分（Ｒ）の量は、組成物の重量に基づいて０部〜２０部、あるいは１部〜１５部、あるいは１部〜５部の範囲であってよい。成分（Ｒ）は、１つのレオロジー添加剤であってもよい。あるいは、成分（Ｒ）は、２つ以上の異なるレオロジー添加剤を含んでもよい。

組成物中に、賦形剤（例えば、溶媒及び／又は希釈剤）を使用してもよい。賦形剤は、組成物の流動及びシリコーン樹脂のような特定の成分の導入を促進し得る。本明細書で使用される賦形剤は、組成物の成分の流動化を促進するが、これらの成分のいずれとも本質的に反応しないものである。賦形剤は、組成物中の成分の溶解性及び揮発性に基づいて選択され得る。「溶解性」は、賦形剤が組成物の成分を溶解及び／又は分散させるのに十分であることを指す。「揮発性」は、賦形剤の蒸気圧を指す。賦形剤の揮発性が高すぎる（高すぎる蒸気圧を有する）場合、適用温度にて組成物中に気泡が生じる場合があり、この気泡は破裂を生じる、又は、破裂を生じずとも硬化物の特性を弱める、又は負の影響を与えるおそれがある。しかしながら、賦形剤が十分に揮発性でない（蒸気圧が低すぎる）場合には、賦形剤は、組成物の反応生成物において可塑剤のままとなる、又は反応生成物が物理特性を発現する時間が所望されるよりも長くなるおそれがある。

好適な賦形剤としては、好適な蒸気圧を有するポリオルガノシロキサン、例えば、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン及び他の低分子量ポリオルガノシロキサン、例えば、５Ｅ−７〜１．５Ｅ−６ｍ^２／ｓ（０．５〜１．５センチストークス（ｃＳｔ））のＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）２００流体及びＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＯＳ流体（これらは、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販されている）が挙げられる。

あるいは、賦形剤は有機溶媒であり得る。有機溶媒は、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、又はｎ−プロパノール）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、又はメチルイソブチルケトン）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、又はキシレン）、脂肪族炭化水素（例えば、ヘプタン、ヘキサン、又はオクタン）、グリコールエーテル（例えば、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、又はエチレングリコールｎ−ブチルエーテル）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン、１，１，１−トリクロロエタン、又は塩化メチレン）、クロロホルム、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ホワイトスピリット、ミネラルスピリット、ナフサ、ｎ−メチルピロリドン、又はこれらの組み合わせであり得る。

賦形剤の量は、選択される賦形剤のタイプ並びに組成物のために選択される他の成分の量及びタイプといった様々な因子に応じて異なることができる。しかしながら、賦形剤の量は、組成物の１〜９９重量％、あるいは２〜５０重量％の範囲であり得る。

組成物は、場合により、成分（Ｔ）粘着付与剤を更に含み得る。粘着付与剤は、脂肪族炭化水素樹脂、例えば、６〜２０個の炭素原子を有する水素添加ポリオレフィン、水素添加テルペン樹脂、ロジンエステル、水素添加ロジングリセロールエステル、又はこれらの組み合わせを含み得る。粘着付与樹脂は、市販されている。脂肪族炭化水素樹脂は、Ｅｘｘｏｎ ＣｈｅｍｉｃａｌからのＥＳＣＯＲＥＺ １１０２、１３０４、１３１０、１３１５及び５６００、ＥａｓｔｍａｎからのＥａｓｔｏｔａｃ樹脂（例えば、１００℃の環球式軟化点を有するＥａｓｔｏｔａｃ Ｈ−１００、１１５℃の環球式軟化点を有するＥａｓｔｏｔａｃ Ｈ−１１５Ｅ、及び１３０℃の環球式軟化点を有するＥａｓｔｏｔａｃ Ｈ−１３０Ｌ）により、例示される。水素添加テルペン樹脂は、荒川化学工業株式会社のＡｒｋｏｎ Ｐ １００、及びＧｏｏｄｙｅａｒのＷｉｎｇｔａｃｋ ９５により、例示される。水素添加ロジングリセロールエステルは、ＨｅｒｃｕｌｅｓのＳｔａｙｂｅｌｉｔｅ Ｅｓｔｅｒ １０及びＦｏｒａｌにより、例示される。市販のポリテルペンの例としては、ＨｅｒｃｕｌｅｓのＰｉｃｃｏｌｙｔｅ Ａ１２５が挙げられる。脂肪族／芳香族又は脂環式／芳香族樹脂としては、Ｅｘｘｏｎ ＣｈｅｍｉｃａｌのＥＣＲ １４９Ｂ又はＥＣＲ １７９Ａが挙げられる。あるいは、固体粘着付与剤（すなわち、２５℃以上の環球式軟化点を有する粘着付与剤）が添加され得る。好適な粘着付与剤としては、任意の適合性樹脂又はこれらの混合物、例えば、（１）天然又は変性ロジン（例えば、ガムロジン、ウッドロジン、トール油ロジン、揮発ロジン、水素添加ロジン、二量化ロジン、及び重合ロジン）、（２）天然又は変性ロジンのグリセロール及びペンタエリスリトールエステル（例えば、ペール、ウッドロジン（pale, wood rosin）のグリセロールエステル、水素添加ロジンのグリセロールエステル、重合ロジンのグリセロールエステル、水素添加ロジンのペンタエリスリトールエステル、及びロジンのフェノール変性ペンタエリスリトールエステル）、（３）天然テルペン（例えば、スチレン／テルペン及びα−メチルスチレン／テルペン）のコポリマー及びターポリマー、（４）ＡＳＴＭ方法Ｅ２８，５８Ｔにより測定した場合に６０℃〜１５０℃の範囲の軟化点を有するポリテルペン樹脂（後者のポリテルペン樹脂は一般に、やや低温にてフリーデル・クラフツ触媒の存在下でピネンとして知られる二環式モノテルペンのようなテルペン炭化水素の重合から生じ、また、水素添加ポリテルペン樹脂も含まれる）、（５）（例えば、酸性媒質中で二環式テルペンとフェノールの縮合から生じる樹脂生成物としての）フェノール系変性テルペン樹脂及びこれらの水素添加誘導体、（６）６０℃〜１３５℃の範囲の環球式軟化点を有する脂肪族石油炭化水素樹脂（後者の樹脂は、主にオレフィン及びジオレフィンからなるモノマーの重合から生じ、水素添加脂肪族石油炭化水素樹脂も含む）、（７）脂環式石油炭化水素樹脂及びこれらの水素添加誘導体、並びに（８）脂肪族／芳香族又は脂環式／芳香族コポリマー及びこれらの水素添加誘導体が挙げられる。粘着付与剤の量は、選択される特定の粘着付与剤及び組成物中の他の成分の選択といった様々な因子に応じて異なる。しかしながら、粘着付与剤の量は、組成物の重量に基づいて０部〜２０部の範囲であり得る。

組成物は、場合により、成分（Ｕ）腐食防止剤を更に含む。適切な腐食防止剤の例としては、ベンゾトリアゾール、メルカプトベンゾトリアゾール、及び市販の腐食防止剤（例えば、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール誘導体（ＣＵＶＡＮ（登録商標）８２６）及びＲ．Ｔ．Ｖａｎｄｅｒｂｉｌｔ（Ｎｏｒｗａｌｋ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）からのアルキルチアジアゾール（ＣＵＶＡＮ（登録商標）４８４））が挙げられる。存在する場合、成分（Ｕ）の量は、組成物の重量に基づいて０．０５％〜０．５％の範囲であってよい。

本明細書に記載の特定の成分は１つを超える機能を有し得るため、上述の組成物の成分を選択する際、成分の種類に重複があり得る。例えば、特定のアルコキシシランは充填剤処理剤としても接着促進剤としても有用であり得、特定の脂肪酸エステルは可塑剤としても有用であり得、充填剤処理剤としても有用であり得、カーボンブラックは顔料、難燃剤、及び／又は充填剤として有用であり得、非反応性ポリジオルガノシロキサン（例えば、ポリジメチルシロキサン）は増量剤としても溶媒としても有用であり得る。

上記の組成物は、例えば、混合等の任意の好都合な手段によって全成分を組み合わせることにより、一部構成組成物として調製され得る。例えば、一部構成組成物は、場合により、ベースポリマー（Ｂ）と増量剤（Ｅ）を組み合わせ（予め混合し）、生じた展延ベースポリマーを充填剤（Ｆ）の全て又は一部と混合し、これを架橋剤（Ｃ）及び成分（Ａ）を含むプレミックスと混合することにより、製造され得る。（Ｏ）老化防止添加剤及び（Ｑ）顔料といった他の添加剤は、任意の所望される段階にて混合物に添加され得る。最終混合工程は実質的に無水の条件下で行うことができ、生じた組成物は一般に使用準備が整うまで実質的無水条件下で、例えば、密封容器で保管される。

あるいは、組成物は、架橋剤が存在する場合、多部構成（例えば、２部構成）組成物として調製され得る。この例では、触媒及び架橋剤は別個の構成部分として保管され、これらの構成部分は、組成物の使用直前に組み合わされる。例えば、二部構成硬化性組成物は、成分（Ｂ）及び（Ｃ）を含む成分を組み合わせて混合のような任意の好都合な手段により第一（硬化剤）構成部分を形成することによって、調製され得る。第二（ベース）構成部分は、混合のような任意の好都合な手段により成分（Ａ）及び（Ｂ）を組み合わせることによって、調製され得る。これらの成分は、一部構成組成物又は多部構成組成物のどちらが選択されるかといった様々な因子に応じて、周囲条件又は無水条件下で周囲温度又は高温にて組み合わせられ得る。ベース構成部分と硬化剤構成部分は、使用直前に、混合のような任意の好都合な手段により、組み合わせることができる。ベース構成部分と硬化剤構成部分は、相対的に１：１〜１０：１の範囲のベース：硬化剤量で組み合わせることができる。

成分の混合に使用される装置は、特に限定されない。好適な混合装置の例は、選択される各成分のタイプ及び量に応じて選択されてよい。例えば、反応によりガム又はゲルを形成する組成物等の比較的低粘度の組成物には、撹拌バッチケトルが使用されてもよい。あるいは、例えば、より粘稠な組成物及び、粒子を比較的多量に含有する組成物には、二軸押出成形機のような押出成形機といった連続混練装置が使用され得る。本明細書に記載の組成物の調製に使用できる代表的な方法としては、例えば、米国特許出願公開第２００９／０２９１２３８号及び同第２００８／０３００３５８号に開示されているものが挙げられる。

上述のように製造されるこれらの組成物は、水分への曝露から組成物を保護する容器での保管時に安定であり得るが、これらの組成物は、大気の水分に曝露されると縮合反応によって反応し得る。あるいは、低浸透性組成物が配合された場合、組成物は、水放出剤から水分が放出された際に硬化して、硬化生成物を生じ得る。

上記のように調製された組成物及びこれらの反応生成物は、様々な用途を有する。上記の成分は、成分（Ａ）及び（Ｂ）を含む様々なタイプの組成物を調製するために、使用され得る。組成物は、組成物のタイプ並びに組成物及び／又は組成物の反応生成物の所望される最終用途に応じて、上記の追加の成分のうちの１つ以上を更に含み得る。例えば、上記の成分及び方法は、例えば、ベースポリマーが１分子当たり平均で１〜２個の加水分解性基を有する場合に、ベースポリマーの粘度を増加させるために、及び／又は、ガムを形成するために、鎖延長プロセスに使用され得る。あるいは、上記の成分及び方法は、例えば、ベースポリマーが１分子当たり平均で２個以上の加水分解性基を有する場合に、及び／又は、架橋剤が組成物中に存在する場合に、硬化性組成物を配合するために使用することができる。本明細書に記載の組成物は、水分に曝露することにより縮合反応によって、反応し得る。例えば、組成物は、大気水分に曝露されると、縮合反応によって反応し得る。あるいは、組成物は、水放出剤が存在する場合に、水放出剤から放出される水分と反応する。本明細書に記載の組成物はそれぞれ、反応して反応生成物を形成する。反応生成物は、ガム、ゲル、ゴム、及び樹脂から選択される形態をもっていてよい。

これらの実施例は、本発明の幾つかの実施形態を例示することを目的とするものであり、請求項に記載の本発明の範囲を制限するものとして解釈すべきではない。参考例は、従来技術であるとの記載がない限り、従来技術とみなされるべきではない。下記の成分が下記実施例において使用された。チタン（ＩＶ）エトキシド（「Ｔｉ（ｅｔｈｏｘｉｄｅ）４」）は、Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ．（Ｎｅｗｂｕｒｙｐｏｒｔ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から購入された。テトラベンジルチタン（「Ｔｉ（ｂｅｎｚｙｌ）４」）はＭＣＡＴ ＧｍｂＨ（Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔａｔｓｓｔｒａｓｓｅ １０，７８４５７ Ｋｏｎｓｔａｎｚ，Ｇｅｂａｕｄｅ Ｌ，Ｇｅｒｍａｎｙ）から購入された。架橋剤、ｎ−ブチルトリメトキシシラン（「ｎ−ＢｕＳｉ（Ｏ−Ｍｅ）_３」）はＧｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．（Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から購入された。粘度が９Ｅ−５〜０．０００１２ｍ^２／ｓ（９０〜１２０ｃＳｔ）であり、数平均分子量（Ｍｗ）が４２００である、シラノール末端ポリジメチルシロキサン（「ＰＤＭＳ １」）であるベースポリマーもまた、Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．から購入された。

実施例１−金属−配位子錯体の形成
前駆体溶液は、前駆体と、Ｔｉ（ｅｔｈｏｘｉｄｅ）４又はＴｉ（ｂｅｎｚｙｌ）４（濃度：０．０２５Ｍ）のどちらかとを、トルエンと混合することにより調製された。前駆体溶液は無色であった。上記表１に示される各配位子の溶液もまた、配位子（濃度：０．０２５Ｍ）を、トルエンと混合することにより調製された。

上述のとおり調製された配位子溶液はそれぞれ、予め秤量された１ｍＬ（ミリリットル）のバイアル瓶の中に入れられた。各バイアル瓶中、２４μＬ（マイクロリットル）の溶液（０．６μｍｏｌ（マイクロモル）の配位子に相当）か、又は４８μＬの溶液（１．２μｍｏｌの配位子に相当）が使用された。バイアル瓶中のトルエンは、窒素を流通させた箱の中に、バイアル瓶の蓋を外した状態で一晩置くことにより取り除いた。

配位子（溶媒を含まない）を含む各バイアル瓶に、上記のとおり調製された２４μＬの前駆体溶液（０．６μモルの前駆体に相当）を加え、金属−配位子混合液を生成した。金属−配位子混合液を含むバイアル瓶は、金属−配位子錯体を形成するために、２５℃において６０分間又は７５℃において４５分間、６０ｒｐｍ（回毎分）で振とうされた。

実施例２−縮合反応
上記（実施例１）の錯形成反応の完了後、２１０ｍｇ（ミリグラム）のＰＤＭＳ １（２３５．７μＬ、すなわち５０μモルに相当）及び１７．８ｍｇ（１９．１μＬ、すなわち１００μモルに相当）のｎ−ＢｕＳｉ（Ｏ−Ｍｅ）_３が、ドライボックス内の金属−配位子錯体を含む各バイアル瓶に注入された。その後、各バイアル瓶内の合計量が３２５μＬとなるように、更にトルエンが加えられた。実施例２のサンプルはこのように調製された。陰性対照サンプルもまた上記前駆体を使用して調製したが、配位子は含まずに調製した。陰性対照サンプルには、２１０ｍｇのＰＤＭＳ １、１７．８ｍｇのｎ−ＢｕＳｉ（Ｏ−Ｍｅ）_３、及びトルエン（合計量が３２５μＬになるのに十分な量）が、前駆体の入ったバイアル瓶に注入された。追加の陰性対照サンプルもまた上記表１に示す配位子を使用して調製したが、前駆体は含まずに調製した。これらの追加の陰性対照サンプルには、２１０ｍｇのＰＤＭＳ １、１７．８ｍｇのｎ−ＢｕＳｉ（Ｏ−Ｍｅ）_３、及びトルエン（合計量が３２５μＬになるのに十分な量）が、配位子の入ったバイアル瓶に注入された。

得られた組成物入りのバイアル瓶はドライボックスからドラフトチャンバーに移動され、１分間勢いよく攪拌した（それぞれの組成物を均質にするため、数百ｒｐｍで攪拌した）。その後、バイアル瓶はそれぞれ多孔板で蓋をされ、相対湿度（ＲＨ）を９５％、温度を３０℃に保った恒湿オーブンに入れられた。

恒湿オーブンに４８時間入れた後、バイアル瓶は恒湿オーブンから取り出され、目視による粘度の観察が記録された。４８時間目視粘度測定は、サンプルと、異なる粘度の標準試料を含むバイアル瓶とを交互に比べて目視により測定した。測定は、サンプルが初めて水分に曝されてから４８時間後に行われた。各サンプルの目視による粘度測定値は、サンプルが最も近く一致する標準試料のバイアル瓶に基づき特定される。標準試料は、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，Ｕ．Ｓ．Ａ．）から市販の、粘度の異なるＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）２００流体（「２００ Ｆｌｕｉｄ」）であった。目視による粘度の記述とそれに対応する標準は下記表２に示す。０又は１の値は、サンプルが縮合反応を４８時間以内に起こさなかったことを示した。２〜５の値は、次第に縮合反応が起きたことを示した。繰り返し実験では、目視による粘度測定を行う作業者や、繰り返し試験が別の時に行われたかどうか等の様々な要因による通常の誤差が生じた。

表３は、表１の配位子を使用して調製されたサンプルの配位子、金属前駆体 配位子：金属比、反応条件（時間及び温度）、及び結果（４８時間目視粘度及び外観）を示す。色は目視により検査された。サンプルの目視比較は１人により行われた。

表３において、外観の値は次のように定義される。「Ｈ」は濁っていることを、「Ｃ」は透明であることを、「Ｃ／Ｃ」は透明で且つ硬化されたことを意味する。表３の各配位子について、配位子が検査された陰性対照サンプルは、前駆体を使用しないことを除いて実施例２の方法に従って調製された。各例において、４８時間目視粘度値は１だった。

成分（Ａ）は透明及び／又は無色であってよい。これらの実施例は、金属−配位子錯体及びベースポリマー（本明細書においてそれぞれ、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）と記載される）をいくらか含む組成物が、透明及び／又は無色の反応生成物を生成するために使用されてもよいということを示す。例えば、配位子が、配位子１〜４６、４８〜６８、７０〜７３、及び７５〜８８からなる群より選ばれる場合、そのような配位子で調製された成分（Ａ）と、成分（Ｂ）とを含む組成物は無色であってもよい。あるいは、配位子が、配位子１〜４６、４８〜６８、７０〜７３、及び７５〜８８からなる群より選ばれる場合、そのような配位子で調製された成分（Ａ）と、成分（Ｂ）とを含む組成物の反応生成物は無色であってもよい。あるいは、配位子が、配位子１〜７、９〜１６、１８〜２２、２４〜２９、３１〜３２、３５〜３７、３９〜４６、４９〜５８、６０〜６８、７０〜７３、７５〜８１、８３〜８５、及び８７〜８８からなる群より選ばれる場合、上記実施例の、そのような配位子で調製された成分（Ａ）と、成分（Ｂ）とを含む組成物の反応生成物は無色透明であってもよい。あるいは、配位子が、配位子１〜７、９〜１６、１８〜２２、２４〜２９、３１〜３２、３５〜３７、３９〜４６、４９〜５８、６０〜６８、７０〜７３、７５〜８１、８３〜８５、及び８７〜８８からなる群より選ばれる場合、上記実施例の、そのような配位子で調製された成分（Ａ）と、成分（Ｂ）とを含む組成物の反応生成物は無色透明であってもよい。

実施例は、本明細書に記載のとおり検査された、上記成分（Ａ）の触媒が、縮合反応を触媒できるということを示す。上記の触媒のように、本明細書に記載の組成物はスズ触媒を含まなくてもよい。理論に縛られることを望むものではないが、スズ触媒を含む同じ組成物と比較して、成分（Ａ）として本明細書に記載される触媒は、いくつかの縮合反応硬化性組成物において、代替の、同等の、又はより良い硬化性能を提供し得ると考えられる。

成分（Ａ）は透明及び／又は無色であってよい。理論に縛られることを望むものではないが、金属−配位子錯体及びベースポリマー（本明細書においてそれぞれ、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）と記載される）をいくらか含む組成物は、透明及び／又は無色であってもよいと考えられる。理論に縛られることを望むものではないが、金属−配位子錯体及びベースポリマー（本明細書においてそれぞれ、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）と記載される）をいくらか含む組成物が、透明及び／又は無色の反応生成物を生成するために使用されてもよいと考えられる。

Claims (37)

1. （Ａ）触媒的に有効量の、成分ｉ）と成分ｉｉ）との反応の触媒活性反応生成物、ここで、
   前記成分ｉ）は、式Ｔｉ−Ａ_４であるＴｉ前駆体であり（式中、Ａはそれぞれ独立して一価の有機基を表す）；
   前記成分ｉｉ）は、下記配位子［１］から［１１１］の中の一つであり、
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   ［８９］一般式（ｉｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ｑ^１はＯ及びＳから選択されるヘテロ原子であり、Ｑ^２は、Ｏ、Ｎ、Ｐ、及びＳから選択されるヘテロ原子であり、下付き文字ｘは１〜５の整数であり、Ａ^１はＨ又は一価の有機基であり、Ａ^２はＨ又は一価の有機基であるが、但し、Ｑ^２がＳである場合、Ａ^２はメチル基以外の一価の炭化水素基であり、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５、及びＡ^６はそれぞれ独立してＨ、ハロゲン原子、及び一価の有機基から選択されるが、但し、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５、及びＡ^６のうち２つは互いに結合して縮合環構造を形成してもよい）；又は
   ［９０］一般式（ｉｉｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ｑ^３はＯ及びＳから選択されるヘテロ原子であり、一般式（ｉｉｉ）中の炭素−炭素結合はそれぞれ、単結合又は二重結合であり、Ａ^７はＨ、ハロゲン原子、及び一価の有機基から選択され、Ａ^８は一価の炭化水素基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、及び式
   

   

   
   の一価の有機基（式中、＊は、一般式（ｉｉｉ）中の窒素原子に結合する位置を示す）から選択され、Ａ^９、Ａ^１０、及びＡ^１１はそれぞれ独立してＨ、ハロゲン原子、及び一価の有機基から選択される）；又は
   ［９０］一般式（ｉｖ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ｑ^４、Ｑ^５、及びＱ^６はそれぞれ独立してＮ、Ｏ、及びＳから選択されるヘテロ原子であり、一般式（ｉｖ）中の炭素−炭素結合はそれぞれ、単結合又は二重結合であり、Ａ^１４およびＡ^１５はそれぞれ独立して水素原子及び一価の有機基から選択され、Ａ^１６、Ａ^１７、Ａ^１８、及びＡ^１９はそれぞれ独立して水素原子及び一価の有機基から選択されるが、但し、あるいはＡ^１７及びＡ^１８は互いに結合して、Ｑ^５と共に、複素環基又は複素芳香族基を形成してもよく、Ａ^２０は存在しないか、水素原子及び一価の有機基から選択される）；又は
   ［９１］一般式（ｖ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ａ^２１は二価の炭化水素基及び二価のヘテロ原子含有基から選択される二価の有機基であるが、但し、Ａ^２１が二価の炭化水素基である場合、Ａ^２１はアリーレン基、アルカリーレン基、又は炭素原子数２〜１２のアルキレン基から選択され、Ａ^２１が二価のヘテロ原子含有基である場合、Ａ^２１は二価の複素芳香族基である）；又は
   ［９２］一般式（ｖｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、下付き文字ａは０〜４の整数であり、Ａ^２２は一価の有機基であり、Ａ^２３は一価の有機基であり、Ａ^２４はハロゲン原子又は一価の有機基である）；又は
   ［９３］一般式（ｖｉｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、下付き文字ｂは０〜３の整数であり、Ａ^２５はハロゲン原子又は一価の有機基であり、Ｑ^７はＯ及びＳから選択され、Ｑ^８はＯ、ＮＨ、Ｓ、及びＰから選択され、Ａ^２６はＨ又は一価の有機基であり、Ａ^２７はＨ又は一価の有機基であり、Ａ^２８はＨ、一価の炭化水素基、又はＮを含有しない一価のヘテロ原子含有基であるが、但し、あるいはＡ^２７及びＡ^２８は互いに結合して、Ｑ^８を含有する複素環基又はＱ^８を含有する複素芳香族基から選択される環構造を形成してもよい）；又は
   ［９４］一般式（ｖｉｉｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ｑ^９及びＱ^１０はそれぞれ独立してＯ及びＳから選択され、Ａ^２９及びＡ^３２はそれぞれ独立してＨ及び一価の有機基から選択され、Ａ^３０及びＡ^３１はそれぞれ、炭素原子数が１以上の二価の有機置換基であるが、但し、Ａ^３０及びＡ^３１は環構造の構成原子であってもよく、Ａ^３０及びＡ^３１は第三級アミンではなく、またフェニルメチルケトン官能性をもたず、Ａ^３０とＡ^３１との間の結合は単結合又は二重結合から選択され、また、任意で前記環構造の一部としてもよい）；又は
   ［９５］一般式（ｉｘ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ｑ^１１及びＱ^１２はそれぞれ独立してＯ及びＳから選択され、Ａ^３３は一価の芳香族基；共役複素芳香族基（但し、前記共役複素芳香族基中のヘテロ原子はＯ及びＮから選択される）；及び縮合複素芳香族基（但し、前記縮合複素芳香族基中のヘテロ原子はＯ及びＳから選択される）から選択される）；又は
   ［９６］一般式（ｘ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ｑ^１３はＮ、Ｏ、Ｐ、及びＳから選択され、Ａ^３４、Ａ^３５、Ａ^３６、及びＡ^３７はそれぞれ独立してＨ又は一価の有機基であるが、但し、Ａ^３４、Ａ^３５、Ａ^３６、及びＡ^３７のうち２つは互いに結合して環構造を形成してもよい）；又は
   ［９７］一般式（ｘｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、
   

   

   
   は単結合又は二重結合を表し、Ｑ^１４はＯ、Ｐ及びＳから選択され、Ａ^４０は存在しないか、又は水素原子であり、Ａ^３８及びＡ^３９はそれぞれ独立してＨ又は一価の有機基である）；又は
   ［９８］一般式（ｘｉｉｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ａ^４２及びＡ^４３はそれぞれ独立してＨ及び一価の炭化水素基から選択され、Ａ^４１はＨ及び一価の有機基から選択される）；又は
   ［９９］一般式（ｘｉｖ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ａ^４５は一価の有機基であり、Ａ^４６はそれぞれ独立してＨ又は一価の有機基であり、Ａ^４７はそれぞれ独立して一価の有機基であり、下付き文字ｃは０〜５の整数である）；又は
   ［１００］一般式（ｘｖ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ｑ^１５はＮＨ、Ｏ、及びＳから選択され、Ａ^４８は一価の有機基であり、Ａ^４９は一価の有機基であり、Ａ^５０は一価の炭化水素基である）；又は
   ［１０１］一般式（ｘｖｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ｑ^１６はＣ、Ｏ、及びＳから選択され、Ｑ^１７はＣ及びＮから選択され、五員環は飽和、部分不飽和、又は完全に不飽和であってよく、Ａ^５１は一価の有機基であり、Ａ^５２及びＡ^５５はそれぞれ独立して、存在しないか、又は一価の炭化水素基であり、Ａ^５３及びＡ^５４はそれぞれ独立して一価の有機基から選択され、Ａ^５６はＨ又は一価の炭化水素基である）；又は
   ［１０２］一般式（ｘｖｉｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ａ^５７及びＡ^５８はそれぞれ単結合又は二重結合によりＰに結合し、Ａ^５７及びＡ^５８はそれぞれ独立してＯＨ、Ｏ、及び一価の有機基から選択され、Ａ^５９は一価の有機基であり、下付き文字ｅは０〜４の整数である）；又は
   ［１０３］一般式（ｘｖｉｉｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、下付き文字ｆは０〜４の整数であり、Ａ^６０はそれぞれ独立して一価の有機基である）；又は
   ［１０４］一般式（ｘｉｘ）の配位子：
   

   

   
   （式中、下付き文字ｇは０又は１であり、Ｑ^１８はＣ及びＮから選択され、Ｑ^１９はＳ及びＯから選択され、Ｑ^２０はＳＨ及びＯＨから選択され、Ａ^６１、Ａ^６２、及びＡ^６３はそれぞれ独立してＨ又は一価の有機基であるが、但し、あるいはＡ^６２及びＡ^６３は互いに結合して縮合複素環基、又はＱ^１８を含有する五員環と共に縮合複素芳香族基を形成してもよい）；又は
   ［１０５］一般式（ｘｘ）の配位子：
   

   

   
   （式中、下付き文字ｈは０〜５の整数であり、Ａ^６４はそれぞれ独立してハロゲン原子、ＯＨ、及び一価の有機基から選択される）；又は
   ［１０６］一般式（ｘｘｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ａ^６５及びＡ^６６はそれぞれ独立して一価の有機基である）；又は
   ［１０７］一般式（ｘｘｉｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ａ^６７、Ａ^６８、及びＡ^６９はそれぞれ独立して一価の有機基である）；又は
   ［１０８］一般式（ｘｘｉｉｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ｑ^２０及びＱ^２１はそれぞれ独立してＮ及びＯから選択され、Ａ^７４は部分飽和又は完全に飽和していてよい五員環構造を表し、Ａ^７０は一価の有機基であり、Ａ^７１は存在しないか、又は一価の有機基であり、Ａ^７２は一価の炭化水素基であり、下付き文字ｉは０〜４の整数であり、Ａ^７３はそれぞれ独立して一価の有機基である）；又は
   ［１０９］一般式（ｘｘｉｖ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ｑ^２２及びＱ^２３はそれぞれ独立してＯ及びＳから選択され、下付き文字ｊは０〜４の整数であり、Ａ^７５はＨ及び一価の有機基から選択され、Ａ^７６及びＡ^７７はそれぞれ独立して一価の有機基である）；又は
   ［１１０］一般式（ｘｘｖ）の配位子：
   

   

   
   （式中、
   

   

   
   は単結合又は二重結合を表し、Ｑ^２４はＯ及びＳから選択され、Ｑ^２５、Ｑ^２６、及びＱ^２７はそれぞれ独立してＣ、Ｎ、Ｏ、及びＳから選択され、Ａ^７８はＨ及び一価の有機基から選択され、Ａ^７９は存在しないか、Ｈ及び炭素原子数が２以上の一価の有機基から選択され、Ａ^８０及びＡ^８１はそれぞれ独立して、存在しないか、Ｈ及び一価の有機基から選択され、Ａ^８２及びＡ^８３はそれぞれ独立して一価の有機基であるが、但し、あるいはＡ^８２及びＡ^８３は互いに結合して環構造を形成してもよい）；又は
   ［１１１］一般式（ｘｘｖｉ）の配位子：
   

   

   
   （式中、Ａ^８５及びＡ^８６はそれぞれ独立して一価の有機基である）；及び
   （Ｂ）１分子当たり平均で１つ以上の加水分解性置換基を有するケイ素含有ベースポリマー、
   を含む、組成物。
2. 条件（ａ）〜（ｄ）のうち１つが満たされる組成物であって、
   条件（ａ）は、各Ａがアルコキシ基であること；又は
   条件（ｂ）は、各Ａがエトキシ基であること；又は
   条件（ｃ）は、各Ａがアラルキル基であること；又は
   条件（ｄ）は、各Ａがベンジル基であること；
   である請求項１に記載の組成物。
3. 前記成分（Ａ）及び（Ｂ）とは異なる少なくとも１種の追加の成分を更に含む組成物であって、前記少なくとも１種の追加の成分が、（Ｃ）架橋剤；（Ｄ）乾燥剤；（Ｅ）増量剤、可塑剤、又はこれらの組み合わせ；（Ｆ）充填剤；（Ｇ）処理剤；（Ｈ）殺生物剤；（Ｊ）難燃剤；（Ｋ）表面改質剤；（Ｌ）鎖延長剤；（Ｍ）末端封鎖剤；（Ｎ）非反応性のバインダー；（Ｏ）老化防止添加剤；（Ｐ）水放出剤；（Ｑ）顔料；（Ｒ）レオロジー添加剤；（Ｓ）賦形剤；（Ｔ）粘着付与剤；（Ｕ）腐食防止剤；及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる、請求項１又は２に記載の組成物。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物を製造する方法であって、前記組成物を製造するために、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含む成分を混合する工程を含む、方法。
5. 反応生成物を調製するために、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物を水分に曝露する工程を含む、方法。
6. 請求項５に記載の方法により調製された、反応生成物。
7. 前記反応生成物が、ガム、ゲル、ゴム、及び樹脂から選択される形態をもつ、請求項６に記載の反応生成物。
8. ｉ）式Ｔｉ−Ａ_４であるＴｉ前駆体（式中、Ａはそれぞれ独立して一価の有機基を表す）と、
   ｉｉ）配位子［１］、［２］、［３］、［４］、［６］、［７］、［８］、［９］、［１０］、［１１］、［１２］、［１３］、［１４］、［１５］、［１６］、［１７］、［１８］、［１９］、［２０］、［２１］、［２２］、［２３］、［２４］、［２５］、［２６］、［２７］、［３１］、［３２］、［３３］、［３４］、［３５］、［３６］、［３７］、［３８］、［３９］、［４０］、［４１］、［４２］、［４３］、［４４］、［４５］、［４６］、［４７］、［４８］、［４９］、［５０］、［５１］、［５２］、［５３］、［５５］、［５８］、［５９］、［６０］、［６３］、［６４］、［６５］、［６６］、［６７］、［６８］、［７０］、［７１］、［７３］、［７４］、［７５］、［７９］、［８１］、［８２］、［８３］、［８４］、［８５］、［８６］、［８７］、及び［８８］（下記に示す）からなる群より選ばれる配位子と、
   を反応させる工程を含む、方法。
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   

   
9. 条件（ａ）〜（ｄ）のうち１つが満たされる方法であって、
   条件（ａ）は、各Ａがアルコキシ基であること；又は
   条件（ｂ）は、各Ａがエトキシ基であること；又は
   条件（ｃ）は、各Ａがアラルキル基であること；又は
   条件（ｄ）は、各Ａがベンジル基であること；
   である請求項８に記載の方法。
10. 前記配位子が配位子［２］、［７］、［８］、［９］、［１１］、［１３］、［１４］、［１５］、［１６］、［１７］、［１８］、［１９］、［２０］、［２１］、［２２］、［２３］、［２５］、［２６］、［２７］、［３２］、［３４］、［３５］、［３６］、［３７］、［３８］、［３９］、［４０］、［４１］、［４２］、［４３］、［４４］、［４５］、［４７］、［４８］、［４９］、［５０］、［５１］、［５２］、［５３］、［５５］、［５８］、［５９］、［６０］、［６３］、［６４］、［６５］、［６７］、［６８］、［７０］、［７１］、［７３］、［７４］、［７９］、［８１］、［８２］、［８３］、［８４］、［８５］、［８６］、［８７］、及び［８８］からなる群より選ばれる配位子である、請求項８又は９に記載の方法。
11. 前記配位子が、
    

    

    
    からなる群より選ばれる配位子である、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の方法。
12. 前記配位子が、
    

    

    
    からなる群より選ばれる配位子である、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の方法。
13. 前記Ｔｉ前駆体と前記配位子を加熱する工程を更に含む、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の方法。
14. 前記反応生成物から副生成物を取り除く工程であって、前記副生成物を含まないＴｉ−配位子錯体を生成する、工程を更に含む、請求項８〜１３のいずれか一項に記載の方法。
15. 請求項８〜１３のいずれか一項に記載の方法により調製された反応生成物。
16. 前記反応生成物が、
    ａ）Ｔｉ−配位子錯体、及び
    ｂ）前記Ｔｉ前駆体と前記配位子との反応による又はその副反応による副生成物
    を含む、請求項１５に記載の反応生成物。
17. 請求項１４に記載の方法により調製された、反応生成物。
18. （Ａ）触媒的に有効量の、成分ｉ）と成分ｉｉ）との反応の触媒活性反応生成物、ここで、
    成分ｉ）は、式Ｔｉ−Ａ_４であるＴｉ前駆体であり（式中、Ａはそれぞれ独立して一価の有機基を表す）；
    成分ｉｉ）は、３，５−ヘプタンジオン及び２−アセチル−１−テトラロンからなる群より選ばれ；及び
    （Ｂ）１分子当たり平均で１つ以上の加水分解性置換基を有するベースポリマー、
    を含む組成物。
19. 条件（ａ）〜（ｄ）のうち１つが満たされる組成物であって、
    条件（ａ）は、各Ａがアルコキシ基であること；又は
    条件（ｂ）は、各Ａがエトキシ基であること；又は
    条件（ｃ）は、各Ａがアラルキル基であること；又は
    条件（ｄ）は、各Ａがベンジル基であること；
    である請求項１８に記載の組成物。
20. 前記反応生成物がａ）Ｔｉ−配位子錯体を含む、請求項１８又は１９に記載の組成物。
21. 成分（Ａ）が、ｂ）前記Ｔｉ−前駆体と前記配位子との前記反応による又はその副反応による副生成物を更に含み、成分（Ａ）が前記Ｔｉ−前駆体と前記配位子との錯形成反応により調製された請求項２０に記載の組成物。
22. 前記成分（Ａ）及び（Ｂ）とは異なる少なくとも１種の追加の成分を更に含む組成物であって、前記少なくとも１種の追加の成分が、（Ｃ）架橋剤；（Ｄ）乾燥剤；（Ｅ）増量剤、可塑剤、又はこれらの組み合わせ；（Ｆ）充填剤；（Ｇ）処理剤；（Ｈ）殺生物剤；（Ｊ）難燃剤；（Ｋ）表面改質剤；（Ｌ）鎖延長剤；（Ｍ）末端封鎖剤；（Ｎ）非反応性のバインダー；（Ｏ）老化防止添加剤；（Ｐ）水放出剤；（Ｑ）顔料；（Ｒ）レオロジー添加剤；（Ｓ）賦形剤；（Ｔ）粘着付与剤；及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる、請求項１８〜２２のいずれか一項に記載の組成物。
23. 請求項１８〜２２のいずれか一項に記載の組成物を製造する方法であって、前記組成物を製造するために、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含む成分を混合する工程を含む、方法。
24. 反応生成物を調製するために、請求項２３に記載の組成物を水分に曝露する工程を含む、方法。
25. 前記反応生成物が、ガム、ゲル、ゴム、及び樹脂から選択される形態をもつ、請求項２４に記載の方法で調製された反応生成物。
26. ｉ）式Ｔｉ−Ａ_４であるＴｉ前駆体（式中、Ａはそれぞれ独立して一価の有機基を表す）と、
    ｉｉ）３，５−ヘプタンジオン及び２−アセチル−１−テトラロンからなる群より選ばれる配位子と、
    を反応させる工程を含む、方法。
27. 条件（ａ）〜（ｄ）のうち１つが満たされる方法であって、
    条件（ａ）は、各Ａがアルコキシ基であること；又は
    条件（ｂ）は、各Ａがエトキシ基であること；又は
    条件（ｃ）は、各Ａがアラルキル基であること；又は
    条件（ｄ）は、各Ａがベンジル基であること；
    である請求項２６に記載の方法。
28. 前記Ｔｉ前駆体と前記配位子を加熱する工程を更に含む、請求項２６又は２７に記載の方法。
29. 前記反応生成物から副生成物を取り除く工程であって、前記副生成物を含まないＴｉ−配位子錯体を生成する、工程を更に含む、請求項２６〜２８のいずれか一項に記載の方法。
30. 請求項２６〜２８のいずれか一項に記載の方法により調製された反応生成物であって、前記反応生成物が
    ａ）Ｔｉ−配位子錯体、及び
    ｂ）前記Ｔｉ前駆体と前記配位子との反応による又はその副反応による副生成物
    を含む、反応生成物。
31. 請求項２９に記載の方法により調製された、反応生成物。
32. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物であって、無色である組成物。
33. 前記組成物が無色透明である、請求項３２に記載の組成物。
34. 前記反応生成物が無色である、請求項３０又は３１に記載の反応生成物。
35. 前記反応生成物が無色透明である、請求項３４に記載の反応生成物。
36. 前記配位子が、配位子１〜７、９〜１６、１８〜２２、２４〜２９、３１〜３２、３５〜３７、３９〜４６、４９〜５８、６０〜６８、７０〜７３、７５〜８１、８３〜８５、及び８７〜８８からなる群より選ばれる配位子であり、前記組成物が無色透明である、請求項１に記載の組成物。
37. 前記反応生成物を調製するために使用される前記組成物中の成分（Ａ）を調製するために使用される前記配位子が配位子１〜７、９〜１６、１８〜２２、２４〜２９、３１〜３２、３５〜３７、３９〜４６、４９〜５８、６０〜６８、７０〜７３、７５〜８１、８３〜８５、及び８７〜８８からなる群より選ばれる配位子であり、前記反応生成物が無色透明である、請求項６又は７に記載の反応生成物。