JPH1160585A - 光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法 - Google Patents

光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法

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JPH1160585A
JPH1160585A JP9227014A JP22701497A JPH1160585A JP H1160585 A JPH1160585 A JP H1160585A JP 9227014 A JP9227014 A JP 9227014A JP 22701497 A JP22701497 A JP 22701497A JP H1160585 A JPH1160585 A JP H1160585A
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    • C07F7/003—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table without C-Metal linkages

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 エン反応、ヘテロディールスーアルダー反
応、アルドール反応等の炭素−炭素結合生成反応におけ
る、触媒活性、エナンチオ選択性に優れ、かつ、安定性
の高い新規な光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方
法を提供する。 【解決手段】 一般式(1) 【化１】 （式中、R1はメチル基、低級アルコキシ基、トリハロゲ
ノ基、R2は水素、ハロゲン原子、R3は水素、メチル基、
R4は低級アルキル基を示し、R1とR2とでシクロ環を形成
してもよい。）、等から選ばれる光学活性あるいはラセ
ミ体のチタンアルコキシド錯体である(R),(S),(RS)−触
媒又はこれらの混合物に、キラル活性化剤（(R),(S),(R
S)- ジオール又はこれらの混合物）を反応（ただし、ラ
セミ体とラセミ体の反応を除く。）させ、一方のエナン
チオマーのみを活性化することを特徴とする光学活性チ
タンアルコキシド錯体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術の分野】本発明は、一般式(1),(2),
(3) で表されるチタンアルコキシド錯体に一般式(4),
(5),(6) で表される光学活性ジオールのキラル活性化剤
を反応させ、一般式(7),(8),(9),(10),(11) で表される
錯体、とくに不斉反応触媒として有用な光学活性チタン
錯体の製造方法に関する。また、本発明は、該錯体を用
いたα−ヒドロキシエステル類、β−ヒドロキシエステ
ル類、ジヒドロピラン類の製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来技術】不斉反応触媒として、チタン原子と有機配
位子とを構成成分とする錯体を利用することは、知られ
ており、その有機配位子として、光学活性化合物を選択
すること、とくに軸不斉の水酸基含有化合物を選択する
ことも知られている。
【０００３】しかしながら、この軸不斉の水酸基含有化
合物は非常に高価な場合が多く、工業的に用いるために
は不利である。もし、ラセミ体の配位子を用いた錯体に
対して、触媒量の光学活性な軸不斉化合物（キラル活性
化剤）を加えることにより、キラル活性化剤が配位した
一方のエナンチオマーの錯体のみ活性化され、それを用
いた触媒的不斉合成が達成できれば工業的にも有利な方
法となる。
【０００４】これまでにラセミ体の不斉配位子又は金属
錯体を前駆体として用いる不斉合成はいくつか報告され
ている。例えば、ラセミ体のCHIRAPHOS （2,3-ビスジフ
ェニルホスフィノブタン）に光学的に純粋な(S)-体のイ
リジウム錯体を作用させ、(R)-体のCHIRAPHOS とのコン
プレックスを作り、残った(S)-体のCHIRAPHOS をロジウ
ム錯体としてデヒドロアミノ酸の不斉水素化反応に利用
する報告がある（J.M.Brown ら、J. Chem. Soc.,Chem.
Commun. 1986年、1532頁）。また、ラセミ体のビナフト
ール- アルミニウム錯体に対しキラルなケトンを加え、
(R)-体のビナフトール- アルミニウム錯体とコンプレッ
クスを作ることにより不活性化し、残った(S)-体のアル
ミニウム錯体が、反応に関与することで、不斉Diels-Al
der 反応を行っている例がある（H. Yamamoto ら、J. A
m. Chem. Soc., 1989 年、111 巻、789 頁）。さらに、
ラセミ体のロジウム錯体に不活性化剤としてメチオニン
由来のホスフィン配位子を加え一方のエナンチオマーを
不活性化することによってデヒドロアミノ酸の不斉水素
化を行った報告もある（J. W. Fallerら、J. Am. Chem.
Soc., 1993 年、115 巻、804 頁）。これら三つの例で
は、不活性化した方のエナンチオマーを無駄にしている
と考えられ、また光学的に純粋な触媒を用いた場合に得
られるエナンチオ選択性を越えることはできず、効率的
ではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の課題
は、前駆体として光学活性体の錯体を用いた場合、ラセ
ミ体あるいは光学活性なジオール化合物（キラル活性化
剤）を加えることにより、また、前駆体としてラセミ体
の錯体を用いた場合、光学活性なジオール化合物（キラ
ル活性化剤）を加えることにより、キラル活性化剤が配
位した一方の錯体のみが選択的に活性化されて、それが
不斉触媒反応に優れると共に安定性の高いチタン含有錯
体が得られ、それを用いた光学活性化合物を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決するために鋭意研究を行った結果、ラセミ体あるい
は光学活性な水酸基含有化合物−チタンアルコキシド錯
体に光学活性あるいはラセミ体のビフェノール誘導体、
ビナトール誘導体、オクタヒドロビナフトール誘導体、
酒石酸誘導体のキラル活性化剤を加えることによって得
られる（ただし、ラセミ体とラセミ体の組み合わせは除
く。）光学活性な化合物は優れた触媒活性、エナンチオ
選択性が優れているという知見を得、その知見に基づい
て、さらに研究を重ね、ついに本発明に到達したもので
ある。
【０００７】すなわち、本発明は次のとおりである。 （１） 次の一般式(1)
【０００８】
【化１５】
【０００９】（式中、R1はメチル基、低級アルコキシ
基、トリハロゲノ基、R2は水素、ハロゲン原子、R3は水
素、メチル基、R4は低級アルキル基を示し、R1とR2とで
シクロ環を形成してもよい。）、次の一般式(2)
【００１０】
【化１６】
【００１１】（式中、R5はフェニル基、トリル基、ナフ
チル基、R6はメチル基、フェニル基、R4は低級アルキル
基を示す。）、および次の一般式(3)
【００１２】
【化１７】
【００１３】（式中、R7は低級アルキル基を示す。）か
ら選ばれた光学活性あるいはラセミ体のチタンアルコキ
シド錯体に、次の一般式(4) ，(5) あるいは(6)
【００１４】
【化１８】
【００１５】
【化１９】
【００１６】
【化２０】
【００１７】（式中、R1', R2', R3', R5', R6', R7'は
前記のR1, R2, R3, R5, R6, R7と同じ意味である。）の
キラル活性化剤（光学活性（(R) または(S) 体の）又は
ラセミ((RS))又はそれら混合物ジオール）を反応（ただ
し、ラセミ体とラセミ体との反応を除く。）させ、一方
のエナンチオマーのみを活性化することを特徴とする、
次の一般式(7), (8), (9), (10), (11)
【００１８】
【化２１】
【００１９】
【化２２】
【００２０】
【化２３】
【００２１】
【化２４】
【００２２】
【化２５】
【００２３】（式中、R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7,
R1', R2', R3', R5', R6', R7'は前記と同じ意味であ
る。）で表される光学活性チタンアルコキシド錯体の製
造方法。
【００２４】（２） シリルケテンアセタール類とアル
デヒド類との下記に示すアルドール反応において、触媒
として請求項１の錯体を使用することを特徴とするβ−
ヒドロキシエステル類の製造方法。
【００２５】
【化２６】
【００２６】（式中、R7は低級アルキル基を示し、X は
酸素原子または硫黄原子を示し、R8は炭素数１乃至10の
アルキル基を示す。）
【００２７】（３） α−アルキルオレフィン類とグリ
オキシラート類との下記に示すエン反応において、触媒
として請求項１の錯体を使用することを特徴とするα−
ヒドロキシエステル類の製造方法。
【００２８】
【化２７】
【００２９】（式中、R9は低級アルキル基、フェニル基
を示し、R10 は低級アルキル基を示す。）
【００３０】（４） 1,3-ブタジエン類とグリオキシラ
ート類との下記に示すヘテロ−ディールスアルダー反応
において、触媒として請求項１の錯体を使用することを
特徴とするジヒドロピラン類の製造方法。
【００３１】
【化２８】
【００３２】（式中、R10, R11, R12 は低級アルキル基
を示す。）
【００３３】以下に本発明を詳細に説明する。一般式
(1) におけるR1はメチル基、メトキシ基、トリクロロメ
チル基、トリブロモメチル基、トリフロロメチル基、R2
は水素、クロル原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原
子、R3は水素、メチル基、R4はメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基
を示し、R1とR2でフェニル環、シクロヘキシル環等のシ
クロ環を形成してもよい。一般式(2) におけるR5はフェ
ニル基、トリル基、ナフチル基、R6はメチル基、フェニ
ル基、R4は前記と同一である。一般式(3) におけるR7は
メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基であ
る。
【００３４】本発明の光学活性チタンアルコキシド錯体
の製造方法について、以下に説明する。まず、一般式
(1), (2), (3) で表されるチタンアルコキシド錯体を調
製し、ついで該化合物と一般式(4), (5), (6) で表され
る化合物（キラル活性化剤）とを反応させることによ
り、本発明のチタン錯体(7), (8), (9), (10), (11) を
製造することができる。
【００３５】一般式(1), (2), (3) で表される化合物
は、公知の方法で調製されるが、好ましくは、有機溶媒
中で、チタンテトラアルコキシドとジオールとを混合す
る方法によって調製される。具体的には、T.Wang等の方
法（Synthesis, 1989 年、291頁）により当該化合物
(1), (2), (3) を合成することができる。
【００３６】この一般式(1), (2), (3) で表される化合
物と、一般式(4), (5), (6) で表される軸不斉ジオール
（キラル活性化剤）とを混合することにより前記錯体を
製造することができる。光学活性な一般式(1), (2),
(3) の化合物を用いると一般式(4), (5), (6) の化合物
はラセミ体でも光学活性体でも良い。ラセミ体の一般式
(1), (2), (3) の化合物を用いると一般式(4), (5),
(6) の化合物は光学活性体の必要がある。
【００３７】本発明の錯体を調製する際に使用する有機
溶媒としては、チタンテトラアルコキシドやジオールと
反応しにくいものであれば特に制限されるものではない
が、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハ
ロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジメトキシエタンなどの非プロトン性溶媒などが
好ましい。反応温度は、０℃から３０℃の範囲内に設定
することができる。また反応時間は用いる有機溶媒、チ
タンテトラアルコキシドやジオールにより変動するが、
通常、１０〜１８０分、好ましくは３０〜６０分とする
ことがよい。
【００３８】キラル活性化剤としてのジオール化合物と
しては、ジメチル酒石酸、ジエチル酒石酸、ジプロピル
酒石酸、ジイソプロピル酒石酸、ジブチル酒石酸、ジ-t
ert-ブチル酒石酸、4,5-ビスジフェニルヒドロキシメチ
ル-2,2- ジメチル-1,3- ジオキソラン、4,5-ビス（ジ-4
- トリル）ヒドロキシメチル-2,2- ジメチル-1,3- ジオ
キソラン、4,5-ビス（ジ-3,5- キシリル）ヒドロキシメ
チル-2,2- ジメチル-1,3- ジオキソラン、4,5-ビスジフ
ェニルヒドロキシメチル-2- メチル-2- フェニル-1,3-
ジオキソラン、4,5-ビスジフェニルヒドロキシメチル-
2,2- ジフェニル-1,3- ジオキソラン、1,1'- ビ-2- ナ
フトール、6,6'- ジシアノ-1,1'-ビ-2- ナフトール、6,
6'- ジブロモ-1,1'-ビ-2- ナフトール、5,5',6,6',7,
7',8,8'-オクタヒドロ-2,2'-ビナフトール、4,4',6,6'-
テトラメチル-5,5'-ジクロロ-2,2'-ビフェノール、6,6'
- ジメトキシ-2,2'-ビフェノール、4,4',5,5',6,6'- ヘ
キサメチル-2,2'-ビフェノール、6,6'- ジメチル-2,2'-
ビフェノール、4,5-ビス（ジナフチル）ヒドロキシメチ
ル-2,2- ジメチル-1,3- ジオキソラン、6,6'- ジ（トリ
フルオロメチル）-2,2'-ビフェノール、4,4',6,6'-テト
ラメトキシ-2,2'-ビフェノール等が好ましい。以下に構
造式を表にして示す（表１〜表２）。
【００３９】
【表１】
【００４０】
【表２】
【００４１】キラル活性剤としての軸不斉ジオールとし
ては、1,1'- ビ-2- ナフトール、6,6'- ジブロモ-1,1'-
ビ-2- ナフトール、オクタヒドロ-1,1'-ビ-2- ナフトー
ル、テトラメチル-5,5'-ジクロロ-2,2'-ビフェノール、
6,6'- ジメトキシ-2,2'-ビフェノール、ヘキサメチル-
2,2'-ビフェノール、6,6'- ジメチル-2,2'-ビフェノー
ル、が好ましい。ジオール、軸不斉ジオールともに、
（Ｒ）体か（Ｓ）体を選択することができ、そのジオー
ルに応じてチタン錯体も（Ｒ）体と（Ｓ）体とが得られ
るが、両方同じ符号であることが好ましい。これらは目
的とする生成物の絶対配置に応じて使い分けることがで
きる。以下に構造式を表にして示す（表３〜表４）。
【００４２】
【表３】
【００４３】
【表４】
【００４４】このようにして製造される本発明のチタン
錯体(7), (8), (9), (10), (11) は、反応系内に共存さ
せることにより、例えばエン反応、ヘテロディールス−
アルダー反応、アルドール反応等の炭素−炭素結合生成
反応を有利に進行させることができる。なかでも、以下
の（ａ）〜（ｃ）に示す、シリルケテンアセタール類と
アルデヒド類とのアルドール反応、α- アルキルオレフ
ィン類とグリオキシラート類とのエン反応、1,3-ブタジ
エン類とグリオキシラート類とのヘテロディールス−ア
ルダー反応に好適である。具体的に説明すると、前記チ
タン錯体(7), (8), (9), (10), (11) を反応系内に存在
させると、炭素−炭素結合が生成し、所望する絶対配置
を有する光学活性体を自由に調製することができるので
ある。
【００４５】（ａ） シリルケテンアセタール類とアル
デヒド類とのアルドール反応において、触媒として請求
項１の錯体を使用することを特徴とするβ−ヒドロキシ
エステル類の製造方法。
【００４６】
【化２９】
【００４７】（式中、R7は低級アルキル基を示し、X は
酸素原子または硫黄原子を示し、R8は炭素数１乃至10の
アルキル基を示す。）
【００４８】（ｂ） α−アルキルオレフィン類とグリ
オキシラート類とのエン反応において触媒として請求項
１の錯体を使用することを特徴とするα−ヒドロキシエ
ステル類の製造方法。
【００４９】
【化３０】
【００５０】（式中、R9は低級アルキル基、フェニル基
を示し、R10 は低級アルキル基を示す。）
【００５１】（ｃ） 1,3-ブタジエン類とグリオキシラ
ート類とのヘテロ−ディ−ルスアルダ−反応において触
媒として請求項１の錯体を使用することを特徴とするジ
ヒドロピラン類の製造方法。
【００５２】
【化３１】
【００５３】（式中、R10, R11, R12 は低級アルキル基
を示す。）
【００５４】また、これらの反応に使用される溶媒とし
ては、チタンテトラアルコキシドやジオールと反応しに
くいものであれば特に制限されるものではないが、ベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化
炭化水素、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
メトキシエタンなどの非プロトン性溶媒などが好まし
い。
【００５５】これらの反応に用いられる本発明のチタン
錯体（Ｉ）の量は、前記基質に対して20〜0.1mol% 、好
ましくは10〜0.5mol% である。反応は、通常、−50〜50
℃、好ましくは−10〜20℃で30〜180 分反応させること
により終了するが、使用する反応物質等の量によって適
宜調製される。
【００５６】
【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらによってなんら限定されるもの
ではない。
【００５７】なお、各物質の測定に用いた装置は次のと
おりである。1 Ｈ核磁気共鳴スペクトル（以下、 1Ｈ−ＮＭＲと略
す）： ＧＥＭＩＮＩ３００型（３００ＭＨｚ）（バリ
アン社製）13 Ｃ核磁気共鳴スペクトル（以下、13Ｃ−ＮＭＲと略
す）： ＧＥＭＩＮＩ３００型（７５ＭＨｚ）（バリア
ン社製） 赤外吸収スペクトル（以下、ＩＲと略す）： ＦＴ／Ｉ
Ｒ−５０００（日本分光株式会社） 旋光度計：ＤＩＰ−３７０型（日本分光株式会社）
【００５８】
【実施例１】 （１） (R)-1,1'- ビ(2- ナフトレート)(以下、BINOLa
teと略す) チタニウムジイソプロポキシド錯体の合成 トルエンで共沸脱水した(R)-ビ(2- ナフトール)(286 m
g, 1mmol)をトルエン２０ｍｌにとかし、チタニウムテ
トライソプロポキシド(284mg,1mmol) を加え、イソプロ
パノールを共沸して取り除き、減圧下にてトルエンを留
去した。ジエチルエーテルとペンタンを用いて再結晶を
行うと、３８２ｍｇ（収率８７％）の黄色の固体が得ら
れた。1 H NMR (C7D8):δ 1.12(bs,12H),4.49(br, 2H), 7.02
(m, 2H), 7.39(d, J =8.7Hz, 2H), 7.48(d, J = 8.7Hz,
2H), 7.75(d, J = 8.4Hz, 2H)
【００５９】（２） (R)-ビ（2-ナフトール)(以下、BI
NOL と略す) 配位BINOLateチタニウムジイソプロポキシ
ド錯体の合成 (R)-BINOLateチタニウムジイソプロポキシド錯体２２５
ｍｇ（0.5 mmol) と(R)-ビナフトール１４３ｍｇ（0.5
mmol) を重トルエン中で撹拌した。1 H NMR (C7D8) δ:0.90 （br,12H), 3.62(br, 2H), 5.0
6(br, 2H), 6.30 -7.80(m、24H)13 C NMR (C7D8)δ:25.7, 82.8, 112.6, 118.0, 118.6,
118.7, 119.5, 124.1, 125.1, 125.4, 127.6, 128.4, 1
28.7, 128.8, 129.3, 130.6, 131.1,131.3,134.1, 134.
7, 153.5, 162.6
【００６０】（３） (R)-5,5'- ジクロロ-4,4',6,6'-
テトラメチル-2,2'-ビフェノール配位BINOLateチタニウ
ムジイソプロポキシド錯体の合成 (R)-BINOLateチタニウムジイソプロポキシド錯体２２５
ｍｇ（0.5 mmol) と(R)-5,5'- ジクロロ-4,4',6,6'- テ
トラメチル-2,2'-ビフェノール１５６ｍｇ（0.5 mmol)
を重トルエン中で撹拌した。1 H NMR (C7D8) δ: 0.93（br,12H), 2.04(s,6H), 2.22
(s,6H), 3.72(br,2H), 5.05 - 5.60(br, 2H), 6.61(s,
2H), 6.80 - 7.30(m, 8H), 7.61(m, 4H)13 C NMR (C7D8): δ 17.7, 21.2, 25.2, 81.6, 116.2,
118.3, 123.9, 126.1, 127 - 128, 131.2, 134.3, 138.
1, 140.3, 152.9, 161.4
【００６１】
【実施例２】 （１） (S)-2,2-ジメチル-1,3- ジオキソラン-4,5- ジ
イルビス( ジフェニルメチラート) （以下、TADDOLate
と略す) チタニウムジイソプロポキシド錯体の合成 (S)- 4,5- ビス（ジフェニルヒドロキシメチル）-2,2-
ジメチル-1,3- ジオキソラン(TADDOL)４６７ｍｇ（1 mm
ol) とチタニウムテトライソプロポキシド２８４ｍｇ
（1 mmol) を重トルエン中で撹拌した。1 H NMR (C7D8):δ 0.74(s, 6H), 1.00(bs, 12H), 3.84
(br, 2H), 5.42(s, 2H), 7.07(m, 12H), 7.55(d, J =
7.8Hz, 2H), 7.74(m, 6H)13 C NMR (C7D8): δ 25.2, 27.2, 78.4, 81.3, 81.8, 1
09.5, 127.3, 129.1,142.6, 145.8
【００６２】（２） (S)-ビナフトール配位(S)-TADDOL
ate チタニウムジイソプロポキシド錯体の合成 (S)-ビ(2- ナフトール)(286 mg, 1 mmol) と(S)-TADDOL
(466 mg, 1 mmol)をトルエン２０ｍｌに溶かし、チタニ
ウムテトライソプロポキシド(284 mg, 1 mmol)を加え
た。混合物を加熱し、共沸でイソプロパノールを取り除
き、その後減圧下で溶媒を留去すると、(S)-ビナフトー
ル配位(S)-TADDOLate チタニウムジイソプロポキシド錯
体が６６１ｍｇ（収率８３％）黄色の固体として得られ
た。1 H NMR (C7D8):δ 0.67(br, 6H), 5.20 - 5.60(br, 2
H), 6.30 - 7.80(br,32H)13 C NMR (C7D8):δ 27.2, 78.4, 81.9, 109.7, 111.9,
118.5, 126.9, 127.0 ,127.3,127.5, 127.6, 127.9, 12
9.5, 131.1, 134.5, 137.3, 143.7, 147.1,159.8
【００６３】
【実施例３】 (S)-tert- ブチル-3- ヒドロキシドデカンチオエートの
合成 ラセミ体のビナフトール(28.6 mg, 0.1 mmol) とチタニ
ウムテトライソプロポキシド (28.4 mg, 0.1 mmol)とト
ルエン２ｍｌ中で２０分間撹拌し、(R)-ビナフトール
(14.4 mg, 0.05 mmol) を加え２０分間撹拌して、(R)-B
INOL 配位BINOLateチタニウムジイソプロポキシド錯体
溶液を得た。1-tert- ブチルチオ -1-トリメチルシリル
オキシエテン(201 mg, 1 mmol)とノニルアルデヒド(142
mg, 1 mmol)とを０℃に冷却し、上記調製した錯体溶液
を加え、２時間撹拌した。反応混合物を０℃でpH７の緩
衝溶液中に注いだ。この溶液をセライトを用いて濾過
し、濾液をエーテルで３回抽出し、有機層を飽和食塩水
で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で
溶媒を留去した。残渣を10%HCl-MeOH で処理した後シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/ 酢酸エチ
ル = 20 / 1 ）で精製したところ、(S)-tert- ブチル-3
- ヒドロキシドデカンチオエート１８１ｍｇ（収率６６
％）で得られた。CHIRALPAK ODカラム（ダイセル化学工
業株式会社製) 、Hexane:i-PrOH = 200:1 、流速 0.7ml
/minで測定したところ、９７％ｅｅであった。 [ α] D 26: +15.0 °(c 1.0, CHCl3)1 H NMR (CDCl3): δ 0.87(t, J = 7.0Hz, 3H), 1.26 -
1.45(m, 14H), 1.47(s ,9H),2.54(dd, J = 8.4, 15.7H
z, 1H), 2.63(dd, J = 3.3, 15.7Hz, 1H) ,2.78 (br,
1H), 3.99(m, 1H)13 C NMR (CDCl3):δ 14.2, 22.8, 25.6, 29.4, 29.5, 2
9.7, 29.9, 32.6,36.6, 48.6, 51.0, 68.9, 200.6 IR (neat) 3470, 2930, 1670, 1450, 1370,1270, 1160,
760cm-1
【００６４】
【比較例１】錯体として、(R)- BINOLate チタニウムジ
イソプロポキシド錯体４５ｍｇ(0.1mmol)を調製し、こ
の錯体を用いた以外は実施例３と同様に行った。その結
果、目的物(S)-tert- ブチル-3- ヒドロキシドデカンチ
オエートが１４５ｍｇ (５３％，９１％ｅｅ) 得られ
た。
【００６５】
【実施例４】 n-ブチル 2- ヒドロキシ-4- フェニル-4- ペンテノエー
トの合成 α−メチルスチレン(118 mg, 1 mmol)とn-ブチルグリオ
キシラート(130 mg, 1mmol)とに０℃で実施例１の
（２）で調製した錯体のトルエン溶液を加え、１時間撹
拌した。反応溶液を飽和重曹水の中に入れ、セライトを
用い濾過した後、濾液をエーテルで３回抽出した。無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン
/ 酢酸エチル= 15 / 1 ）で精製したところ、n-ブチル
2- ヒドロキシ-4- フェニル-4- ペンテノエート２１３
ｍｇ（収率８２％）で得られた。CHIRALPAK ASカラム
（ダイセル化学工業株式会社製) 、Hexane:i-PrOH = 3:
1 、流速 0.5ml/minで測定したところ、９７．５％ｅｅ
であった。 [ α] D 26:-21.2°(c 0.7, CHCl3)1 H NMR (CDCl3): δ 0.93(t, J = 7.2Hz, 3H), 1.34(m,
2H), 1.56(m, 2H),2.72(d,J = 6.0Hz, 1H), 2.83(ddd,
J = 0.9, 7.5, 14.4 Hz, 1H), 3.06 (ddd,J = 1.2, 4.
5, 14.4 Hz, 1H), 4.03(dddd, J = 6.3, 6.6, 10.8, 1
3.2 Hz, 1H),4.26(ddd, J = 4.5, 6.0, 7.5 Hz, 1H),
5.20(d, J = 1.2 Hz, 1H), 5.39(d, J= 1.2Hz, 1H),7.2
5 - 7.43(m, 5H)13 C NMR (CDCl3):δ 13.6, 19.8, 30.4, 40.5, 65.4, 6
9.2, 116.5, 126.4,127.6,128.3, 140.3, 143.6, 174.5 IR (neat):3470, 2970, 1740, 1450, 1270, 1210, 109
0, 780, 710cm-1
【００６６】
【比較例２】錯体として(R)- BINOLate チタニウムジイ
ソプロポキシド錯体４５ｍｇ(0.1 mmol)を調製し、この
錯体を用いた以外は実施例４と同様に行った。その結
果、目的物n-ブチル 2- ヒドロキシ-4- フェニル-4- ペ
ンテノエートが５２ｍｇ（２０％，９４％ｅｅ）得られ
た。
【００６７】
【実施例５】(E)-1-メトキシ-3-tert-ブチルジメチルシ
リルオキシ-1,3- ブタジエン(258 mg, 1.2 mmol)とn-ブ
チルグリオキシラート(130 mg, 1 mmol)とに０℃で上記
で調製した錯体のトルエン溶液を加え、２時間撹拌し
た。反応溶液にトリフルオロ酢酸０．１ｍｌを加え５分
間撹拌した後、飽和重曹水の中に入れ、セライトを用い
濾過した後、濾液をエーテルで３回抽出した。無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/ 酢
酸エチル = 10 / 1 ）で精製したところ、n-ブチル 3,4
- ジヒドロ-4- オキソ-2H-ピラン-2- カルボキシラート
７９ｍｇ（収率４０％）で得られた。CHIRALPAK ADカラ
ム（ダイセル化学工業株式会社製）、 Hexane:i-PrOH =
10:1 、流速 1.0ml/minで測定したところ、５０％ｅｅ
であった。 [ α] D 26: -45.0 °(c 1.0, CHCl3)1 H NMR (CDCl3): δ 0.93(t, J = 7.3Hz, 3H), 1.38(m,
2H), 1.65(m, 2H),2.86(d,J = 7.8Hz, 2H), 4.22(t, J
= 6.7Hz, 2H), 5.02(t, J = 7.8Hz, 1H), 5.48(d, J =
6.1 Hz, 1H), 7.39 (d, J = 6.1 Hz,1H)13 C NMR (CDCl3）: δ 13.7, 19.1, 30.5, 38.5, 66.2,
76.2, 108.1, 161.9 , 168.1, 189.5 IR(neat): 2970, 1760, 1680, 1400, 1280, 1210, 1040
cm-1
【００６８】
【発明の効果】本発明は、エン反応、ヘテロディールス
ーアルダー反応、アルドール反応等の炭素−炭素結合生
成反応における、触媒活性、エナンチオ選択性に優れ、
かつ、安定性の高い新規なチタン含有錯体を提供する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 309/38 Ｃ０７Ｄ 309/38 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 次の一般式(1) 【化１】 （式中、R1はメチル基、低級アルコキシ基、トリハロゲ
    ノ基、R2は水素、ハロゲン原子、R3は水素、メチル基、
    R4は低級アルキル基を示し、R1とR2とでシクロ環を形成
    してもよい。）、次の一般式(2) 【化２】 （式中、R5はフェニル基、トリル基、ナフチル基、R6は
    メチル基、フェニル基、R4は低級アルキル基を示
    す。）、および次の一般式(3) 【化３】 （式中、R7は低級アルキル基を示す。）、から選ばれる
    光学活性あるいはラセミ体のチタンアルコキシド錯体で
    ある(R),(S),(RS)−触媒又はこれらの混合物に、次の一
    般式(4), (5)あるいは(6) 【化４】 【化５】 【化６】 （式中、 R1', R2', R3', R5', R6', R7' は前記 R1, R
    2, R3, R5, R6, R7 と同じ意味である。）のキラル活性
    化剤（(R),(S),(RS)- ジオール又はこれらの混合物）を
    反応（ただし、ラセミ体とラセミ体との反応を除く。）
    させ、一方のエナンチオマーのみを活性化することを特
    徴とする、次の一般式(7), (8), (9), (10), (11) 【化７】 【化８】 【化９】 【化１０】 【化１１】 （式中、R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R1', R2', R3',
    R5', R6', R7'は前記と同じ意味である。）で表される
    光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法。
  2. 【請求項２】 シリルケテンアセタール類とアルデヒド
    類との下記に示すアルドール反応において、触媒として
    請求項１の錯体を使用することを特徴とするβ−ヒドロ
    キシエステル類の製造方法。 【化１２】 （式中、R7は低級アルキル基を示し、X は酸素原子また
    は硫黄原子を示し、R8は炭素数１乃至10のアルキル基を
    示す。）
  3. 【請求項３】 α−アルキルオレフィン類とグリオキシ
    ラート類との下記に示すエン反応において、触媒として
    請求項１の錯体を使用することを特徴とするα−ヒドロ
    キシエステル類の製造方法。 【化１３】 （式中、R9は低級アルキル基、フェニル基を示し、R10
    は低級アルキル基を示す。）
  4. 【請求項４】 1,3-ブタジエン類とグリオキシラート類
    との下記に示すヘテロ−ディールスアルダー反応におい
    て、触媒として請求項１の錯体を使用することを特徴と
    するジヒドロピラン類の製造方法。 【化１４】 （式中、R10, R11, R12 は低級アルキル基を示す。）
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006312734A (ja) * 2005-04-07 2006-11-16 National Institute For Materials Science 色素組成物及びその製造方法
JP2007106734A (ja) * 2005-10-13 2007-04-26 Tokyo Institute Of Technology 新規な光学活性遷移金属錯体，及びその製造方法
JP2014533306A (ja) * 2011-09-07 2014-12-11 ダウ コーニング コーポレーションＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ チタン含有錯体及び縮合反応触媒、該触媒の調製方法、及び該触媒を含有する組成物

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000056448A1 (en) * 1999-03-19 2000-09-28 Uop Llc Catalyst and process for producing optically active beta amino acids and esters
JP3720235B2 (ja) 2000-03-14 2005-11-24 高砂香料工業株式会社 光学活性ルテニウムホスフィン錯体の製造方法及び該錯体を用いた光学活性アルコールの製造方法
KR20070052287A (ko) * 2004-08-02 2007-05-21 다이닛쿠 가부시키가이샤 투명성 건조제
US20090134369A1 (en) * 2007-11-26 2009-05-28 Applied Nanoworks, Inc. Metal alkoxides, apparatus for manufacturing metal alkoxides, related methods and uses thereof
CN102653520A (zh) * 2012-04-10 2012-09-05 苏州大学 一种2-羟基-2-芳基硫代乙酰胺的制备方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0977760A (ja) * 1995-07-10 1997-03-25 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ２−位の置換された光学活性２，３−ジヒドロ−４ｈ−ピラン−４−オンの製造法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006312734A (ja) * 2005-04-07 2006-11-16 National Institute For Materials Science 色素組成物及びその製造方法
JP2007106734A (ja) * 2005-10-13 2007-04-26 Tokyo Institute Of Technology 新規な光学活性遷移金属錯体，及びその製造方法
JP2014533306A (ja) * 2011-09-07 2014-12-11 ダウ コーニング コーポレーションＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ チタン含有錯体及び縮合反応触媒、該触媒の調製方法、及び該触媒を含有する組成物

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