JP3441344B2 - 光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法 - Google Patents

光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法

Info

Publication number
JP3441344B2
JP3441344B2 JP22701497A JP22701497A JP3441344B2 JP 3441344 B2 JP3441344 B2 JP 3441344B2 JP 22701497 A JP22701497 A JP 22701497A JP 22701497 A JP22701497 A JP 22701497A JP 3441344 B2 JP3441344 B2 JP 3441344B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
chemical
complex
formula
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP22701497A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH1160585A (ja
Inventor
幸一 三上
覚 松川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takasago International Corp
Original Assignee
Takasago International Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takasago International Corp filed Critical Takasago International Corp
Priority to JP22701497A priority Critical patent/JP3441344B2/ja
Priority to US09/001,918 priority patent/US6025503A/en
Publication of JPH1160585A publication Critical patent/JPH1160585A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3441344B2 publication Critical patent/JP3441344B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/003Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System without C-Metal linkages

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術の分野】本発明は、一般式(1),(2),
(3) で表されるチタンアルコキシド錯体に一般式(4),
(5),(6) で表される光学活性ジオールのキラル活性化剤
を反応させ、一般式(7),(8),(9),(10),(11) で表される
錯体、とくに不斉反応触媒として有用な光学活性チタン
錯体の製造方法に関する。また、本発明は、該錯体を用
いたα−ヒドロキシエステル類、β−ヒドロキシエステ
ル類、ジヒドロピラン類の製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来技術】不斉反応触媒として、チタン原子と有機配
位子とを構成成分とする錯体を利用することは、知られ
ており、その有機配位子として、光学活性化合物を選択
すること、とくに軸不斉の水酸基含有化合物を選択する
ことも知られている。
【0003】しかしながら、この軸不斉の水酸基含有化
合物は非常に高価な場合が多く、工業的に用いるために
は不利である。もし、ラセミ体の配位子を用いた錯体に
対して、触媒量の光学活性な軸不斉化合物(キラル活性
化剤)を加えることにより、キラル活性化剤が配位した
一方のエナンチオマーの錯体のみ活性化され、それを用
いた触媒的不斉合成が達成できれば工業的にも有利な方
法となる。
【0004】これまでにラセミ体の不斉配位子又は金属
錯体を前駆体として用いる不斉合成はいくつか報告され
ている。例えば、ラセミ体のCHIRAPHOS (2,3-ビスジフ
ェニルホスフィノブタン)に光学的に純粋な(S)-体のイ
リジウム錯体を作用させ、(R)-体のCHIRAPHOS とのコン
プレックスを作り、残った(S)-体のCHIRAPHOS をロジウ
ム錯体としてデヒドロアミノ酸の不斉水素化反応に利用
する報告がある(J.M.Brown ら、J. Chem. Soc.,Chem.
Commun. 1986年、1532頁)。また、ラセミ体のビナフト
ール- アルミニウム錯体に対しキラルなケトンを加え、
(R)-体のビナフトール- アルミニウム錯体とコンプレッ
クスを作ることにより不活性化し、残った(S)-体のアル
ミニウム錯体が、反応に関与することで、不斉Diels-Al
der 反応を行っている例がある(H. Yamamoto ら、J. A
m. Chem. Soc., 1989 年、111 巻、789 頁)。さらに、
ラセミ体のロジウム錯体に不活性化剤としてメチオニン
由来のホスフィン配位子を加え一方のエナンチオマーを
不活性化することによってデヒドロアミノ酸の不斉水素
化を行った報告もある(J. W. Fallerら、J. Am. Chem.
Soc., 1993 年、115 巻、804 頁)。これら三つの例で
は、不活性化した方のエナンチオマーを無駄にしている
と考えられ、また光学的に純粋な触媒を用いた場合に得
られるエナンチオ選択性を越えることはできず、効率的
ではない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の課題
は、前駆体として光学活性体の錯体を用いた場合、ラセ
ミ体あるいは光学活性なジオール化合物(キラル活性化
剤)を加えることにより、また、前駆体としてラセミ体
の錯体を用いた場合、光学活性なジオール化合物(キラ
ル活性化剤)を加えることにより、キラル活性化剤が配
位した一方の錯体のみが選択的に活性化されて、それが
不斉触媒反応に優れると共に安定性の高いチタン含有錯
体が得られ、それを用いた光学活性化合物を提供するこ
とにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決するために鋭意研究を行った結果、ラセミ体あるい
は光学活性な水酸基含有化合物−チタンアルコキシド錯
体に光学活性あるいはラセミ体のビフェノール誘導体、
ビナトール誘導体、オクタヒドロビナフトール誘導体、
酒石酸誘導体のキラル活性化剤を加えることによって得
られる(ただし、ラセミ体とラセミ体の組み合わせは除
く。)光学活性な化合物は優れた触媒活性、エナンチオ
選択性が優れているという知見を得、その知見に基づい
て、さらに研究を重ね、ついに本発明に到達したもので
ある。
【0007】すなわち、本発明は次のとおりである。 (1) 次の一般式(1)
【0008】
【化15】
【0009】(式中、R1はメチル基、低級アルコキシ
基、トリハロゲノ基、R2は水素、ハロゲン原子、R3は水
素、メチル基、R4は低級アルキル基を示し、R1とR2とで
シクロ環を形成してもよい。)、次の一般式(2)
【0010】
【化16】
【0011】(式中、R5はフェニル基、トリル基、ナフ
チル基、R6はメチル基、フェニル基、R4は低級アルキル
基を示す。)、および次の一般式(3)
【0012】
【化17】
【0013】(式中、R7は低級アルキル基を示す。)か
ら選ばれた光学活性あるいはラセミ体のチタンアルコキ
シド錯体に、次の一般式(4) ,(5) あるいは(6)
【0014】
【化18】
【0015】
【化19】
【0016】
【化20】
【0017】(式中、R1', R2', R3', R5', R6', R7'は
前記のR1, R2, R3, R5, R6, R7と同じ意味である。)の
キラル活性化剤(光学活性((R) または(S) 体の)又は
ラセミ((RS))又はそれら混合物ジオール)を反応(ただ
し、ラセミ体とラセミ体との反応を除く。)させ、一方
のエナンチオマーのみを活性化することを特徴とする、
次の一般式(7), (8), (9), (10), (11)
【0018】
【化21】
【0019】
【化22】
【0020】
【化23】
【0021】
【化24】
【0022】
【化25】
【0023】(式中、R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7,
R1', R2', R3', R5', R6', R7'は前記と同じ意味であ
る。)で表される光学活性チタンアルコキシド錯体の製
造方法。
【0024】(2) シリルケテンアセタール類とアル
デヒド類との下記に示すアルドール反応において、触媒
として前記(1)項で製造される一般式(7),(8),(9),(1
0),(11)のチタン錯体を使用することを特徴とするβ−
ヒドロキシエステル類の製造方法。
【0025】
【化26】
【0026】(式中、R7は低級アルキル基を示し、X は
酸素原子または硫黄原子を示し、R8は炭素数1乃至10の
アルキル基を示す。)
【0027】(3) α−アルキルオレフィン類とグリ
オキシラート類との下記に示すエン反応において、触媒
として前記(1)項で製造される一般式(7),(8),(9),(1
0),(11)のチタン錯体を使用することを特徴とするα−
ヒドロキシエステル類の製造方法。
【0028】
【化27】
【0029】(式中、R9は低級アルキル基、フェニル基
を示し、R10 は低級アルキル基を示す。)
【0030】(4) 1,3-ブタジエン類とグリオキシラ
ート類との下記に示すヘテロ−ディールスアルダー反応
において、触媒として前記(1)項で製造される一般式
(7),(8),(9),(10),(11)のチタン錯体を使用することを
特徴とするジヒドロピラン類の製造方法。
【0031】
【化28】
【0032】(式中、R10, R11, R12 は低級アルキル基
を示す。)
【0033】以下に本発明を詳細に説明する。一般式
(1) におけるR1はメチル基、メトキシ基、トリクロロメ
チル基、トリブロモメチル基、トリフロロメチル基、R2
は水素、クロル原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原
子、R3は水素、メチル基、R4はメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基
を示し、R1とR2でフェニル環、シクロヘキシル環等のシ
クロ環を形成してもよい。一般式(2) におけるR5はフェ
ニル基、トリル基、ナフチル基、R6はメチル基、フェニ
ル基、R4は前記と同一である。一般式(3) におけるR7
メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基であ
る。
【0034】本発明の光学活性チタンアルコキシド錯体
の製造方法について、以下に説明する。まず、一般式
(1), (2), (3) で表されるチタンアルコキシド錯体を調
製し、ついで該化合物と一般式(4), (5), (6) で表され
る化合物(キラル活性化剤)とを反応させることによ
り、本発明のチタン錯体(7), (8), (9), (10), (11) を
製造することができる。
【0035】一般式(1), (2), (3) で表される化合物
は、公知の方法で調製されるが、好ましくは、有機溶媒
中で、チタンテトラアルコキシドとジオールとを混合す
る方法によって調製される。具体的には、T.Wang等の方
法(Synthesis, 1989 年、291頁)により当該化合物
(1), (2), (3) を合成することができる。
【0036】この一般式(1), (2), (3) で表される化合
物と、一般式(4), (5), (6) で表される軸不斉ジオール
(キラル活性化剤)とを混合することにより前記錯体を
製造することができる。光学活性な一般式(1), (2),
(3) の化合物を用いると一般式(4), (5), (6) の化合物
はラセミ体でも光学活性体でも良い。ラセミ体の一般式
(1), (2), (3) の化合物を用いると一般式(4), (5),
(6) の化合物は光学活性体の必要がある。
【0037】本発明の錯体を調製する際に使用する有機
溶媒としては、チタンテトラアルコキシドやジオールと
反応しにくいものであれば特に制限されるものではない
が、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハ
ロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジメトキシエタンなどの非プロトン性溶媒などが
好ましい。反応温度は、0℃から30℃の範囲内に設定
することができる。また反応時間は用いる有機溶媒、チ
タンテトラアルコキシドやジオールにより変動するが、
通常、10〜180分、好ましくは30〜60分とする
ことがよい。
【0038】キラル活性化剤としてのジオール化合物と
しては、ジメチル酒石酸、ジエチル酒石酸、ジプロピル
酒石酸、ジイソプロピル酒石酸、ジブチル酒石酸、ジ-t
ert-ブチル酒石酸、4,5-ビスジフェニルヒドロキシメチ
ル-2,2- ジメチル-1,3- ジオキソラン、4,5-ビス(ジ-4
- トリル)ヒドロキシメチル-2,2- ジメチル-1,3- ジオ
キソラン、4,5-ビス(ジ-3,5- キシリル)ヒドロキシメ
チル-2,2- ジメチル-1,3- ジオキソラン、4,5-ビスジフ
ェニルヒドロキシメチル-2- メチル-2- フェニル-1,3-
ジオキソラン、4,5-ビスジフェニルヒドロキシメチル-
2,2- ジフェニル-1,3- ジオキソラン、1,1'- ビ-2- ナ
フトール、6,6'- ジシアノ-1,1'-ビ-2- ナフトール、6,
6'- ジブロモ-1,1'-ビ-2- ナフトール、5,5',6,6',7,
7',8,8'-オクタヒドロ-2,2'-ビナフトール、4,4',6,6'-
テトラメチル-5,5'-ジクロロ-2,2'-ビフェノール、6,6'
- ジメトキシ-2,2'-ビフェノール、4,4',5,5',6,6'- ヘ
キサメチル-2,2'-ビフェノール、6,6'- ジメチル-2,2'-
ビフェノール、4,5-ビス(ジナフチル)ヒドロキシメチ
ル-2,2- ジメチル-1,3- ジオキソラン、6,6'- ジ(トリ
フルオロメチル)-2,2'-ビフェノール、4,4',6,6'-テト
ラメトキシ-2,2'-ビフェノール等が好ましい。以下に構
造式を表にして示す(表1〜表2)。
【0039】
【表1】
【0040】
【表2】
【0041】キラル活性剤としての軸不斉ジオールとし
ては、1,1'- ビ-2- ナフトール、6,6'- ジブロモ-1,1'-
ビ-2- ナフトール、オクタヒドロ-1,1'-ビ-2- ナフトー
ル、テトラメチル-5,5'-ジクロロ-2,2'-ビフェノール、
6,6'- ジメトキシ-2,2'-ビフェノール、ヘキサメチル-
2,2'-ビフェノール、6,6'- ジメチル-2,2'-ビフェノー
ル、が好ましい。ジオール、軸不斉ジオールともに、
(R)体か(S)体を選択することができ、そのジオー
ルに応じてチタン錯体も(R)体と(S)体とが得られ
るが、両方同じ符号であることが好ましい。これらは目
的とする生成物の絶対配置に応じて使い分けることがで
きる。以下に構造式を表にして示す(表3〜表4)。
【0042】
【表3】
【0043】
【表4】
【0044】このようにして製造される本発明のチタン
錯体(7), (8), (9), (10), (11) は、反応系内に共存さ
せることにより、例えばエン反応、ヘテロディールス−
アルダー反応、アルドール反応等の炭素−炭素結合生成
反応を有利に進行させることができる。なかでも、以下
の(a)〜(c)に示す、シリルケテンアセタール類と
アルデヒド類とのアルドール反応、α- アルキルオレフ
ィン類とグリオキシラート類とのエン反応、1,3-ブタジ
エン類とグリオキシラート類とのヘテロディールス−ア
ルダー反応に好適である。具体的に説明すると、前記チ
タン錯体(7), (8), (9), (10), (11) を反応系内に存在
させると、炭素−炭素結合が生成し、所望する絶対配置
を有する光学活性体を自由に調製することができるので
ある。
【0045】(a) シリルケテンアセタール類とアル
デヒド類とのアルドール反応において、触媒として請求
項1の錯体を使用することを特徴とするβ−ヒドロキシ
エステル類の製造方法。
【0046】
【化29】
【0047】(式中、R7は低級アルキル基を示し、X は
酸素原子または硫黄原子を示し、R8は炭素数1乃至10の
アルキル基を示す。)
【0048】(b) α−アルキルオレフィン類とグリ
オキシラート類とのエン反応において触媒として請求項
1の錯体を使用することを特徴とするα−ヒドロキシエ
ステル類の製造方法。
【0049】
【化30】
【0050】(式中、R9は低級アルキル基、フェニル基
を示し、R10 は低級アルキル基を示す。)
【0051】(c) 1,3-ブタジエン類とグリオキシラ
ート類とのヘテロ−ディ−ルスアルダ−反応において触
媒として請求項1の錯体を使用することを特徴とするジ
ヒドロピラン類の製造方法。
【0052】
【化31】
【0053】(式中、R10, R11, R12 は低級アルキル基
を示す。)
【0054】また、これらの反応に使用される溶媒とし
ては、チタンテトラアルコキシドやジオールと反応しに
くいものであれば特に制限されるものではないが、ベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化
炭化水素、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
メトキシエタンなどの非プロトン性溶媒などが好まし
い。
【0055】これらの反応に用いられる本発明のチタン
錯体(I)の量は、前記基質に対して20〜0.1mol% 、好
ましくは10〜0.5mol% である。反応は、通常、−50〜50
℃、好ましくは−10〜20℃で30〜180 分反応させること
により終了するが、使用する反応物質等の量によって適
宜調製される。
【0056】
【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらによってなんら限定されるもの
ではない。
【0057】なお、各物質の測定に用いた装置は次のと
おりである。1 H核磁気共鳴スペクトル(以下、 1H−NMRと略
す): GEMINI300型(300MHz)(バリ
アン社製)13 C核磁気共鳴スペクトル(以下、13C−NMRと略
す): GEMINI300型(75MHz)(バリア
ン社製) 赤外吸収スペクトル(以下、IRと略す): FT/I
R−5000(日本分光株式会社) 旋光度計:DIP−370型(日本分光株式会社)
【0058】
【実施例1】 (1) (R)-1,1'- ビ(2- ナフトレート)(以下、BINOLa
teと略す) チタニウムジイソプロポキシド錯体の合成 トルエンで共沸脱水した(R)-ビ(2- ナフトール)(286 m
g, 1mmol)をトルエン20mlにとかし、チタニウムテ
トライソプロポキシド(284mg,1mmol) を加え、イソプロ
パノールを共沸して取り除き、減圧下にてトルエンを留
去した。ジエチルエーテルとペンタンを用いて再結晶を
行うと、382mg(収率87%)の黄色の固体が得ら
れた。1 H NMR (C7D8):δ 1.12(bs,12H),4.49(br, 2H), 7.02
(m, 2H), 7.39(d, J =8.7Hz, 2H), 7.48(d, J = 8.7Hz,
2H), 7.75(d, J = 8.4Hz, 2H)
【0059】(2) (R)-ビ(2-ナフトール)(以下、BI
NOL と略す) 配位BINOLateチタニウムジイソプロポキシ
ド錯体の合成 (R)-BINOLateチタニウムジイソプロポキシド錯体225
mg(0.5 mmol) と(R)-ビナフトール143mg(0.5
mmol) を重トルエン中で撹拌した。1 H NMR (C7D8) δ:0.90 (br,12H), 3.62(br, 2H), 5.0
6(br, 2H), 6.30 -7.80(m、24H)13 C NMR (C7D8)δ:25.7, 82.8, 112.6, 118.0, 118.6,
118.7, 119.5, 124.1, 125.1, 125.4, 127.6, 128.4, 1
28.7, 128.8, 129.3, 130.6, 131.1,131.3,134.1, 134.
7, 153.5, 162.6
【0060】(3) (R)-5,5'- ジクロロ-4,4',6,6'-
テトラメチル-2,2'-ビフェノール配位BINOLateチタニウ
ムジイソプロポキシド錯体の合成 (R)-BINOLateチタニウムジイソプロポキシド錯体225
mg(0.5 mmol) と(R)-5,5'- ジクロロ-4,4',6,6'- テ
トラメチル-2,2'-ビフェノール156mg(0.5 mmol)
を重トルエン中で撹拌した。1 H NMR (C7D8) δ: 0.93(br,12H), 2.04(s,6H), 2.22
(s,6H), 3.72(br,2H), 5.05 - 5.60(br, 2H), 6.61(s,
2H), 6.80 - 7.30(m, 8H), 7.61(m, 4H)13 C NMR (C7D8): δ 17.7, 21.2, 25.2, 81.6, 116.2,
118.3, 123.9, 126.1, 127 - 128, 131.2, 134.3, 138.
1, 140.3, 152.9, 161.4
【0061】
【実施例2】 (1) (S)-2,2-ジメチル-1,3- ジオキソラン-4,5- ジ
イルビス( ジフェニルメチラート) (以下、TADDOLate
と略す) チタニウムジイソプロポキシド錯体の合成 (S)- 4,5- ビス(ジフェニルヒドロキシメチル)-2,2-
ジメチル-1,3- ジオキソラン(TADDOL)467mg(1 mm
ol) とチタニウムテトライソプロポキシド284mg
(1 mmol) を重トルエン中で撹拌した。1 H NMR (C7D8):δ 0.74(s, 6H), 1.00(bs, 12H), 3.84
(br, 2H), 5.42(s, 2H), 7.07(m, 12H), 7.55(d, J =
7.8Hz, 2H), 7.74(m, 6H)13 C NMR (C7D8): δ 25.2, 27.2, 78.4, 81.3, 81.8, 1
09.5, 127.3, 129.1,142.6, 145.8
【0062】(2) (S)-ビナフトール配位(S)-TADDOL
ate チタニウムジイソプロポキシド錯体の合成 (S)-ビ(2- ナフトール)(286 mg, 1 mmol) と(S)-TADDOL
(466 mg, 1 mmol)をトルエン20mlに溶かし、チタニ
ウムテトライソプロポキシド(284 mg, 1 mmol)を加え
た。混合物を加熱し、共沸でイソプロパノールを取り除
き、その後減圧下で溶媒を留去すると、(S)-ビナフトー
ル配位(S)-TADDOLate チタニウムジイソプロポキシド錯
体が661mg(収率83%)黄色の固体として得られ
た。1 H NMR (C7D8):δ 0.67(br, 6H), 5.20 - 5.60(br, 2
H), 6.30 - 7.80(br,32H)13 C NMR (C7D8):δ 27.2, 78.4, 81.9, 109.7, 111.9,
118.5, 126.9, 127.0 ,127.3,127.5, 127.6, 127.9, 12
9.5, 131.1, 134.5, 137.3, 143.7, 147.1,159.8
【0063】
【実施例3】 (S)-tert- ブチル-3- ヒドロキシドデカンチオエートの
合成 ラセミ体のビナフトール(28.6 mg, 0.1 mmol) とチタニ
ウムテトライソプロポキシド (28.4 mg, 0.1 mmol)とト
ルエン2ml中で20分間撹拌し、(R)-ビナフトール
(14.4 mg, 0.05 mmol) を加え20分間撹拌して、(R)-B
INOL 配位BINOLateチタニウムジイソプロポキシド錯体
溶液を得た。1-tert- ブチルチオ -1-トリメチルシリル
オキシエテン(201 mg, 1 mmol)とノニルアルデヒド(142
mg, 1 mmol)とを0℃に冷却し、上記調製した錯体溶液
を加え、2時間撹拌した。反応混合物を0℃でpH7の緩
衝溶液中に注いだ。この溶液をセライトを用いて濾過
し、濾液をエーテルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水
で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で
溶媒を留去した。残渣を10%HCl-MeOH で処理した後シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/ 酢酸エチ
ル = 20 / 1 )で精製したところ、(S)-tert- ブチル-3
- ヒドロキシドデカンチオエート181mg(収率66
%)で得られた。CHIRALPAK ODカラム(ダイセル化学工
業株式会社製) 、Hexane:i-PrOH = 200:1 、流速 0.7ml
/minで測定したところ、97%eeであった。 [ α] D 26: +15.0 °(c 1.0, CHCl3)1 H NMR (CDCl3): δ 0.87(t, J = 7.0Hz, 3H), 1.26 -
1.45(m, 14H), 1.47(s ,9H),2.54(dd, J = 8.4, 15.7H
z, 1H), 2.63(dd, J = 3.3, 15.7Hz, 1H) ,2.78 (br,
1H), 3.99(m, 1H)13 C NMR (CDCl3):δ 14.2, 22.8, 25.6, 29.4, 29.5, 2
9.7, 29.9, 32.6,36.6, 48.6, 51.0, 68.9, 200.6 IR (neat) 3470, 2930, 1670, 1450, 1370,1270, 1160,
760cm-1
【0064】
【比較例1】錯体として、(R)- BINOLate チタニウムジ
イソプロポキシド錯体45mg(0.1mmol)を調製し、こ
の錯体を用いた以外は実施例3と同様に行った。その結
果、目的物(S)-tert- ブチル-3- ヒドロキシドデカンチ
オエートが145mg (53%,91%ee) 得られ
た。
【0065】
【実施例4】 n-ブチル 2- ヒドロキシ-4- フェニル-4- ペンテノエー
トの合成 α−メチルスチレン(118 mg, 1 mmol)とn-ブチルグリオ
キシラート(130 mg, 1mmol)とに0℃で実施例1の
(2)で調製した錯体のトルエン溶液を加え、1時間撹
拌した。反応溶液を飽和重曹水の中に入れ、セライトを
用い濾過した後、濾液をエーテルで3回抽出した。無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン
/ 酢酸エチル= 15 / 1 )で精製したところ、n-ブチル
2- ヒドロキシ-4- フェニル-4- ペンテノエート213
mg(収率82%)で得られた。CHIRALPAK ASカラム
(ダイセル化学工業株式会社製) 、Hexane:i-PrOH = 3:
1 、流速 0.5ml/minで測定したところ、97.5%ee
であった。 [ α] D 26:-21.2°(c 0.7, CHCl3)1 H NMR (CDCl3): δ 0.93(t, J = 7.2Hz, 3H), 1.34(m,
2H), 1.56(m, 2H),2.72(d,J = 6.0Hz, 1H), 2.83(ddd,
J = 0.9, 7.5, 14.4 Hz, 1H), 3.06 (ddd,J = 1.2, 4.
5, 14.4 Hz, 1H), 4.03(dddd, J = 6.3, 6.6, 10.8, 1
3.2 Hz, 1H),4.26(ddd, J = 4.5, 6.0, 7.5 Hz, 1H),
5.20(d, J = 1.2 Hz, 1H), 5.39(d, J= 1.2Hz, 1H),7.2
5 - 7.43(m, 5H)13 C NMR (CDCl3):δ 13.6, 19.8, 30.4, 40.5, 65.4, 6
9.2, 116.5, 126.4,127.6,128.3, 140.3, 143.6, 174.5 IR (neat):3470, 2970, 1740, 1450, 1270, 1210, 109
0, 780, 710cm-1
【0066】
【比較例2】錯体として(R)- BINOLate チタニウムジイ
ソプロポキシド錯体45mg(0.1 mmol)を調製し、この
錯体を用いた以外は実施例4と同様に行った。その結
果、目的物n-ブチル 2- ヒドロキシ-4- フェニル-4- ペ
ンテノエートが52mg(20%,94%ee)得られ
た。
【0067】
【実施例5】(E)-1-メトキシ-3-tert-ブチルジメチルシ
リルオキシ-1,3- ブタジエン(258 mg, 1.2 mmol)とn-ブ
チルグリオキシラート(130 mg, 1 mmol)とに0℃で上記
で調製した錯体のトルエン溶液を加え、2時間撹拌し
た。反応溶液にトリフルオロ酢酸0.1mlを加え5分
間撹拌した後、飽和重曹水の中に入れ、セライトを用い
濾過した後、濾液をエーテルで3回抽出した。無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/ 酢
酸エチル = 10 / 1 )で精製したところ、n-ブチル 3,4
- ジヒドロ-4- オキソ-2H-ピラン-2- カルボキシラート
79mg(収率40%)で得られた。CHIRALPAK ADカラ
ム(ダイセル化学工業株式会社製)、 Hexane:i-PrOH =
10:1 、流速 1.0ml/minで測定したところ、50%ee
であった。 [ α] D 26: -45.0 °(c 1.0, CHCl3)1 H NMR (CDCl3): δ 0.93(t, J = 7.3Hz, 3H), 1.38(m,
2H), 1.65(m, 2H),2.86(d,J = 7.8Hz, 2H), 4.22(t, J
= 6.7Hz, 2H), 5.02(t, J = 7.8Hz, 1H), 5.48(d, J =
6.1 Hz, 1H), 7.39 (d, J = 6.1 Hz,1H)13 C NMR (CDCl3): δ 13.7, 19.1, 30.5, 38.5, 66.2,
76.2, 108.1, 161.9 , 168.1, 189.5 IR(neat): 2970, 1760, 1680, 1400, 1280, 1210, 1040
cm-1
【0068】
【発明の効果】本発明は、エン反応、ヘテロディールス
ーアルダー反応、アルドール反応等の炭素−炭素結合生
成反応における、触媒活性、エナンチオ選択性に優れ、
かつ、安定性の高い新規なチタン含有錯体を提供する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07D 309/38 C07D 309/38 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 特許法第30条第1項適用申請有り 有機合成化学協会関 東支部、第33回有機合成化学協会関東支部シンポジウム (神奈川シンポジウム)講演要旨集、平成9年5月9 日、第158〜159頁 (56)参考文献 Nature,Vol.385,No. 6617(1997)p.613−p.615 Tetrahedron Asymm etry,Vol.8,No.6 (1997)p.815−p.816 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) CA(STN) CAOLD(STN) REGISTRY(STN)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の一般式(1) 【化1】 (式中、R1はメチル基、低級アルコキシ基、トリハロゲ
    ノ基、R2は水素、ハロゲン原子、R3は水素、メチル基、
    R4は低級アルキル基を示し、R1とR2とでシクロ環を形成
    してもよい。)、次の一般式(2) 【化2】 (式中、R5はフェニル基、トリル基、ナフチル基、R6
    メチル基、フェニル基、R4は低級アルキル基を示
    す。)、および次の一般式(3) 【化3】 (式中、R7は低級アルキル基を示す。)、から選ばれる
    光学活性あるいはラセミ体のチタンアルコキシド錯体で
    ある(R),(S),(RS)−触媒又はこれらの混合物に、次の一
    般式(4), (5)あるいは(6) 【化4】 【化5】 【化6】 (式中、 R1', R2', R3', R5', R6', R7' は前記 R1, R
    2, R3, R5, R6, R7 と同じ意味である。)のキラル活性
    化剤((R),(S),(RS)- ジオール又はこれらの混合物)を
    反応(ただし、ラセミ体とラセミ体との反応を除く。)
    させ、一方のエナンチオマーのみを活性化することを特
    徴とする、次の一般式(7), (8), (9), (10), (11) 【化7】 【化8】 【化9】 【化10】 【化11】 (式中、R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R1', R2', R3',
    R5', R6', R7'は前記と同じ意味である。)で表される
    光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法。
  2. 【請求項2】 シリルケテンアセタール類とアルデヒド
    類との下記に示すアルドール反応において、触媒として
    請求項1で製造される一般式(7),(8),(9),(10),(11)の
    チタン錯体を使用することを特徴とするβ−ヒドロキシ
    エステル類の製造方法。 【化12】 (式中、R7は低級アルキル基を示し、X は酸素原子また
    は硫黄原子を示し、R8は炭素数1乃至10のアルキル基を
    示す。)
  3. 【請求項3】 α−アルキルオレフィン類とグリオキシ
    ラート類との下記に示すエン反応において、触媒として
    請求項1で製造される一般式(7),(8),(9),(10),(11)の
    チタン錯体を使用することを特徴とするα−ヒドロキシ
    エステル類の製造方法。 【化13】 (式中、R9は低級アルキル基、フェニル基を示し、R10
    は低級アルキル基を示す。)
  4. 【請求項4】 1,3-ブタジエン類とグリオキシラート類
    との下記に示すヘテロ−ディールスアルダー反応におい
    て、触媒として請求項1で製造される一般式(7),(8),
    (9),(10),(11)のチタン錯体を使用することを特徴とす
    るジヒドロピラン類の製造方法。 【化14】 (式中、R10, R11, R12 は低級アルキル基を示す。)
JP22701497A 1997-08-11 1997-08-11 光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法 Expired - Fee Related JP3441344B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22701497A JP3441344B2 (ja) 1997-08-11 1997-08-11 光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法
US09/001,918 US6025503A (en) 1997-08-11 1997-12-31 Process for producing optically active titanium alkoxide complexes

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22701497A JP3441344B2 (ja) 1997-08-11 1997-08-11 光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1160585A JPH1160585A (ja) 1999-03-02
JP3441344B2 true JP3441344B2 (ja) 2003-09-02

Family

ID=16854173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22701497A Expired - Fee Related JP3441344B2 (ja) 1997-08-11 1997-08-11 光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6025503A (ja)
JP (1) JP3441344B2 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000056448A1 (en) * 1999-03-19 2000-09-28 Uop Llc Catalyst and process for producing optically active beta amino acids and esters
JP3720235B2 (ja) 2000-03-14 2005-11-24 高砂香料工業株式会社 光学活性ルテニウムホスフィン錯体の製造方法及び該錯体を用いた光学活性アルコールの製造方法
KR20070052287A (ko) * 2004-08-02 2007-05-21 다이닛쿠 가부시키가이샤 투명성 건조제
JP5268040B2 (ja) * 2005-04-07 2013-08-21 独立行政法人物質・材料研究機構 顔料用黄色系色素組成物及びその製造方法
JP2007106734A (ja) * 2005-10-13 2007-04-26 Tokyo Institute Of Technology 新規な光学活性遷移金属錯体,及びその製造方法
US20090134369A1 (en) * 2007-11-26 2009-05-28 Applied Nanoworks, Inc. Metal alkoxides, apparatus for manufacturing metal alkoxides, related methods and uses thereof
JP6012055B2 (ja) * 2011-09-07 2016-10-25 ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation チタン含有錯体及び縮合反応触媒、該触媒の調製方法、及び該触媒を含有する組成物
CN102653520A (zh) * 2012-04-10 2012-09-05 苏州大学 一种2-羟基-2-芳基硫代乙酰胺的制备方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0977760A (ja) * 1995-07-10 1997-03-25 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 2−位の置換された光学活性2,3−ジヒドロ−4h−ピラン−4−オンの製造法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Nature,Vol.385,No.6617(1997)p.613−p.615
Tetrahedron Asymmetry,Vol.8,No.6(1997)p.815−p.816

Also Published As

Publication number Publication date
US6025503A (en) 2000-02-15
JPH1160585A (ja) 1999-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Bandini et al. The First Catalytic Enantioselective Nozaki–Hiyama Reaction
US5929232A (en) Stereoselective ring opening reactions
US6130340A (en) Asymmetric cycloaddition reactions
Markó et al. Catalytic asymmetric Diels-Alder reactions of 2-pyrone derivatives
Shi et al. Axially dissymmetric binaphthyldiimine chiral Salen-type ligands for catalytic asymmetric addition of diethylzinc to aldehyde
Giuseppone et al. Mukaiyama aldol and Michael reactions catalyzed by lanthanide iodides
JP3441344B2 (ja) 光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法
US6274745B1 (en) Binaphthol monophosphoric acid derivative and its use
Shi et al. Chiral diphenylthiophosphoramides: a new class of chiral ligands for the silver (I)-promoted enantioselective allylation of aldehydes
You et al. Enantioselective addition of diethylzinc to aldehydes catalyzed by titanium (IV) complexes of N-sulfonylated amino alcohols with two stereogenic centers
Hu et al. Highly enantioselective 1, 4-conjugate addition of diethylzinc to acyclic enones with chiral phosphite–pyridine ligands derived from H8-NOBIN
Singer et al. Synthesis of a tridentate ligand for use in TiIV‐catalyzed acetate aldol addition reactions
Komarov et al. A new hydroxydiphosphine as a ligand for Rh (I)-catalyzed enantioselective hydrogenation
EP0676404B1 (en) Oxotitanium complexes useful as asymmetric reaction catalysts particularly for producing beta-hydroxy ketones or alpha-hydroxy carboxylic acid esters
Botteghi et al. Aryloxypropanoic herbicides by asymmetric hydroformylation catalyzed by rhodium carbonyl complexes modified with phosphorus ligands
JP2004091488A (ja) ホスファイトおよび遷移金属錯体の製造方法
EP0826652B1 (en) Process for preparing asymmetric compound by using metal complex
JP2007203269A (ja) 不斉触媒
CN101166708B (zh) 光学活性3-甲基环十五烷酮及其中间体的制备方法
JP4725757B2 (ja) ビナフトールリン酸誘導体及びその利用
Fan et al. Rhodium catalyzed asymmetric Pauson-Khand reaction using SDP ligands
JPH11255759A (ja) 光学活住β−ラクトン類の製造方法
Yanagisawa et al. Asymmetric aldol reaction of enol trichloroacetate catalyzed by (S, S)‐(EBTHI) TiCl (OMe)
JP4672397B2 (ja) アルコール類の製造方法
JP2002145842A (ja) 光学活性コバルト(ii)、及びコバルト(iii)錯体、その製造中間体

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090620

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100620

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100620

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110620

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110620

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120620

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees