JP2014529185A - 湿気からの保護を得るために複雑な表面上にコンフォーマルに被覆された結晶特性を有する薄いバリア膜を用いた光電子デバイス - Google Patents
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Abstract
Description
・表面の少なくとも第1の平面部分および第2の平面部分が1以上の接合部で交わるようなトポグラフィを有する表面と、
・平面部分および接合部に適合するように有効なように表面上に設けられたコンフォーマルバリアコーティングであって、バリアコーティングは、無機非晶質マトリックス中に埋め込まれた無機結晶性領域を含むハイブリッド形態を有する、コンフォーマルバリアコーティングと
を備える。
・任意の上記のデバイス請求項に記載の光電子デバイスを提供するステップと、
・入射光エネルギーを電気エネルギーへ変換するような有効な様態でデバイスを用いるステップと
を含む。
・吸収体領域と、吸収体領域に電気結合された少なくとも第1の電極層および第2の電極層であって、少なくとも第1の電極層が可視光に対して少なくとも部分的に透過性である、第1の電極層および第2の電極層と、第1の電極層に電気結合された電子格子とを備える光電子基板を提供するステップであって、第1の電極層と電子格子とが、複数の接合部を備える表面を画定する、光電子基板を提供するステップと、
・表面上にコンフォーマルな無機バリアコーティングを形成するステップであって、バリアコーティングが、無機非晶質マトリックス中に埋め込まれた無機結晶性領域を備えるハイブリッド形態を有する、無機バリアコーティングを形成するステップと
を含む。
CuaInbGacAldSewSxTeyNaz (A)
「(b+c+d)/a」=1〜2.5、好ましくは1.05〜1.65、
「b」は、0〜2、好ましくは0.8〜1.3、
「c」は、0〜0.5、好ましくは0.05〜0.35、
dは、0〜0.5、好ましくは0.05〜0.35、好ましくはd=0、
「(w+x+y)」は、1〜3、好ましくは2〜2.8、
「w」は、0以上、好ましくは少なくとも1、より好ましくは少なくとも2〜3、
「x」は、0〜3、好ましくは0〜0.5、
「y」は、0〜3、好ましくは0〜0.5、
「z」は、0〜0.5、好ましくは0.005〜0.02
となる。
CuIn(1−x)GaxSe(2−y)Sy (B)
図1aに示した構造を有するCIGS太陽電池を製造した。支持部12は、ステンレス鋼箔とした。層14および層16は、それぞれCrおよびMoから形成した。裏面の接触領域18は、Cr層14とモリブデン層16とを含んでいた。CuとInとGaとSeとの共蒸着によって、CIGS材料から吸収体領域24を形成し、吸収体領域24は約2μm厚とした。続いて、化学浴析出によって、40nm厚のCdSをバッファ領域26としてCIGS膜上に堆積させた。RFマグネトロンスパッタリングによって、窓層28としての50nm厚のZnO絶縁層と、層30としての150nm厚の酸化インジウムスズ(ITO)透明導電酸化物層とをCdS上に堆積させた。電気的接触のために箔12の縁部でより厚いバスバー(図示せず)に接続された格子32として、蒸着させたNi/Ag格子パターンを用いてITOへの接点を作製した。
湿気からセルを保護するバリア膜の能力を評価するために、実施例1において用意されたサンプルの両方のセットに対して耐湿試験を行った。温度を85℃に、湿度を相対湿度85%に制御したチャンバにおいて耐湿試験を実施した。24時間ごとに試験チャンバから太陽電池を取り出し、それらの電圧電流特性を測定した。対照太陽電池は、168時間にわたって耐湿条件下で試験し、SnO2−膜被覆セルは、240時間にわたって同じ条件下で試験した。Xeアークランプを備えたソーラシミュレータによって発生した100mW/cm2(AM1.5)照明の下で、太陽電池の電流電圧特性を周期的に記録した。フィルファクタ(FF)と、開路電圧(Voc)と、短絡電流密度(Jsc)と、(シンボルηによって表され、式η= FF・Jsc・Vocによって求められる)セル効率とを、耐湿試験チャンバ外において大気条件(約25℃)下で測定した。また、耐湿試験暴露時間の関数として、セルのシャント(Rsh)抵抗および直列(Rsr)抵抗を判断した。
この実施例では、図1bに記載した構造を有する完成した太陽電池にSnO2膜を堆積させるサンプル太陽電池の第1のセットについて実施例2で取得されたデータを報告する。図2aおよび図2bは、実験の第1のセットによる結果を示している。各図において報告される12個の異なるスパッタリング条件下で、SnO2膜を堆積させた。
図3に、実施例1で使用した条件と同じ堆積条件下で、150Wのスパッタリング電力を使用して室温で堆積させたSnO2膜の高分解能TEMおよび低分解能TEMを示す。200nmおよび500nmの厚みを有するSnO2膜の堆積のために、SiO2被覆Si基板を使用した。SnO2膜の半結晶の性質は明らかである。TEM画像は、非晶質SnO2マトリックス中に埋め込まれたナノ結晶SnO2粒子を示している。これらのハイブリッド膜では、水の拡散を容易にする連続する粒界は、あったとしてもわずかである。結晶粒子は、非晶質マトリックス全体にわたって実質的に均一に分散されていることに留意されたい。TEM画像は、結晶粒子がランダムに向いていることを示す。図3に示すような結晶のサイズは、直径2nm〜10nmに及ぶ。結晶粒子のサイズおよび膜の厚みに基づいて、結晶粒子の部分は全バリア膜の25〜30%であることが推定される。対照的に、150℃で堆積させた膜は、粒子が互いに対して当接した状態で、結晶性が高くなる傾向がある。
図4a〜図4fは、第3のサンプルセットの非保護対照太陽電池についての耐湿試験時間の関数として、電力変換効率、フィルファクタ、開路電圧および短絡電流密度における変動、ならびに、シャント抵抗および直列抵抗における変動を示す。5つの基板を使用し、各基板には8つの太陽電池(合計で40個の電池)があった。これらのデバイスの平均結果を図4a〜図4fに示す。非保護太陽電池の電力変換効率は、耐湿試験時間と関数して、48時間以内に8〜12%から3%未満へと急激に減少したことが図4aから、分かる。同様に、これらの対照太陽電池のフィルファクタは、図4bによれば、48時間以内に約70%〜約25%まで減少した。図4(c)は、耐湿試験時間の関数として、これらの対照太陽電池の開路電圧の変化を示している。開路電圧は、最初の24〜48時間で、約0.65Vから約50%降下し、次いで、0.12Vまで緩やかに衰退した。図4(d)は、短絡電流密度Jscは、その初期値の10%しか失わず、他の太陽電池性能指数と比較して、顕著であるが場合によっては有意でない減少であることを示している。図4(e)および図4(f)はそれぞれ、耐湿試験時間の関数として、直列抵抗およびシャント抵抗の進化を示す。直列抵抗は、最初の48時間以内に約5Ωから10〜30Ωまで増大したが、最終的には、DH暴露の168時間の後に約10±2Ωで飽和した。シャント抵抗におけるより劇的な変動が観測された。シャント抵抗は、耐湿試験時間とともに最初の72時間で3分の1まで指数関数的に減少し、約5Ω〜20Ωに達した後に飽和した。
この実施例では、実施例1〜5から得られた情報に関して出された全体的な結論を報告する。非被覆対照CIGS太陽電池と比較して、SnO2被覆CIGS太陽電池の耐湿耐久性は、本発明の原理にしたがって、保護コーティングがハイブリッド形態を含んだ場合に著しく向上した。詳細には、被被覆対照太陽電池の電力変換効率、フィルファクタおよび開路電圧は、耐湿試験中に劇的に減少し、それらの電力変換効率は、168時間で約12%から約0.8%に降下した。前述の報告に一致して、効率の減少は、フィルファクタおよび開路電圧を減少させることよって引き起こされた。短絡電流密度は、大幅には変化しなかった。対照的に、85℃、相対湿度85%の耐湿試験チャンバ中に240時間置いた後であっても、室温で堆積させたハイブリッドSnO2被覆層で保護された太陽電池は、それらの初期電力変換効率を維持した。すべてのSnO2被覆太陽電池では、短絡電流密度および開路電圧は、240時間の耐湿試験の後であっても、8%未満しか減少しなかった。電力変換効率の任意の観測された減退は、フィルファクタを減少させることに大部分が起因している。最も優れた耐湿試験保護は、150WのRF電力を使用して、室温でスパッタリングされたハイブリッドSnO2膜を用いて達成された。200nm厚程度の薄さのSnO2膜でさえ、CIGS太陽電池の耐湿安定性を著しく高めることが可能である。実質的に連続する粒界がない、ハイブリッドSnO2層の半結晶構造は、水分浸透を抑制する少なくとも1つの因子であると考えられる。このハイブリッド構造は、粒界に沿った水分子の拡散から保護し、多結晶膜に比べて、耐湿条件からのより優れた保護を提供する。
Claims (14)
- 表面の少なくとも第1の平面部分と第2の平面部分とが1以上の接合部で交わるようなトポグラフィを有する表面と、
前記平面部分および前記接合部に適合するのに有効なように前記表面上に設けられたコンフォーマルバリアコーティングであって、前記バリアコーティングが、無機非晶質マトリックス中に埋め込まれた無機結晶性領域を備えるハイブリッド形態を有する、バリアコーティングと
を備える、光電子デバイス。 - 前記デバイスが、透明電極層に電気結合された電子格子を備え、前記電子格子および前記透明電極層の少なくとも一部分が、前記コンフォーマルバリアコーティングが設けられた前記表面の少なくとも一部分を画定する、請求項1に記載の光電子デバイス。
- 前記デバイスが、銅とインジウムとを含む光電活性材料を備える吸収領域を備える、請求項1〜2のいずれかに記載の光電子デバイス。
- 前記表面が、複数の接合部を備えるトポグラフィを有し、前記接合部が、複数の内側角部と複数の外側角部とを備える、請求項1〜3のいずれかに記載の光電子デバイス。
- 前記表面が、少なくとも1つの第1の導電性特徴と少なくとも1つの第2の導電性特徴とによって少なくとも部分的に設けられた複数の接合部を備える、請求項1〜4のいずれかに記載の光電子デバイス。
- 前記コンフォーマルバリアコーティングが、任意選択でフッ素でドープされたスズの酸化物を備える、請求項1〜5のいずれかに記載の光電子デバイス。
- 前記コンフォーマルバリアコーティングの少なくとも50容量パーセントが非晶質である、請求項1〜6のいずれかに記載の光電子デバイス。
- 前記コンフォーマルバリアコーティングの非晶質含有物と結晶含有物の容量パーセント比が、1:1〜10:1の範囲である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光電子デバイス。
- 前記バリアコーティングの前記結晶性領域の大部分のサイズが、2nm〜10nmの範囲である、請求項7または8に記載の光電子デバイス。
- 前記バリアコーティングの抵抗率が、10−1オーム/cm以下である、請求項1〜9のいずれかに記載の光電子デバイス。
- 前記バリアコーティングが、少なくとも75%堆積させたときに、300nm〜1400nmの光透過率を有する、請求項1〜10のいずれかに記載の光電子デバイス。
- 前記バリアコーティングの厚みが、150nm〜1000nmの範囲である、請求項1〜11に記載の光電子デバイス。
- 光電子デバイスを作製する方法であって、
吸収体領域と、前記吸収体領域に電気結合された少なくとも第1の電極層および第2の電極層であって、少なくとも前記第1の電極層が可視光に対して少なくとも部分的に透過性である、第1の電極層および第2の電極層と、前記第1の電極層に電気結合された電子格子とを備える光電子基板を提供するステップであって、前記第1の電極層と前記電子格子とが、複数の接合部を備える表面を画定する、光電子基板を提供するステップと、
前記表面上にコンフォーマル無機バリアコーティングを形成するステップであって、前記バリアコーティングが、無機非晶質マトリックス中に埋め込まれた無機結晶性領域を備えるハイブリッド形態を有する、無機バリアコーティングを形成するステップと
を含む、方法。 - 前記形成するステップが、前記表面上に1以上のターゲットをスパッタリングすることを含み、前記ターゲットのうち少なくとも1つが、スズの酸化物を含み、前記表面の温度が、150℃以下である、請求項13に記載の方法。
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