JP6258173B2 - 光電変換素子、太陽電池及びこれらの製造方法と多接合型光電変換素子 - Google Patents
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Description
(光電変換素子)
図1の光電変換素子の断面概念図に示す本実施形態に係る光電変換素子100は、基板1と、基板1上に形成された電極層2aと界面中間層2bから成る下部電極2と、下部電極2上に形成されたp型半導体層3aとn型半導体層3bが接合した光吸収層3と、光吸収層3上に形成された透明電極4と、透明電極4上に形成された上部電極5と、上部電極5上に形成された反射防止膜6と、を備える光電変換素子100である。光吸収層3のp型半導体層3aは、光吸収層3の下部電極2側であり、n型半導体層3bは光吸収層3の上部電極4側である。光電変換素子100は具体的には、太陽電池が挙げられる。実施形態の光電変換素子100は、図2の多接合型光電変換素子の断面概念図様に、別の光電変換素子200と接合することで多接合型とすることができる。光電変換素子100の光吸収層は、光電変換素子200の光吸収層よりもワイドギャップであることが好ましい。光電変換素子200の光吸収層は、例えば、Siを用いたものである。実施形態の光電変換素子の製造方法は、電極層2aを基板1上に形成する工程と、電極層2aをS,Se及びTeからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素Xを含む雰囲気で500℃以上600℃以下で加熱処理する工程と、加熱処理された基板に、化合物半導体層(3a)を形成する工程とを有することが好ましい。また、実施形態の太陽電池は、上記製造方法によって光電変換素子を製造することが好ましい。
実施形態の基板1としては、青板ガラス等のNaを含有したガラスを用いることが望ましく、白板ガラス、ステンレス、Ti又はCr等の金属板又はポリイミド等の樹脂を用いることもできる。界面中間層2bを形成する際の加熱処理温度に応じて、適宜好適な基板を選択することができる。
実施形態の下部電極2は、光電変換素子100の電極であって、基板1上に形成された導電性のある電極層2aと界面中間層2bから成る。電極層2aとしては、MoやW等を含む導電性の金属膜あるいは酸化インジウムスズ(ITO:Indiumu Tin Oxide)を含む透明電極膜を用いることができる。電極層2aが金属膜である場合は、Mo膜又はW膜が好ましい。電極層2aが透明電極膜である場合、透明電極膜と界面中間層2bの間には、5nm以上20nm以下のMo又はWを含む金属膜又はMo膜又はW膜を電極層2a中にさらに有する。
実施形態の光吸収層3は、光電変換素子100の光電変換層であって、p型化合物半導体層3aとn型化合物半導体層3bがホモ接合もしくはヘテロ接合した半導体層である。光吸収層3としては、Ib族元素、IIIb族元素とVIb族元素を含む、例えばCIGS(Cu(In,Ga)Se2)、CIGSS(Cu(In,Ga)(Se,S)2)、CGS(CuGaSe2)、AGS(CuGaSe2)、CAGS((Cu,Ag)GaSe2)AGSS(CuGa(Se,S)2)やAIGS(Ag(In,Ga)Se2)といったカルコパイライト構造やスタンナイト構造やケステライト構造のいずれかを有する化合物半導体層を用いることができる。Ib族元素としては、Cu又はAgを少なくとも含む好ましい。IIIb族元素としては、Al、In及びGaからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素が好ましく、In或いはGaを含むことがより好ましい。VIb族元素としては、O,S,Se及びTeからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の元素が好ましく、Se又はSを含むことがより好ましい。また、IIIb族元素の中からはInを用いることがGaとの組み合わせによりバンドギャップの大きさを目的とする値にしやすいことからより好ましい。
具体的には、光吸収層3として、Cu(In,Ga)(S,Se)2、Cu(In,Ga)(Se,Te)2、Cu(In,Ga)3(Se,Te)5、Cu(Al,Ga,In)Se2、Cu2ZnSnS4又はAg(In,Ga)(S,Se)2、等、より具体的には、Cu(In,Ga)Se2、CuInSe2、CuInTe2、CuGaSe2、CuIn3Te5、Ag(In,Ga)(S,Se)2等の化合物半導体を使用することができる。
実施形態の光吸収層3は、その前駆体であるp型半導体層を下部電極2上に形成し、透明電極4が形成される側のp型半導体層の領域をn型化した層である。p型半導体層の形成方法としては、2段階目と3段階目の間に急冷工程を有する蒸着法(3段階法)やスパッタ法等の薄膜形成方法が挙げられる。実施形態の3段階法は、電極層2上にGa又はInと、Se又はSを堆積した後、高温でCuとSeを堆積し、その後、急冷して低温で再びGa又はInと、Se又はSを堆積することで光吸収層3を形成することを特徴とする。なお、下記の製造方法は、蒸着法であるが、スパッタ法で実施形態の光吸収層3を成膜する場合は、例えば、透明電極4の近傍側となる領域の成膜時に、低温条件下で行う方法が挙げられる。
実施形態の透明電極4は太陽光のような光を透過し尚且つ導電性を有する膜である。透明電極4は、例えば、アルミナ(Al2O3)を2wt%含有したZnO:Al又はジボランからのBをドーパントとしたZnO:Bを用いることができる。なお、透明電極4と光吸収層3との間には、保護層の役割を担う半絶縁層としてi−ZnOを例えば20nm以上100nm以下程度の厚さで形成してもよい。透明電極4は、スパッタリング等によって、成膜することができる。
実施形態の上部電極5は、光電変換素子の電極であって、透明電極4上に形成された金属膜である。上部電極5としては、Al、Ag又はAu等を用いることができる。さらに、透明電極4との密着性を向上させるために、Ni又はCrの堆積膜上に、Al、Ag又はAu等を設けてもよい。上部電極5の膜厚は、例えば、300nm以上1000nm以下である。上部電極5は、例えば、抵抗加熱蒸着法で堆積することができる。なお、実施形態において、上部電極5を省略してもよい。
実施形態の反射防止膜6は、光吸収層3へ光を導入しやすくするための膜であって、透明電極4上に形成されている。反射防止膜6としては、例えば、MgF2を用いることが望ましい。反射防止膜6の膜厚は、例えば、90nm以上120nm以下である。反射防止膜6は、例えば、電子ビーム蒸着法により成膜することができる。
(実施例1)
基板1として青板ガラスを用い、スパッタ法により電極層2となるMo薄膜を700nm程度堆積する。スパッタは、Moをターゲットとし、Arガス雰囲気中でRF200W印加することにより行った。電極層2aとなるMo薄膜をSe雰囲気中で600℃に加熱することで界面中間層2bを形成した。下部電極2上に、光吸収層3となるCuIn0.7Ga0.3Se2薄膜を蒸着法(3段階法)により堆積した。まず、基板温度を300℃に加熱し、In及びGaとSeを堆積する(第1段階目)。その後、基板温度を500℃まで加熱し、Cuと、Se堆積する。吸熱反応の開始を確認し、一旦、Cuが過剰の組成でCuの堆積を停止する(第2段階目)。堆積停止直後、基板を自然急冷し、基板温度を400℃まで冷却する。急冷後、再びIn及びGaとSeを堆積する(第3段階目)ことで、若干、In又はGa等のIIIb族元素過剰組成にする。光吸収層3の膜厚は2500nm程度とし、小粒径層の膜厚は200nm程度とした。
得られた光電変換素子100の界面中間層2bの構造を断面TEM観察した。図4に実施例1の光電変換素子の界面中間層2b近傍の断面TEM像を示す。界面中間層2bは、ランダム配向したMoSe2微結晶をMoSe2アモルファス相で覆う構造であった。界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比は、記述の方法で断面TEM像から算出した。
電極層2aとなるMo薄膜のSe雰囲気中での加熱温度が550℃であること以外は実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
電極層2aとなるMo薄膜のSe雰囲気中での加熱温度が500℃であること以外は実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CIGSS(CuIn0.7Ga0.3Se0.9S0.1)を用いること以外は、実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CIGSS(CuIn0.7Ga0.3Se0.9S0.1)を用いること以外は、実施例2と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CIGSS(CuIn0.7Ga0.3Se0.9S0.1)を用いること以外は、実施例3と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGS(CuGaSe2)を用いることと電極層2aにSnO2(100nm)/ITO(150nm)/SiO2(10nm)(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGS(CuGaSe2)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例2と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGS(CuGaSe2)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例3と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGS(CuGaSe2)を用いることと電極層2aにTiO2(10nm)/SnO2(100nm)/ITO(150nm)/SiO2(10nm)(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGS(CuGaSe2)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例2と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGS(CuGaSe2)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例3と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGS(AgGaSe2)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGS(AgGaSe2)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例2と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGS(AgGaSe2)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例3と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGS(AgGaSe2)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGS(AgGaSe2)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例2と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGS(AgGaSe2)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例3と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGSS(CuGaSe0.58S0.42)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGSS(CuGaSe0.58S0.42)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例2と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGSS(CuGaSe0.58S0.42)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例3と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGSS(CuGaSe0.58S0.42)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGSS(CuGaSe0.58S0.42)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例2と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、CGSS(CuGaSe0.58S0.42)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例3と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGSS(AgGaSe0.82S0.18)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGSS(AgGaSe0.82S0.18)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例2と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGSS(AgGaSe0.82S0.18)を用いることと電極層2aにSnO2/ITO/SiO2(S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例3と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGSS(AgGaSe0.82S0.18)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGSS(AgGaSe0.82S0.18)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例2と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3として、AGSS(AgGaSe0.82S0.18)を用いることと電極層2aにTiO2/SnO2/ITO/SiO2(T/S/I/S)を用い、さらに10nm程度のMo薄膜を堆積すること以外は、実施例3と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3の成膜前に、Se雰囲気中での高温加熱を行わない乃至はSe雰囲気中での加熱温度が300℃であること以外は実施例1と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3の成膜前に、Se雰囲気中での高温加熱を行わない乃至はSe雰囲気中での加熱温度が300℃であること以外は実施例4と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3の成膜前に、Se雰囲気中での高温加熱を行わない乃至はSe雰囲気中での加熱温度が300℃であること以外は実施例7と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3の成膜前に、Se雰囲気中での高温加熱を行わない乃至はSe雰囲気中での加熱温度が300℃であること以外は実施例10と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3の成膜前に、Se雰囲気中での高温加熱を行わない乃至はSe雰囲気中での加熱温度が300℃であること以外は実施例13と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3の成膜前に、Se雰囲気中での高温加熱を行わない乃至はSe雰囲気中での加熱温度が300℃であること以外は実施例16と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3の成膜前に、Se雰囲気中での高温加熱を行わない乃至はSe雰囲気中での加熱温度が300℃であること以外は実施例19と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3の成膜前に、Se雰囲気中での高温加熱を行わない乃至はSe雰囲気中での加熱温度が300℃であること以外は実施例22と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3の成膜前に、Se雰囲気中での高温加熱を行わない乃至はSe雰囲気中での加熱温度が300℃であること以外は実施例25と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
光吸収層3の成膜前に、Se雰囲気中での高温加熱を行わない乃至はSe雰囲気中での加熱温度が300℃であること以外は実施例28と同じ方法で光電変換素子を作製した。そして、実施例1と同様に、界面中間層2bの結晶相とアモルファス相の面積比の算出、及びクロスカット試験による付着力の評価を行った。
Claims (11)
- 基板と、
前記基板上に電極層と界面中間層を有する下部電極と、
前記界面中間層上に形成された光吸収層とを少なくとも備え、
前記界面中間層は、前記電極層に含まれるMo又はWとS,Se及びTeからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素Xからなる化合物薄膜であって、
前記界面中間層には、前記化合物薄膜の結晶相と、前記結晶相を被覆するアモルファス相とを有し、
前記界面中間層の前記結晶相の面積をScとし、前記アモルファス相の面積をSaとする時、前記結晶相と前記アモルファス層の面積比であるSc/(Sa+Sc)が0.4≦Sc/(Sa+Sc)≦0.9を満たし、
前記結晶相はランダムに配向していることを特徴とする光電変換素子。 - 前記電極層の構成元素がMoである請求項1乃至2に記載の光電変換素子。
- 前記電極層は、透明電極膜と5nm以上20nm以下のMo又Wを含む金属膜又はMo膜又はW膜を含み、
前記Mo又Wを含む金属膜又はMo膜又はW膜は、前記透明電極膜と前記界面中間層の間に前記Mo又Wを含む金属膜又はMo膜又はW膜を有する請求項1又は2に記載の光電変換素子。 - 前記p型化合物半導体層は、前記元素Xを少なくとも含む請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光電変換素子。
- 前記p型化合物半導体層は、カルコパイライト構造、スタンナイト構造とケステライト構造のいずれかを有する請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光電変換素子。
- 前記請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光電変換素子を用いてなる太陽電池。
- 電極層を基板上に形成する工程と、
前記電極層をS,Se及びTeからなる群から選ばれる少なくとも1つの元素Xを含む雰囲気で500℃以上600℃以下で加熱処理する工程と、
前記加熱処理された基板に、化合物半導体層を形成する工程とを有する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光電変換素子の製造方法。 - 前記加熱処理する温度は、550℃以上600℃以下である請求項7に記載の光電変換素子の製造方法。
- 前記化合物半導体層を形成する工程は、蒸着法又はスパッタ法である請求項7又は8に記載の光電変換素子の製造方法。
- 前記請求項7乃至9のいずれか1項に記載の光電変換素子の製造方法によって光電変換素子を製造した太陽電池の製造方法。
- 前記請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光電変換素子を用いた多接合型光電変換素子。
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