JP2014228474A5 - - Google Patents
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このような構成によれば、基準円の径を変更させるのに対応させて、複数の検出素子の各検出面が位置する円弧の曲率を変更することができる。例えば、分解能を高めたい場合には、基準円の径を大きくし、これに対応させて、複数の検出素子の各検出面が位置する円弧の曲率半径を大きくすることができる。一方、Ｘ線強度を高めたい場合には、基準円の径を小さくし、これに対応させて、複数の検出素子の各検出面が位置する円弧の曲率半径を小さくすることができる。このように、各種の分析態様に応じて、複数の検出素子の各検出面が位置する円弧の曲率を適切に変更し、精度よく分析を行うことができる。
このような構成によれば、基準球面の径を変更させるのに対応させて、複数の検出素子の各検出面が位置する球面の曲率を変更することができる。例えば、分解能を高めたい場合には、基準球面の径を大きくし、これに対応させて、複数の検出素子の各検出面が位置する球面の曲率半径を大きくすることができる。一方、Ｘ線強度を高めたい場合には、基準球面の径を小さくし、これに対応させて、複数の検出素子の各検出面が位置する球面の曲率半径を小さくすることができる。このように、各種の分析態様に応じて、複数の検出素子の各検出面が位置する球面の曲率を適切に変更し、精度よく分析を行うことができる。
特に、本実施形態では、ディフラクトメータ円Ｃの径を変更させるのに対応させて、複数の検出素子２１の各検出面２１ａが位置する円弧の曲率を変更することができる。例えば、分解能を高めたい場合には、ディフラクトメータ円Ｃの径を大きくし、これに対応させて、複数の検出素子２１の各検出面２１ａが位置する円弧の曲率半径を大きくすることができる。一方、Ｘ線強度を高めたい場合には、ディフラクトメータ円Ｃの径を小さくし、これに対応させて、複数の検出素子２１の各検出面２１ａが位置する円弧の曲率半径を小さくすることができる。このように、各種の分析態様に応じて、複数の検出素子２１の各検出面２１ａが位置する円弧の曲率を適切に変更し、精度よく分析を行うことができる。
特に、本実施形態では、ディフラクトメータ球Ｃ´の径を変更させるのに対応させて、複数の検出素子２１の各検出面２１ａが位置する球面の曲率を変更することができる。例えば、分解能を高めたい場合には、ディフラクトメータ球Ｃ´の径を大きくし、これに対応させて、複数の検出素子２１の各検出面２１ａが位置する球面の曲率半径を大きくすることができる。一方、Ｘ線強度を高めたい場合には、ディフラクトメータ球Ｃ´径を小さくし、これに対応させて、複数の検出素子２１の各検出面２１ａが位置する球面の曲率半径を小さくすることができる。このように、各種の分析態様に応じて、複数の検出素子２１の各検出面２１ａが位置する球面の曲率を適切に変更し、精度よく分析を行うことができる。
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