CN104181181B - X射线分析装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种能够缩短分析时间且能够高精度地进行分析的X射线分析装置。沿着衍射圆（基准圆）C将多个检测元件（21）的各检测面配置在圆弧上。因此，可以利用各检测元件（21）在焦点位置对在试样S衍射后的X射线进行检测。由此，可以防止由各检测元件（21）检测到的X射线强度产生误差，所以可以得到更正确的衍射信息。因此，通过利用多个检测元件（21）对在试样S衍射后的X射线进行检测，能够缩短分析时间且能够高精度地进行分析。

Description

X射线分析装置

技术领域

本发明涉及一种用于通过对试样照射X射线来进行分析的X射线分析装置。

背景技术

在X射线分析装置中设置有例如用于对试样照射X射线的X射线源、和对在试样上衍射后的X射线进行检测的检测器。在这种X射线分析装置中，具有使X射线源以及检测器在以试样为中心的基准圆（所谓的衍射圆）上相对移动来进行分析的装置（例如，参照以下的专利文献1）。

图5A是示出现有的X射线分析装置的结构例的概略图。在该例子中，检测器102设有具有规定宽度的狭缝的狭缝板121。由此，在试样S衍射后的X射线中只有通过了狭缝板121的狭缝的X射线被检测器102检测到。X射线源101以及检测器102的狭缝板121（狭缝）位于以试样S为中心的衍射圆C上。

在分析时，以衍射圆C的中心A为旋转轴线，例如试样S以规定的角速度旋转（所谓的θ旋转），由此相对于试样S的表面的X射线的入射角发生变化。此时，检测器102以旋转轴线为中心以θ旋转的2倍角速度旋转（所谓的2θ旋转）。由此，在相对于试样S的X射线的入射角与在试样S衍射后的X射线的向狭缝的入射角维持一定关系的状态下，能够得到衍射信息。

在采用这样的X射线分析装置进行分析的情况下，通过使狭缝板121间歇地移动，使得狭缝在衍射圆C上移动。然而，在像这样使狭缝板121断续地移动，采用检测器102对通过了各狭缝位置的X射线进行检测的情况下，存在分析耗费时间的问题。因此，近年来，已知有一种X射线分析装置，其采用具有多个检测元件的检测器在衍射圆C上移动那样的结构。

图5B是示出现有的X射线分析装置的其他结构例的概略图。在该例子中，采用的是将多个检测元件221在基板222上配置成1列的检测器202。X射线源201以及检测器202位于以试样S为中心的衍射圆C上。在分析时，以衍射圆C的中心A为旋转轴线，试样S以及检测器202以上述那样的形态进行旋转。

检测器202被设置为各检测元件221并列在衍射圆C的切线Cl上。采用这样的X射线分析装置，可以通过多个检测元件221对在试样S衍射后的X射线同时进行检测，因此可以缩短分析时间。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000－35409号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，采用如上述那样将多个检测元件221设置在衍射圆C的切线C1上的结构的话，恐怕不能高精度地进行分析。具体来说，在各检测元件221中，除了位于衍射圆C与检测器202的切点C2上的检测元件221以外的检测元件221都不在衍射圆C上，因此是在与焦点不同的位置对在试样S衍射后的X射线进行检测。因此，由各检测元件221检测的X射线强度产生误差，恐怕不能得到正确的衍射信息。

离上述切点C2越远的检测元件221越容易产生这样的问题，因此设置在切线Cl上的检测元件221的数量越多，则分析的精度就越低。因此，不能将检测器202中的检测元件221的数量设置得过多，分析时间的缩短也是有限度的。即，采用现有的X射线分析装置的话，缩短分析时间且高精度地进行分析是比较困难的。

又，在基于由各检测元件221检测到的X射线强度得到衍射信息之时，各检测元件221的位置信息被转换为以旋转轴线为中心的衍射圆C上的角度信息。此时，检测元件221离上述切点C2越远就越远离衍射圆C，因此转换后的角度信息就容易产生偏差。因此，为了高精度地进行分析，需要进行正确的角度校正。

本发明正是鉴于上述实际情况而做出的，其目的在于提供一种能够缩短分析时间且能高精度地进行分析的X射线分析装置。又，本发明的目的在于提供一种不进行角度校正就能高精度地进行分析的X射线分析装置。

用于解决问题的手段

本发明所涉及的X射线分析装置，其特征在于，具有：用于对试样照射X射线的X射线源；检测器，其具有多个检测元件，利用各检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测；以及移动分析机构，其用于使所述X射线源以及所述检测器在以试样为中心的基准圆上相对移动并进行分析，所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准圆位于圆弧上。

根据这样的结构，由于多个检测元件的各检测面沿着基准圆（衍射圆）位于圆弧上，因此可以利用各检测元件在焦点位置对在试样衍射后的X射线进行检测。由此，可以防止由各检测元件检测的X射线强度产生误差，因此可以得到更正确的衍射信息。因此，通过利用多个检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测，可以缩短分析时间且能高精度地进行分析。

又，由于多个检测元件的各检测面沿着基准圆位于圆弧上，所以在将各检测元件的位置信息转换为角度信息时，不需要进行角度校正。因此，不进行角度校正就能够高精度地进行分析。

所述多个检测元件的各检测面也可以朝向所述基准圆的中心。

根据这样的结构，在试样衍射后的X射线相对于多个检测元件的各检测面垂直地入射。由此，可以进一步有效地防止由各检测元件检测到的X射线强度产生误差，因此可以更加高精度地进行分析。

所述检测器可以通过在挠性基板上将所述多个检测元件配置为一列而构成。在该情况下，通过使所述挠性基板弯曲，所述多个检测元件的各检测面可以沿着所述基准圆位于圆弧上。

根据这样的结构，只要使挠性基板弯曲，就能够做成将多个检测元件的各检测面沿着基准圆配置在圆弧上、且各检测面朝向基准圆的中心的状态。因此，可以容易地实现能够高精度地进行分析这样的结构。

所述X射线分析装置还可以具有圆弧曲率变更机构，其用于通过使所述多个检测元件相对移动来对所述多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率进行变更。

根据这样的结构，由于可以对多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率进行变更，对在试样衍射后的X射线的相对于各检测面的入射形态进行变更，所以能够以更广泛的形态进行分析。

所述X射线分析装置还可以具有基准圆变更机构，其用于通过使所述X射线源以及所述检测器相对移动来对所述基准圆的直径进行变更。在该情况下，为了与由所述基准圆变更机构变更了的所述基准圆的曲率相对应，所述圆弧曲率变更机构可以对所述多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率进行变更。

根据这样的结构，能够与使基准圆的直径变更的操作对应地对多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率进行变更。例如，在想要提高分辨率的情况下，可以增大基准圆的直径，并与之相对应地增大多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率半径。另一方面，在想要提高X射线强度的情况下，可以减小基准圆的直径，并与之相对应地缩小多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率半径。这样，可以根据各种分析形态对多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率适当地变更，从而高精度地进行分析。

本发明所涉及的其他的X射线分析装置，其特征在于，具有：用于对试样照射X射线的X射线源；检测器，其具有多个检测元件，利用各检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测；以及移动分析机构，其使所述X射线源以及所述检测器在以试样为中心的基准球面上相对移动并进行分析，所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准球面位于球面上

根据这样的结构，由于多个检测元件的各检测面沿着基准球面（衍射球）位于球面上，因此可以利用各检测元件在焦点位置对在试样衍射后的X射线进行检测。由此，可以防止由各检测元件检测的X射线强度产生误差，因此可以得到更正确的衍射信息。因此，通过利用多个检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测，可以缩短分析时间且能高精度地进行分析。

又，由于多个检测元件的各检测面沿着基准球面位于球面上，所以在将各检测元件的位置信息转换为角度信息时，不需要进行角度校正。因此，不进行角度校正就能够高精度地进行分析。

所述多个检测元件的各检测面可以朝向所述基准球面的中心。

根据这样的结构，在试样衍射后的X射线相对于多个检测元件的各检测面垂直地入射。由此，可以进一步有效地防止由各检测元件检测到的X射线强度产生误差，因此可以更加高精度地进行分析。

所述检测器可以通过在挠性基板上将所述多个检测元件配置为格子状而构成，在该情况下，可以通过使所述挠性基板弯曲，使所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准球面位于球面上。

根据这样的结构，只要使挠性基板弯曲，就能够做成将多个检测元件的各检测面沿着基准球面配置在球面上、且各检测面朝向基准球面的中心的状态。因此，可以容易地实现能够高精度地进行分析这样的结构。

所述X射线分析装置还可以具有球面曲率变更机构，其用于通过使所述多个检测元件相对移动来对所述多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率进行变更。

根据这样的结构，由于可以对多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率进行变更，对在试样衍射后的X射线的相对于各检测面的入射形态进行变更，所以能够以更广泛的形态进行分析。

所述X射线分析装置还可以具有基准球面变更机构，其用于通过使所述X射线源以及所述检测器相对移动来对所述基准球面的直径进行变更，在该情况下，为了与由所述基准球面变更机构变更了的所述基准球面的曲率相对应，所述球面曲率变更机构也可以对所述多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率进行变更。

根据这样的结构，能够与使基准球面的直径变更的操作对应地对多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率进行变更。例如，在想要提高分辨率的情况下，可以增大基准球面的直径，并与之相对应地增大多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率半径。另一方面，在想要提高X射线强度的情况下，可以减小基准球面的直径，并与之相对应地缩小多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率半径。这样，可以根据各种分析形态对多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率适当地变更，从而能够高精度地进行分析。

发明效果

根据本发明，可以通过用多个检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测来缩短分析时间，且由于能够防止由各检测元件所检测的X射线强度产生误差，所以能高精度地进行分析。

附图说明

图1是示出本发明的一实施形态所涉及的X射线分析装置的结构例的概略图。

图2A是示出图1的检测器的结构例的概略图。

图2B是示出图1的检测器的其他结构例的概略图。

图3是示出本发明的其他实施形态所涉及的X射线分析装置的结构例的概略图。

图4是示出图3的检测器的结构例的概略图。

图5A是示出现有的X射线分析装置的结构例的概略图。

图5B是示出现有的X射线分析装置的其他结构例的概略图。

具体实施方式

图1是示出本发明的一实施形态所涉及的X射线分析装置的结构例的概略图。在该X射线分析装置中，设置有用于对试样S照射X射线的X射线源1、以及用于对在试样S衍射后的X射线进行检测的检测器2。

X射线源1以及检测器2位于以试样S为中心的衍射圆（基准圆）C上。X射线源1从位于衍射圆C上的X射线焦点11发射出X射线。检测器2在基板22上具有多个检测元件21，能够通过各检测元件21对在试样S衍射后的X射线进行检测。

在该例子中，试样S以及检测器2能以衍射圆C的中心A为旋转轴线分别进行旋转。试样S以及检测器2分别通过移动分析机构3旋转，由此可以使得X射线源1以及检测器2在衍射圆C上相对移动从而进行分析。移动分析机构3是具有例如电动机（未图示）等驱动源的结构，能够使得试样S以及检测器2同步旋转。

具体来说，例如试样S以所定的角速度以衍射圆C的中心A为旋转轴线进行旋转（所谓的θ旋转），由此来自X射线源1的X射线相对于试样S的表面的入射角就发生变化。此时，检测器2以旋转轴线为中心以θ旋转的2倍角速度旋转（所谓的2θ旋转）。由此，可以在来自X射线源1的X射线的相对于试样S的入射角与在试样S衍射后的X射线的向检测器2的入射角维持一定关系的状态下得到衍射信息。

但是，移动分析机构3并不限于使试样S以及检测器2相对于静止的X射线源1旋转那样的结构。例如，可以是在使试样S静止的状态下，使X射线源1以及检测器2以衍射圆C的中心A为旋转轴线旋转这样的结构、以及在使检测器2静止的状态下，使试样S以及X射线源1以衍射圆C的中心A为旋转轴线旋转这样的结构等。即使在这样的情况下，也能够在将来自X射线源1的X射线的相对于试样S的入射角和在试样S衍射后的X射线的向检测器2的入射角维持上述那样的一定关系的状态下得到衍射信息。

可以通过X射线距离变更机构12使X射线源1相对于衍射圆C的中心A径向移动。由此，可以改变相对于试样S的X射线源1（X射线焦点11）的距离。又，可以利用检测距离变更机构23使检测器2相对于衍射圆C的中心A径向移动。由此，可以改变相对于试样S的检测器2的距离。

X射线距离变更机构12以及检测距离变更机构23是具有例如电动机（未图示）等驱动源的结构，通过使X射线源1以及检测器2同步地移动，可以将相对于试样S的X射线源1以及检测器2的距离保持相同。由此，可以变更衍射圆C的直径。即，X射线距离变更机构12以及检测距离变更机构23作为基准圆变更机构而发挥作用，所述基准圆变更机构用于通过使X射线源1以及检测器2相对移动来变更衍射圆C的直径。

但是，基准圆变更机构并不限于使X射线源1以及检测器2相对于静止的试样S移动那样的结构。例如，也可以是在使X射线源1静止的状态下使试样S以及检测器2移动那样的结构、在使检测器2静止的状态下使试样S以及X射线源1移动那样的结构等。即使在这样的情况下，只要是相对于试样S的X射线源1以及检测器2的距离被保持相同那样的结构，就能够变更衍射圆C的直径。

在本实施形态中，如图1所示，采用检测器2的各检测元件21沿着衍射圆C配置的结构。下面，参照图2A以及图2B对其具体的结构例进行详细说明。

图2A是示出图1的检测器2的结构例的概略图。在该例子中，检测器2的基板22通过挠性基板构成。挠性基板是由具有可挠性的材料形成的基板，能够通过施加外力而使得该基板变形、弯曲。

多个检测元件21在基板22上配置成一列。在基板22上，可以配置任意数量的检测元件21。各检测元件21具有检测面21a，在试样S衍射后的X射线入射至该检测面21a，在基板22平坦的状态下，各检测面21a位于同一面内。各检测元件21的检测面21a的宽度例如为50μm左右。

在该例子中，由于基板22由挠性基板构成，所以可以通过使基板22弯曲，使得多个检测元件21的各检测面21a的相对位置变化。具体来说，通过弯曲基板22，多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射圆C位于圆弧上。在该状态下，如图2A所示，多个检测元件21的各检测面21a朝向衍射圆C的中心A。即，各检测面21a以沿着衍射圆C的切线延伸的方式设置。

在分析时，通过使检测器2移动，使多个检测元件21在衍射圆C上间歇地或者连续地移动，从而能够基于入射到各检测元件21的检测面21a的X射线强度得到衍射信息。此时，由于能采用多个检测元件221对在试样S衍射后的X射线同时进行检测，因此可以缩短分析时间。在基于由各检测元件21检测到的X射线强度得到衍射信息时，各检测元件21的位置信息被转换为以旋转轴线为中心的衍射圆C上的角度信息。

这样，在本实施形态中，由于多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射圆C位于圆弧上，因此可以利用各检测元件21在焦点位置对在试样S衍射后的X射线进行检测。由此，可以防止由各检测元件21检测的X射线强度产生误差，因此可以得到更正确的衍射信息。因此，通过利用多个检测元件21对在试样S衍射后的X射线进行检测，可以缩短分析时间且能高精度地进行分析。

又，由于多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射圆C位于圆弧上，所以在将各检测元件21的位置信息转换为角度信息时，不需要进行角度校正。因此，不进行角度校正就能够高精度地进行分析。

进一步地，由于多个检测元件21的各检测面21a朝向衍射圆C的中心A，所以在试样S衍射后的X射线就相对于多个检测元件21的各检测面21a垂直地入射。由此，可以进一步有效地防止由各检测元件21检测到的X射线强度产生误差，因此可以更加高精度地进行分析。

尤其是，在本实施形态中，只要使得由挠性基板构成的基板22弯曲，就能够做成将多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射圆C配置在圆弧上、且各检测面21a朝向衍射圆C的中心A的状态。因此，可以容易地实现能够高精度地进行分析这样的结构。

如图2A所示，在本实施形态中，基板变形机构24被安装在检测器2上，该基板变形机构24用于通过使检测器2的基板22的弯曲量变化，而使得多个检测元件21相对移动。该基板变形机构24作为用于变更多个检测元件21的各检测面21a所在的圆弧的曲率的圆弧曲率变更机构而发挥作用。

作为基板变形机构24的结构，例举有例如在使基板22的端部侧静止的状态下使中央部侧位移的结构、或在使基板22的中央部侧静止的状态下使端部侧位移的结构等。在该情况下，例如可以采用机械或者电气的位移机构使得基板22的中央部侧或者端部侧位移。

作为上述机械或者电气的位移机构，例如可以采用压电元件等，但并不限定于此，也可以采用螺线管等执行机构。又，并不限定于采用压电元件、执行机构的结构，例如可以通过以真空状态保持基板22的中央部侧，通过压力变化使基板22的中央部侧位移那样的结构等其他任何形态使基板22的弯曲量变化。

在通过构成基准圆变更机构的X射线距离变更机构12以及检测距离变更机构23，使X射线源1以及检测器2相对移动而变更了衍射圆C的直径的情况下，基板变形机构24与之相对应地进行动作。具体来说，为了与变更后的衍射圆C的曲率相对应，变更多个检测元件21的各检测面21a所在的圆弧的曲率，以维持各检测面21a沿着衍射圆C位于圆弧上的状态。

这样，在本实施形态中，由于可以对多个检测元件21的各检测面21a所在的圆弧的曲率进行变更，对在试样S衍射后的X射线的相对于各检测面21a的入射形态进行变更，所以能够以更广泛的形态进行分析。

尤其是，在本实施形态中，能够与使衍射圆C的直径变更的操作对应地对多个检测元件21的各检测面21a所在的圆弧的曲率进行变更。例如，在想要提高分辨率的情况下，可以增大衍射圆C的直径，并与之相对应地增大多个检测元件21的各检测面21a所在的圆弧的曲率半径。另一方面，在想要提高X射线强度的情况下，可以减小衍射圆C的直径，并与之相对应地缩小多个检测元件21的各检测面21a所在的圆弧的曲率半径。这样，可以根据各种分析形态对多个检测元件21的各检测面21a所在的圆弧的曲率适当地变更，从而高精度地进行分析。

图2B是示出图1的检测器2的其他结构例的概略图。在该例子中，检测器2的基板22由环氧玻璃基板等刚性基板构成。

多个检测元件21在基板22上配制成一列。在基板22上，可以设置任意数量的检测元件21。在基板22的表面，与各检测元件21的安装位置相对应地形成有多个阶梯面22a。各阶梯面22a由相互平行的平坦面形成，并以从基板22的两端侧向中央侧渐渐降低的形态形成。

由此，安装于基板22的各阶梯面22a上的各检测元件21的检测面21a以其高度逐级不同的形态被平行地配置。在该例子中，多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射圆C位于圆弧上。在此，在各检测面21a沿着衍射圆C位于圆弧上的概念中，不仅包含如图2A所例示那样，各检测面21a沿着衍射圆C平滑地位于圆弧上的结构，还包括如图2B所示那样，各检测面21a沿着衍射圆C阶梯式地设置的结构。

即使是该图2B所例示的那样的结构，由于多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射圆C位于圆弧上，因此可以利用各检测元件21在焦点位置检测在试样S衍射后的X射线。由此，可以防止由各检测元件21检测到的X射线强度产生误差，因此可以得到更正确的衍射信息。因此，通过利用多个检测元件21对在试样S衍射后的X射线进行检测，能够缩短分析时间且能够高精度地进行分析。

又，由于多个检测元件21的各检测面2la沿着衍射圆C位于圆弧上，因此在将各检测元件21的位置信息转换为角度信息时，不需要进行角度校正。因此，不进行角度校正就能够高精度地进行分析。

图3是示出本发明的其他实施形态所涉及的X射线分析装置的结构例的概略图。在该X射线分析装置中，与上述实施形态相同地，具有用于对试样S照射X射线的X射线源1、和用于对在试样S衍射后的X射线进行检测的检测器2。

在本实施形态中，X射线源1以及检测器2位于以试样S为中心的衍射球（基准球面）C’上。X射线源1从位于衍射球C’上的X射线焦点11发射X射线。在该例子中，试样S以及检测器2能够以衍射球C’的中心A’为旋转中心分别进行三维旋转。

试样S以及检测器2分别利用移动分析机构3旋转，由此可以使得X射线源1以及检测器2在衍射球C’上相对移动并进行分析。移动分析机构3采用具有例如电动机（未图示）等驱动源的结构，可以使得试样S以及检测器2同步旋转。通过移动分析机构3实现的X射线源1以及检测器2的相对移动的形态与上述实施形态相同，因此在此省略其详细说明。

图4是示出图3的检测器2的结构例的概略图。检测器2在基板22上具有多个检测元件21，可以利用各检测元件21对在试样S衍射后的X射线进行检测。在该例子中，检测器2的基板22由挠性基板构成v。

多个检测元件21呈格子状地配置在例如矩形状的基板22上。在基板22上，可以配置任意数量的检测元件21。各检测元件21具有检测面21a，在试样S衍射后的X射线入射至该检测面21a，如果基板22为平坦的状态，则各检测面21a位于同一面内。各检测元件21的检测面21a的宽度例如为50μm左右。

在该例子中，基板22由挠性基板构成，因此可以通过使基板22弯曲来使多个检测元件21的各检测面21a的相对位置发生变化。具体来说，如图3所示，由于基板22被弯曲，多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射球C’配置在球面上。在该状态下，多个检测元件21的各检测面21a朝向衍射球C’的中心A’。

这样，在本实施形态中，多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射球C’配置在球面上，因此可以利用各检测元件21在焦点位置对在试样S衍射后的X射线进行检测。由此，可以防止由各检测元件21检测到的X射线强度产生误差，因而可以得到更正确的衍射信息。因此，通过利用多个检测元件21对在试样S衍射后的X射线进行检测，能够缩短分析时间且能够高精度地进行分析

又，由于多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射球C’配置在球面上，所以在将各检测元件21的位置信息转换为角度信息时，不需要进行角度校正。因此，不进行角度校正就能够高精度地进行分析。

进一步地，由于多个检测元件21的各检测面21a朝向衍射球C’的中心A’，因此在试样S衍射后的X射线相对于多个检测元件21的各检测面21a垂直地入射。由此，可以更有效地防止由各检测元件21检测到的X射线强度产生误差，因此可以更加高精度地进行分析。

尤其是，在本实施形态中，只要使由挠性基板构成的基板22弯曲，就能做成将多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射球C’配置在球面上、且各检测面21a朝向衍射球C’的中心A’的状态。因此，可以容易地实现能够高精度地进行分析那样的结构。

虽然在图3中没有图示，但在本实施形态中，与图1的情形相同地设置有X射线距离变更机构12以及检测距离变更机构23。在该情况下，可以通过X射线距离变更机构12使X射线源1相对于衍射球C’的中心A’径向移动。由此，可以改变相对于试样S的X射线源1（X射线焦点11）的距离。又，可以利用检测距离变更机构23使检测器2相对于衍射球C’的中心A’径向移动。由此，可以改变相对于试样S的检测器2的距离。

在该情况下，X射线距离变更机构12以及检测距离变更机构23作为基准球面变更机构而发挥作用，该基准球面变更机构用于通过使X射线源1以及检测器2相对移动来变更衍射球C’的直径。

又，虽然在图3中没有图示，但是在本实施形态中，也与图2A的情形一样地设有用于使检测器2的基板22的弯曲量变化的基板变形机构24。在该情况下，基板变形机构24作为球面曲率变更机构而发挥作用，该球面曲率变更机构用于通过使多个检测元件21相对移动来改变多个检测元件21的各检测面21a所在的球面的曲率。

在通过构成基准球面变更机构的X射线距离变更机构12以及检测距离变更机构23使X射线源1以及检测器2相对移动从而变更衍射球C’的直径的情况下，基板变形机构24与之相对应地动作。具体来说，为了与变更后的衍射球C’的曲率相对应，对多个检测元件21的各检测面21a所在的球面的曲率进行变更，维持各检测面21a沿着衍射球C’位于球面上的状态。

这样，在本实施形态中，由于可以对多个检测元件21的各检测面21a所在的球面的曲率进行变更，对在试样S衍射后的X射线的相对于各检测面21a的入射形态进行变更，所以能够以更广泛的形态进行分析。

尤其是，在本实施形态中，能够与使衍射球C’的直径变更的操作对应地对多个检测元件21的各检测面21a所在的球面的曲率进行变更。例如，在想要提高分辨率的情况下，可以增大衍射球C’的直径，并与之相对应地增大多个检测元件21的各检测面21a所在的球面的曲率半径。另一方面，在想要提高X射线强度的情况下，可以减小衍射球C’的直径，并与之相对应地缩小多个检测元件21的各检测面21a所在的球面的曲率半径。这样，可以根据各种分析形态对多个检测元件21的各检测面21a所在的球面的曲率适当地进行变更，从而高精度地进行分析。

但是，检测器2的基板22并不限于由挠性基板构成，也可以与图2B的情形相同地由刚性基板构成。在该情况下，通过以从例如矩形状的基板22的角部侧向中央部侧逐渐降低的形态形成多个阶梯面，在各阶梯面上安装检测元件21，可以将多个检测元件21的各检测面21a沿着衍射球C’配置在球面上。

符号说明

1 X射线源

2 检测器

3 移动分析机构

11 X射线焦点

12 X射线距离变更机构

21 检测元件

21a 检测面

22 基板

22a 阶梯面

23 检测距离变更机构

24 基板变形机构

S 试样

A 中心

A’ 中心

C 衍射圆

C’ 衍射球。

Claims (8)

1.一种X射线分析装置，具有：

用于对试样照射X射线的X射线源；

检测器，其具有多个检测元件，利用各检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测；以及

移动分析机构，其用于使所述X射线源以及所述检测器在以试样为中心的基准圆上相对移动并进行分析，

所述X射线分析装置的特征在于，

所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准圆位于圆弧上，

所述X射线分析装置还具有圆弧曲率变更机构，其用于通过使所述多个检测元件相对移动来对所述多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率进行变更。

2.如权利要求1所述的X射线分析装置，其特征在于，

所述多个检测元件的各检测面朝向所述基准圆的中心。

3.如权利要求2所述的X射线分析装置，其特征在于，

所述检测器是通过在挠性基板上将所述多个检测元件配置为一列而构成的，

通过使所述挠性基板弯曲，所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准圆位于圆弧上。

4.如权利要求1～3中任一项所述的X射线分析装置，其特征在于，

还具有基准圆变更机构，其用于通过使所述X射线源以及所述检测器相对移动来对所述基准圆的直径进行变更，

为了与由所述基准圆变更机构变更了的所述基准圆的曲率相对应，所述圆弧曲率变更机构对所述多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率进行变更。

5.一种X射线分析装置，具有：

用于对试样照射X射线的X射线源；

检测器，其具有多个检测元件，利用各检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测；以及

移动分析机构，其用于使所述X射线源以及所述检测器在以试样为中心的基准球面上相对移动并进行分析，

所述X射线分析装置的特征在于，

所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准球面位于球面上，

所述的X射线分析装置还具有球面曲率变更机构，其用于通过使所述多个检测元件相对移动来对所述多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率进行变更。

6.如权利要求5所述的X射线分析装置，其特征在于，所述多个检测元件的各检测面朝向所述基准球面的中心。

7.如权利要求6所述的X射线分析装置，其特征在于，

所述检测器是通过在挠性基板上将所述多个检测元件配置为格子状而构成的，

通过使所述挠性基板弯曲，所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准球面位于球面上。

8.如权利要求5～7中任一项所述的X射线分析装置，其特征在于，

还具有基准球面变更机构，其用于通过使所述X射线源以及所述检测器相对移动来对所述基准球面的直径进行变更，

为了与由所述基准球面变更机构变更了的所述基准球面的曲率相对应，所述球面曲率变更机构对所述多个检测元件的各检测面所在的球面的曲率进行变更。