JP2014213244A - 紫外線水処理装置 - Google Patents

紫外線水処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2014213244A
JP2014213244A JP2013091219A JP2013091219A JP2014213244A JP 2014213244 A JP2014213244 A JP 2014213244A JP 2013091219 A JP2013091219 A JP 2013091219A JP 2013091219 A JP2013091219 A JP 2013091219A JP 2014213244 A JP2014213244 A JP 2014213244A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultraviolet
toc
inner tube
water treatment
pure water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013091219A
Other languages
English (en)
Inventor
英典 渡邊
Hidenori Watanabe
英典 渡邊
菱沼 宣是
Nobuyoshi Hishinuma
宣是 菱沼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP2013091219A priority Critical patent/JP2014213244A/ja
Publication of JP2014213244A publication Critical patent/JP2014213244A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract

【課題】外管と、内管と、前記内管に配置された紫外線光源とを備え、前記外管と前記内管の間隙が純水の流路となっており、前記流路を流れる純水に紫外線を照射し純水中のTOCを分解除去する小型の紫外線水処理装置において、装置の小型化の要請に応えて処理装置内の流路を狭く設計しても、TOC分解率が著しく低下することがなく、高効率のTOC分解率を維持することが可能な紫外線水処理装置を提供することにある。
【解決手段】前記紫外線光源は、ピーク波長が172nmの紫外線を照射するエキシマランプであり、前記流路の断面積が70mm〜2800mmの範囲で形成されていることを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、純水の紫外線水処理装置、特に、ピーク波長が172nmの紫外線を照射するエキシマランプを用いた小型の紫外線水処理装置に係わるものである。
超純水の製造プロセスでは、通常、イオン交換処理や逆浸透膜による処理等の一次工程により純水を生成し、更に二次工程として当該純水に紫外線処理を行い水中の有機物質を分解除去する方法が採られている。この紫外線処理にはいくつかの手法がある。
例えば、特開2011−255326号公報(特許文献1)や特開平01−164488号公報(特許文献2)に開示される、主光源として185nmの低圧水銀ランプを用いて純水に紫外線を照射する手法や、特開2004−337665号公報(特許文献3)に開示される、酸化剤となる薬剤を純水中に混合し、当該純水に紫外線を照射する手法等の技術が開発されており、純水中に含まれる極微量のTOCを分解することが可能である。
特許文献1に記載の水処理方法は、TOC濃度が30〜1000ppb相当の純水(HO)に紫外線を照射してOHラジカルを生成し、このOHラジカルによって有機物質の酸化を促進させ、純水中のTOC分解処理を行うものである。
図6にその概要図を示す。この水処理装置は、同心状の外管11と内管12とを有し、前記内管12内には紫外線光源13が配置されている。そして、この外管11と内管12の環状の間隙が純水の流路14を構成しており、該純水流路14を流れる純水に紫外線光源13から紫外線を照射して、純水中のTOCを分解除去する構成となっている。この紫外線光源13にはピーク波長185nmの水銀ランプが用いられている。
TOC分解は、純水に吸収される紫外線量が大きいほどTOCの分解処理が促進される。しかしながら、紫外線の吸収率が高すぎると、純水の表層で紫外線が殆ど吸収されてしまい内部にまで浸透できず、十分な水量の純水を処理できない。
図7に、波長と水の吸収係数の相関関係を示す。図7によれば、波長200nm以上の紫外線は水の吸収係数が小さいため、TOC分解効率も低いと推察できる。また一方で、波長172nm以下の紫外線は水の吸収係数が高く、TOC分解効率は高いが、水の透過率が低くて深部にまで到達できず、十分な水量を処理することできない。
このような観点から、従来からこの種の水処理装置に用いられる紫外線光源には、主に、水に対する吸収率と透過率のバランスを考慮して、ピーク波長185nmの低圧水銀ランプ(Hg蒸気圧0.001〜0.2mmHg)が用いられていた(特許文献1、特許文献2)。
ところで、近年、特に研究用途において、単位時間あたりの処理水量が数L/min以下の小型の紫外線水処理装置が要請されている。当該装置は小型化の要請があることから、装置内を流れる純水の流路を狭く設計する必要がある。しかしながら、従来の水処理装置は、装置内の流路を狭く設計するとTOC分解率が低下してしまうという問題があった。それは、流路を狭く設計すると該流路内を流れる純水の流速が速くなり、紫外線が照射される処理時間が短くなるためである。
TOC分解率と流路断面積の関係を図8に示す。従来の紫外線水処理装置では、流路を狭めるにつれて純水の流速が速くなり、TOC分解率が低下する傾向が認められる。このTOC分解率を低下させないためには、流路面積を所定の大きさ以上に設計するか、単位時間あたりの処理水量を減らす必要があった。
しかしながら、流路面積を大きくすることは、装置の小型化の要請に反することであり、また、処理水量を減らすことは処理効率の低下につながり好ましくはない。
特開2011−255326号公報 特開平01−164488号公報 特開2004−337665号公報
上記従来技術の問題点に鑑みて、本発明が解決しようとする課題は、紫外線光源を用いて純水のTOCを分解除去する小型の紫外線水処理装置において、小型化の要請に応えて処理装置内の流路を狭く設計しても、TOC分解率が著しく低下することがなく、高効率のTOC分解率を維持することが可能な紫外線水処理装置を提供することである。
外管と、内管と、前記内管に配置された紫外線光源とを備え、前記外管と前記内管の間隙が純水の流路となっており、前記流路を流れる純水に紫外線を照射し純水中のTOCを分解除去する小型の紫外線水処理装置において、前記紫外線光源は、ピーク波長が172nmの紫外線を照射するエキシマランプであり、前記流路の断面積が70mm〜2800mmの範囲で形成されていることを特徴とする。
また、前記内管内が不活性ガスでパージされており、前記流路の断面積が70mm〜1500mmの範囲に形成されることを特徴とする。
この発明にかかる紫外線水処理装置によれば、紫外線光源にピーク波長172nmのエキシマランプを使用することで、流路を狭く設計してもTOC分解率を低下させることがない。そのため、装置の小型化に適しており、特に、流路断面積が70mm〜2800mmの範囲において、優れたTOC分解除去特性が得られる。
また更に、内管内を不活性ガスによってパージして、紫外線光源の周囲に酸素が介在することによる紫外線の吸収をなくして、流路内の純水に効率的に紫外線を照射でき、特に、流路断面積が70mm〜1500mmの範囲において、より優れたTOC分解除去特性を得ることができる。
本発明の紫外線水処理装置の側断面図(A)と横断面図(B)。 本発明の効果を表すグラフ。 内管内に空気が存在する場合の光源の波長シフト図。 本発明の作用効果の説明概念図(1)。 本発明の作用効果の説明概念図(2)。 従来の紫外線水処理装置。 波長と水の吸収係数の相関グラフ。 従来技術の課題を示す流路断面積とTOC分解率の相関グラフ。
図1(A)(B)に本発明の小型の紫外線水処理装置が示されていて、該紫外線水処理装置は、同心状に配置された外管1と内管2とを有しており、該内管2内には、紫外線光源3が配置されている。この紫外線光源3としては、ピーク波長が172nmの紫外線を照射するエキシマランプが用いられ、より具体的には、合成石英ガラス等の真空紫外域の光の透過性に優れた部材からなる発光管内に、キセノンガスを封入したエキシマランプが用いられる。
なお、その電極構造としては、両電極ともに発光管の外部に設けられる外部電極構造、一方の電極が発光管の外部に、他方の電極が発光管の内部に設けられる内外電極構造のいずれであってもよく、また、封止構造としてもシングエンド型、ダブルエンド型のいずれのものであってもよい。
外管1は、耐水性や耐食性に優れた部材が用いられ、具体的には、ステンレスやアルミニウム等の金属材料からなる管状部材を用いることができる。
また、内管2は、波長200nm以下の真空紫外域の光を透過する透光性部材が用いられ、具体的には、合成石英ガラス製の管状部材を用いることができる。
前記外管1と内管2との間には環状の純水流路4が形成されている。そして、前記外管1にはその両端に流入管5と流出管6が設けられていて、被処理物である純水は、流入管5から導入されて、環状の純水流路4を流れ、内管2内の紫外線光源であるエキシマランプ3からの真空紫外線が照射されてTOC分解がなされて、流出管6から流出する。
上記構成の紫外線水処理装置においては、内管2内の紫外線光源であるエキシマランプ3からはピーク波長が172nmの真空紫外線が照射されるので、内管2内のランプ周囲の雰囲気が空気である場合、真空紫外線が酸素によって吸収されるので、内管2から環状の流路4内の被処理物である純水に照射される紫外線は幾分減少する。
これを避けるためには、内管2内を窒素等の不活性ガスによってパージすることもできる。
当然のこととして、不活性ガスでパージする構成とする場合、相応の設備とコストが掛かることとなるので、内管2内を空気雰囲気とするか不活性ガスパージとするかのいずれを選択するかは、求められる処理に対する要求やコストとの関係で決定される。
本発明による効果を実証すべく、従来技術との比較をする実験を行った。
<実施条件>
外管:ステンレス製、長さ150mm
内管:石英ガラス製、外径22mm、内径20mm(厚さ1mm)、
長さ150mm
流量:1.6L/min
上記条件において、外管の外径(内径)を変えることによって、純水の流路の断面積を変化させて(即ち、流速を変化させて)、純水中のTOC残存率を測定する実験を行った。
<本発明>
光源:キセノンエキシマランプ(波長172nm)、ガス圧350Torr、
外径16mm、有効発光長100mm、点灯電力16W
実施例1:内管内は空気雰囲気
実施例2:内管内を窒素ガスでパージ
<比較例>
光源:水銀ランプ(波長185nm)、外径16mm
その実験結果が図2のグラフに表されている。グラフ中、○は本発明の実施例1、◇は実施例2、■は比較例である。尚、以下に記載する流路断面積は、内管および外管の管軸に直交する断面での面積を示す。
比較例では、流路断面積が4000mm以下に小さくなるにつれてTOC分解率が上昇していく。この4000mmでの流速は0.83cm/secであった。つまり、流路断面積を小さくすると流速が速くなり、TOC残存率があがり、分解処理が困難になってきている。
これに対して、本発明の実施例1および実施例2ともに、その挙動が異なり、流路断面積を小さくして流速が速くなっても、TOC残存率が大きくならず、TOC分解率が低下しないことが分かる。
このように、本発明による紫外線水処理装置によれば、純水の流路断面積を小さくして流速を速めても、TOC分解率が低下しない理由は以下のように考察される。
まずもって、そもそも172nmの光は、従来例での185nmの光に比べて光エネルギーが大きく、TOC分解への寄与度は格段に大きい。
また、キセノン封入のエキシマランプにおいて放射される真空紫外線は、その波長がピーク波長172nmを中心とする紫外線であるが、図3のピークW1が示すように、数nm程度の半値幅を有している。また、エキシマランプから放射される真空紫外線は、内管2内に存在する空気によって吸収される場合、長波長領域よりも短波長領域の吸収が大きいため、ピークW1からピークW2、ピークW3に向けて波形が変化する。
波長172nmの光は水による吸収が大きく、1mm以下の深さで吸収されてしまうが、これよりも長波長側の光はそれよりも深い領域にまで到達し、TOC分解に寄与する。
図3で分かるように、172nmの真空紫外線が水によって吸収されるといっても、この水による吸収は172nm以下の波長領域で大きく、これより長波長側での吸収はそれよりもずっと小さい。
このため、172nm以上の長波長領域の光によってTOC分解機能が担保されている。
また、図4に示すように、内管2内の光源による環状流路4内を流れる純水に対するTOC分解処理は、紫外線の透過程度によって内管2の近い環状領域で大きく、距離の遠い外管1側ではTOC分解率が低下する。
一方で、光エネルギーの大小によってもそのTOC分解率が変わる。
その模式的態様が図5に示されていて、図5(A)は185nmによる処理の程度を表し、図5(B)は172nmによる処理の程度を示している。図中、色濃く表現されているものほど処理の程度が進んでいることを示している。
図5(A)(B)に示すように、内管側領域での処理においても、その程度の差が生じ、185nmよりも光エネルギーの大きな172nmによるTOC分解能は高分解能である。それ故、純水の全体量からみれば、172nmの方がその処理の程度がより大きくなる。
このように、172nmの方が185nmよりも吸収が大きく、深さ方向で浅い領域にまでしか到達しないとはいっても、図3に示すように、172nmよりも長波長側では、水による吸収が少なく深い領域にまで到達しており、また、図5に示すように、172nmでの処理の程度がより大きいために、図2に示すように、同じ流路断面積の場合には、172nmによる処理の方が、185nmによる処理よりも高分解率(低残存率)となるものである。
以上からも分かるように、実施例1の場合には、純水の流路断面積が2800mm以下の範囲において、従来の185nmの場合に比べて優位性があることが分かる。
尚、流路断面積が70mmを下回るように設計することは、装置構成上、流路の幅(外管1と内管2との間隙)が小さすぎて設計困難となる。
また、内管2内を窒素パージした実施例2においては、図2に示すように、特に、小流路断面積おいて分解率が更に高くなる。
内管2内を窒素ガスパージすることで、エキシマランプ3からの真空紫外線が、内管2内で酸素によって吸収されることがなく、内管2から流路4内の純水にそのまま照射されるので、実施例1よりも更に分解率が向上している。
その傾向は、流路断面積が小さな領域において特に顕著であり、窒素ガスパージに要する設備や費用を勘案して、実施例1との比較でより実用的な範囲で採用することがよく、流路断面積が1500mm以下の場合において特に有用である。
なお、本発明に係る紫外線水処理装置では、純水が小水量の場合おいて特に効果を奏するが、単位時間当たりの水処理量が5L/min以下の場合において効果を奏することが確認されている。
以上説明したように、本発明に係る小型の紫外線水処理装置によれば、内管内に配置する紫外線光源として、ピーク波長が172nmの紫外線を照射するエキシマランプを使用して、外管と内管の間に形成される純水流路の断面積を70mm〜2800mmの範囲で形成したことにより、特に、小流量の被処理水を処理する場合に、従来用いられていた185nmの紫外線による水処理装置より、格段に効果的なTOC分解効果が得られる。
また、内管内を不活性ガスでパージすることで、70mm〜1500mmという、流路断面積の更に小さな範囲で特段のTOC分解効果を達成できるものである。
1 外管
2 内管
3 紫外線光源(エキシマランプ)
4 環状の純水流路
5 流入管
6 流出管


Claims (2)

  1. 外管と、内管と、前記内管に配置された紫外線光源とを備え、前記外管と前記内管の間隙が純水の流路となっており、前記流路を流れる純水に紫外線を照射し純水中のTOCを分解除去する小型の紫外線水処理装置において、
    前記紫外線光源は、ピーク波長が172nmの紫外線を照射するエキシマランプであり、
    前記流路の断面積が70mm〜2800mmの範囲で形成されていること、
    を特徴とするTOC分解用の小型の紫外線水処理装置。
  2. 前記内管内が不活性ガスでパージされており、
    前記流路の断面積が70mm〜1500mmの範囲に形成されること、
    を特徴とする請求項1に記載の小型の紫外線水処理装置。


JP2013091219A 2013-04-24 2013-04-24 紫外線水処理装置 Pending JP2014213244A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013091219A JP2014213244A (ja) 2013-04-24 2013-04-24 紫外線水処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013091219A JP2014213244A (ja) 2013-04-24 2013-04-24 紫外線水処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014213244A true JP2014213244A (ja) 2014-11-17

Family

ID=51939540

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013091219A Pending JP2014213244A (ja) 2013-04-24 2013-04-24 紫外線水処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014213244A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017176994A (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 ウシオ電機株式会社 水処理装置
WO2018235865A1 (ja) 2017-06-21 2018-12-27 株式会社島津製作所 水質測定装置及び水質測定方法
WO2020189437A1 (ja) * 2019-03-18 2020-09-24 ウシオ電機株式会社 除染方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001259622A (ja) * 2000-03-16 2001-09-25 Toto Ltd 水の浄化装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001259622A (ja) * 2000-03-16 2001-09-25 Toto Ltd 水の浄化装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017176994A (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 ウシオ電機株式会社 水処理装置
WO2018235865A1 (ja) 2017-06-21 2018-12-27 株式会社島津製作所 水質測定装置及び水質測定方法
US11739006B2 (en) 2017-06-21 2023-08-29 Shimadzu Corporation Water quality measurement device and water quality measurement method
WO2020189437A1 (ja) * 2019-03-18 2020-09-24 ウシオ電機株式会社 除染方法
JP2020151043A (ja) * 2019-03-18 2020-09-24 ウシオ電機株式会社 除染方法
CN113677376A (zh) * 2019-03-18 2021-11-19 优志旺电机株式会社 除污方法
JP7184683B2 (ja) 2019-03-18 2022-12-06 ウシオ電機株式会社 除染方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6564663B2 (ja) エキシマランプ装置
JP4398860B2 (ja) Uv処理膜
WO2014148325A1 (ja) 蛍光エキシマランプおよび流体処理装置
KR950006684B1 (ko) 물속의 유기 염소계 용매의 분해방법 및 장치
WO2015098387A1 (ja) 光照射装置
JP2014213244A (ja) 紫外線水処理装置
JP2009268974A (ja) 紫外線照射方法及び紫外線照射装置
CN105712549A (zh) 一种抑制水中溴代含氮消毒副产物形成的方法
TWI713587B (zh) 以暴露於uv輻射之水性液體介質處理基板的方法
JP3797552B2 (ja) 紫外線照射処理方法及び装置
JPS63218293A (ja) トリクロロエチレン含有排水の処理方法
JP2007275825A (ja) 紫外線照射装置
JP6788842B2 (ja) 水処理装置
JP2017188264A (ja) 液体処理用エキシマランプ
JP2003144912A (ja) 紫外線照射装置及びその運用方法
JP5223443B2 (ja) ArFエキシマランプ
JPH09253639A (ja) 超純水製造装置
JP6728962B2 (ja) 水処理装置
JP6102842B2 (ja) デスミア処理方法およびデスミア処理装置
CN111013384A (zh) 双波段光催化净化紫外灯管及空气净化装置
JP5720122B2 (ja) 超純水製造システム
WO2023243288A1 (ja) オゾン含有ガス発生方法、オゾン含有ガス発生システム
CN113173621B (zh) 一种增强紫外光解水体中全氟烷基化合物的方法
TWI532682B (zh) 去除氨氮廢液中過氧化氫之系統及其方法
JP4432321B2 (ja) エキシマ照射装置の初期調整方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160317

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161117

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161116

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161221

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170124