JP2014209198A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高い耐久性を有し、しかも、充分なる低反射率を達成し得る構成、構造を有する表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、第１面１１Ａ、及び、該第１面１１Ａと対向する第２面１１Ｂを有する第１基板１１；第１基板１１と対向して配置され、第１基板１１の第２面１１Ｂと対向する第１面１２Ａ、及び、該第１面１２Ａと対向する第２面１２Ｂを有する第２基板１２、並びに；第１基板１１の第２面１１Ｂに、第２基板１２と離間して設けられた複数の発光部２０を備えており、各発光部２０に対応して、第２基板１２の第２面１２Ｂには、発光部２０からの光を透過させる光透過部３２が設けられた光透過抑制層３１が形成されており、光透過部３２には反射防止層３３が形成されている。
【選択図】 図１

Description

本開示は表示装置に関する。

表示装置にあっては、画像表示部の正反射率を低減させることが、コントラストの向上、画像表示品質の向上といった観点から極めて重要である。画像表示部の正反射率を低減させる技術として、画像表示部の表面に、誘電体多層膜を形成する方法、反射防止（Anti Reflection）膜や低反射（Low Reflection）膜を形成する方法が知られている。また、画像表示部の表面にモスアイフィルムを貼り付ける技術が、例えば、特開２０１０−０９２６６６から周知である。

特開２０１０−０９２６６６

ところで、従来の誘電体多層膜、反射防止膜、低反射膜にあっては、正反射率が１％程度であり、画像表示部への映り込み防止が充分であるとは云い難い。また、表示装置（便宜上、『表示装置ユニット』と呼ぶ）が、複数、配列されて成るタイリング形式の表示装置にあっては、表示装置ユニットを並べたとき、表示装置全体における画像表示部表面の高い平滑さを達成することが困難である。そして、一部の表示装置ユニットが例えば傾いていると、この表示装置ユニットにおける光反射状態が他の表示装置ユニットの光反射状態と異なってしまうため、傾いている表示装置ユニットが目立ってしまう。モスアイフィルムは低反射率を達成することができるが、モスアイフィルムが汚れると光反射率にバラツキが生じてしまう。即ち、モスアイフィルムは耐久性が乏しい。

また、表示装置の形式にも依るが、表示装置が画像を表示していないとき、即ち、表示装置が動作していないとき、画像表示部に模様や絵、文字等が描かれていれば、表示装置全体における一種の視覚効果の向上を図ることができる。

従って、本開示の第１の目的は、高い耐久性を有し、しかも、充分なる低反射率を達成し得る構成、構造を有する表示装置を提供することにある。また、本開示の第２の目的は、表示装置が画像を表示していないとき、模様等が視認できる構成、構造を有する表示装置を提供することにある。

上記の第１の目的あるいは第２の目的を達成するための本開示の第１の態様あるいは第２の態様に係る表示装置は、
第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第１基板、
第１基板と対向して配置され、第１基板の第２面と対向する第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第２基板、並びに、
第１基板の第２面に、第２基板と離間して設けられた複数の発光部、
を備えている。

そして、上記の第１の目的あるいは第２の目的を達成するための本開示の第１の態様に係る表示装置にあっては、
各発光部に対応して、第２基板の第２面には、発光部からの光を透過させる光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されており、
光透過部には、反射防止層が形成されている。

また、上記の第１の目的あるいは第２の目的を達成するための本開示の第２の態様に係る表示装置にあっては、
各発光部に対応して、第２基板の第２面には、発光部からの光を透過させる第１の光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されており、第２基板の第１面側には、発光部からの光を透過させる第２の光透過部が設けられた光不透過層が形成されており、
第２の光透過部の面積は、第１の光透過部の面積よりも小さい。尚、第２基板の第１面側に光不透過層が形成されているが、具体的には、光不透過層は、第２基板の第１面上に形成されていてもよいし、発光部と第２基板の第１面との間の領域に形成されていてもよい。以下の説明においても同様である。

本開示の第１の態様に係る表示装置にあっては、各発光部に対応して、第２基板の第２面には発光部からの光を透過させる光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されており、光透過部には反射防止層が形成されているので、また、本開示の第２の態様に係る表示装置にあっては、各発光部に対応して、第２基板の第２面には発光部からの光を透過させる第１の光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されており、第２基板の第１面側には発光部からの光を透過させる第２の光透過部が設けられた光不透過層が形成されており、且つ、第２の光透過部の面積は第１の光透過部の面積よりも小さいので、高い耐久性を有し、しかも、充分なる低反射率を達成し得る表示装置、あるいは又、表示装置が画像を表示していないとき、模様等を視認し得る表示装置を提供することができる。

図１Ａ及び図１Ｂは、実施例１の表示装置の模式的な一部断面図、及び、模式的な一部平面図である。 図２Ａは、実施例１の表示装置の変形例の模式的な一部断面図であり、図２Ｂ、図２Ｃ及び図２Ｄは、実施例１の表示装置における光透過部の部分を拡大した模式的な一部断面図である。 図３Ａ及び図３Ｂは、実施例２の表示装置の模式的な一部断面図、及び、模式的な一部平面図である。 図４Ａ及び図４Ｂは、実施例３の表示装置及び変形例の模式的な一部断面図である。 図５Ａは、実施例２の表示装置の変形例の模式的な一部断面図であり、図５Ｂ、図５Ｃは、実施例３の表示装置の別の変形例の模式的な一部断面図である。 図６は、実施例４の表示装置の模式的な一部平面図である。 図７は、実施例４の表示装置の変形例の模式的な一部平面図である。 図８は、実施例４の表示装置の別の変形例の模式的な一部平面図である。 図９は、実施例４の表示装置の更に別の変形例の模式的な一部平面図である。 図１０は、実施例４の表示装置の更に別の変形例の模式的な一部平面図である。 図１１は、実施例５の表示装置（タイリング形式の表示装置）の概念図である。 図１２Ａ及び図１２Ｂは、実施例６の表示装置の模式的な一部断面図である。 図１３は、実施例７の表示装置の模式的な一部断面図である。 図１４Ａ、図１４Ｂ、図１４Ｃ及び図１４Ｄは、実施例８の表示装置の組み立て方法を説明するための発光素子等の模式的な一部断面図である。 図１５Ａ及び図１５Ｂは、図１４Ｄに引き続き、実施例８の表示装置の組み立て方法を説明するための発光素子等の模式的な一部断面図である。 図１６Ａ、図１６Ｂ及び図１６Ｃは、図１５Ｂに引き続き、実施例８の表示装置の組み立て方法を説明するための発光素子等の模式的な一部断面図である。 図１７Ａ及び図１７Ｂは、実施例１の表示装置の別の変形例の模式的な一部断面図、及び、模式的な一部平面図である。 図１８Ａ及び図１８Ｂは、実施例２の表示装置の別の変形例の模式的な一部断面図、及び、模式的な一部平面図である。 図１９は、実施例１の表示装置の変形例の模式的な一部平面図である。 図２０は、実施例２の表示装置の変形例の模式的な一部平面図である。 図２１は、実施例２の表示装置の別の変形例の模式的な一部平面図である。

以下、図面を参照して、実施例に基づき本開示を説明するが、本開示は実施例に限定されるものではなく、実施例における種々の数値や材料は例示である。尚、説明は、以下の順序で行う。
１．本開示の第１の態様〜第２の態様に係る表示装置、全般に関する説明
２．実施例１（本開示の第１の態様に係る表示装置）
３．実施例２（本開示の第２の態様に係る表示装置）
４．実施例３（実施例１の変形であり、実施例２の表示装置との組合せ）
５．実施例４（実施例１〜実施例３の変形）
６．実施例５（実施例１〜実施例４の変形）
７．実施例６（第３の態様に係る表示装置）
８．実施例７（第４の態様に係る表示装置）、その他

［本開示の第１の態様〜第２の態様に係る表示装置、全般に関する説明］
本開示の第１の態様に係る表示装置において、光透過抑制層は反射防止機能を有する形態とすることができ、これによって、上記の本開示の第１の目的を達成することができる。そして、この場合、光透過抑制層は、反射防止層の正反射率と同程度の正反射率を有することが好ましい。ここで、「同程度」とは、限定するものではないが、
０≦（光透過抑制層の正反射率／反射防止層の正反射率）≦２
を満足することを意味する。一般に、表示装置の表面における散乱反射率の大小は、画像表示の黒沈みを決定づける。一方、表示装置の表面における正反射率の大小は、表示装置の表面に映り込んだ像の明るさを決定づけ、画像表示の品質を大きく左右する。本開示の第１の態様に係る表示装置にあっては、正反射率を上記のとおり規定することで、高い画像表示品質を達成することができる。例えば、艶消し印刷を行うことで、正反射率は低下するが、散乱反射率の値が増加してしまい、正反射率と散乱反射率との適切なバランスを取ることが困難である。また、微粒子を使用するＡＧコートでは、発光部の疑似減点が発生する虞がある。

上記の好ましい形態を含む本開示の第１の態様に係る表示装置にあっては、上記の本開示の第１の目的を達成するために、反射防止層は、光透過抑制層と第２基板の第２面との間に延在している形態とすることができるし、あるいは又、反射防止層は、光透過抑制層を覆っている形態とすることができる。

あるいは又、本開示の第１の態様〜第２の態様に係る表示装置にあっては、上記の本開示の第２の目的を達成するために、光透過抑制層に模様が付されている形態とすることができる。そして、この場合、模様の形成ピッチは、発光部の配置ピッチの整数倍、等倍又は整数分の一である形態とすることができ、これによって、発光部から構成された画素（あるいは副画素）と、この画素（あるいは副画素）に隣接した画素（あるいは副画素）との境界領域が目立たなくなるし、表示装置を、後述するように、タイリング形式の表示装置とする場合、タイリング形式の表示装置を構成する表示装置（表示装置ユニット）と表示装置ユニットとの間の境界領域を目立たなくすることができる。

以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様〜第２の態様に係る表示装置において、一層広い視野角を達成するために、光透過抑制層の厚さは、光透過部（第１の光透過部）に近づく程、薄い形態とすることが好ましい。光透過抑制層の厚さの変化は、直線状の変化であってもよいし、滑らかな曲線状の変化であってもよいし、階段状の変化であってもよい。

更には、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様〜第２の態様に係る表示装置において、
光透過部（第１の光透過部）の外形形状を、直径Ｄ₁の円形とみなし、
発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部の頂面から光透過部（第１の光透過部）までの距離をＬ₁とし、
発光部から、光透過部が設けられた光透過抑制層に至るまでの光路の平均屈折率をｎ₁としたとき、
ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₁））≦（Ｄ₁−Ｄ₀）／（２・Ｌ₁）≦２
を満足する形態することが好ましい。尚、通常、ｎ₁の値は１．４乃至１．６の範囲にあるため、ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₁））の値は、通常、０．８から１．０２の間の値となる。この場合、発光部の中心及び光透過部（第１の光透過部）の中心は、同じ軸線上にあることが望ましい。ここで、発光部が１つの発光素子から構成されている場合であって、実際に光を出射する１つの発光素子の部分の平面形状が円形である場合、「発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし」とは、実際に光を出射する部分の直径をＤ₀とすることを意味し、実際に光を出射する部分が円形ではない場合には、実際に光を出射する部分の面積を円の面積に換算したときの円の直径をＤ₀とすることを意味する。一方、後述するように、発光素子・表示装置における１画素（１ピクセル）を、例えば、第１発光素子、第２発光素子及び第３発光素子の組（発光ユニット）から構成し、あるいは又、４つ以上の発光素子の組（発光ユニット）から構成し、これらの発光素子を１つの発光部とみなす場合、全ての発光素子を包含する円を想定し、この円の直径をＤ₀とすることを意味する。あるいは又、各発光素子が一直線上に配置されていない場合、各発光素子の中心を結ぶ円を想定し、この円の直径をＤ₀とすることを意味するし、各発光素子が一直線上に配置されている場合、最も外側に位置する２つ発光素子の中心を結ぶ線分を想定し、この線分を直径とする円の直径をＤ₀とすることを意味する。以下の説明においても同様である。また、光透過部（第１の光透過部）の平面形状が円形ではない場合を含めるため、「光透過部（第１の光透過部）の外形形状を、直径Ｄ₁の円形とみなし」との表現とした。

更には、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様に係る表示装置において、
各発光部に対応して、第２基板の第１面側には、発光部からの光を透過させる第２の光透過部が設けられた光不透過層が形成されており、
第２の光透過部の面積は、光透過部の面積よりも小さい（狭い）構成とすることができる。そして、このような構成の本開示の第１の態様に係る表示装置にあっては、あるいは又、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第２の態様に係る表示装置にあっては、
第２の光透過部の外形形状を、直径Ｄ₂の円形とみなし、
発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部の頂面から第２の光透過部までの距離をＬ₂とし、
発光部から、第２の光透過部が設けられた光不透過層に至るまで光路の平均屈折率をｎ₂としたとき、
ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₂））≦（Ｄ₂−Ｄ₀）／（２・Ｌ₂）≦２
を満足することが好ましい。更には、発光部の中心、光透過部の中心（第１の光透過部の中心）、及び、第２の光透過部の中心は、同じ軸線上にあり、光透過部（第１の光透過部）と第２の光透過部とは相似形であることが望ましい。尚、第２の光透過部の平面形状が円形ではない場合を含めるため、「第２の光透過部の外形形状を、直径Ｄ₂の円形とみなし」との表現とした。

更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の第１の態様〜第２の態様に係る表示装置において、発光部は、発光ダイオード（ＬＥＤ）から成る構成とすることができるが、これに限定するものではなく、その他、半導体レーザ素子、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子等から構成することもできる。そして、更には、各発光部は、一直線上に配置された複数の発光素子（発光ダイオード）から成る構成とすることができる。尚、複数の発光素子（発光ダイオード）が「一直線上に配置」されているには、複数の発光素子（発光ダイオード）が、厳密に一直線上に配置されている場合だけでなく、設計上あるいは製造上、一直線上から若干外れて配置されている場合も包含される。即ち、複数の発光素子（発光ダイオード）が、大凡、一直線上に配置されていることを意味する。発光ダイオードや半導体レーザ素子といった発光素子から発光部を構成する場合、発光素子の大きさ（例えばチップサイズ）は特に制限されないが、典型的には微小なものであり、具体的には、例えば１ｍｍ以下、あるいは、例えば０．３ｍｍ以下、あるいは、例えば０．１ｍｍ以下の大きさのものである。赤色を発光する発光素子、緑色を発光する発光素子及び青色を発光する発光素子として、例えば、窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体を用いるものを挙げることができ、赤色を発光する発光素子として、例えば、ＡｌＧａＩｎＰ系化合物半導体を用いるものを挙げることもできる。発光素子・表示装置における１画素（１ピクセル）を、第１発光素子、第２発光素子及び第３発光素子の組（発光ユニット）から構成する場合、第１発光素子、第２発光素子及び第３発光素子の配置状態に依っては、第１発光素子、第２発光素子及び第３発光素子の組（発光ユニット）を、１つの発光部とみなすことが望ましい場合がある。即ち、本開示の第１の態様あるいは第２の態様に係る表示装置にあっては、１つの発光ユニットから構成された１つの発光部に対応して、第２基板の第２面には、１つの発光ユニットから構成された１つの発光部からの光を透過させる１つの光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されている形態とすることができるし、本開示の第２の態様に係る表示装置にあっては、光不透過層に、１つの発光ユニットから構成された１つの発光部からの光を透過させる１つの第２の光透過部が設けられている形態とすることができる。

また、表示装置は、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の第１の態様〜第２の態様に係る表示装置が、複数、配列されて成るタイリング形式の表示装置とすることができる。そして、この場合、タイル毎に、異なる色又は模様を施した形態とすることができる。

以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の第１の態様〜第２の態様に係る表示装置（以下、これらを総称して、単に、『本開示の表示装置等』と呼ぶ場合がある）において、光透過抑制層や光不透過層は、隣接する画素間（あるいは副画素間）を跨がって形成されており、隙間は存在しない。

本開示の表示装置等において、第１基板あるいは第２基板として、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリイミド（ＰＩ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリオレフィンフィルムを例示することができるし、ガラス基板、ガラス基板にこれらの各種フィルムが貼り合わされたもの、ガラス基板上にポリイミド樹脂層、アクリル樹脂層、ポリスチレン樹脂層、シリコーンゴム層が形成されたものを例示することができる。また、第１基板にあっては、ガラス基板を、金属基板や金属シート、合金基板、合金シート、セラミックス基板、セラミックスシート、半導体基板、プラスチック基板、プラスチックシートに置き換えてもよい。更には、第１基板として、配線が形成されたプリント配線板（リジッドプリント配線板及びフレキシブルプリント配線板を含む）を挙げることができるし、これらの基板の表面に絶縁膜が形成されたものとすることもできる。

反射防止機能を有する光透過抑制層や、光不透過層を構成する材料として、カーボン、金属薄膜（例えば、クロム、ニッケル、アルミニウム、モリブデン等、あるいは、これらの合金）、金属酸化物（例えば、酸化クロム）、金属窒化物（例えば、窒化クロム）、耐熱性有機樹脂、ガラスペースト、黒色顔料や銀等の導電性粒子を含有するガラスペースト、黒色染料等の材料を挙げることができる。そして、これらの層は、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法とエッチング法との組合せ、真空蒸着法やスパッタリング法、スピンコーティング法とリフトオフ法との組合せ、インクジェット印刷法を含む各種印刷法、リソグラフィ技術等、使用する材料に依存して適宜選択された方法にて形成することができる。

反射防止層は、例えば、低屈折率（例えば、１．３５以下）を有する各種フッ素樹脂層や誘電体多層膜、メソポーラスシリカ膜、これらの複合膜から構成することができる。

模様が付された光透過抑制層を構成する材料として、模様を形成するのに適したインク、塗料等を挙げることができる。模様が付された光透過抑制層の表面には、耐久性や耐候性向上のために保護層を形成してもよい。模様には、絵、文字、ロゴ、記号、符号、印、標章、図案等が包含される。

あるいは又、上記の第２の目的を達成するための本開示の第３の態様に係る表示装置は、
第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第１基板、
第１基板と対向して配置され、第１基板の第２面と対向する第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第２基板、並びに、
第１基板の第２面に、第２基板と離間して設けられた複数の発光部、
を備えており、
第２基板の第２面側又は第１面側には、マイクロカプセル方式、電子粉流体方式、液晶方式、エレクトロウェッティング方式、電気泳動方式、化学変化方式若しくは電気泳動方式の電子ペーパー、又は、透明な液晶表示装置から成る模様表示装置が配されており、模様表示装置に模様を表示する。模様表示装置に模様を表示するときには、発光部において画像を表示しない。一方、発光部において画像を表示するときには、模様表示装置に模様を表示しない。

あるいは又、上記の第２の目的を達成するための本開示の第４の態様に係る表示装置は、
第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第１基板、
第１基板と対向して配置され、第１基板の第２面と対向する第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第２基板、並びに、
第１基板の第２面に、第２基板と離間して設けられた複数の発光部、
を備えており、
第２基板の第１面側には模様が形成されている。模様は、第２基板の第１面の下に位置する層の凹凸によって発現されている形態とすることができる。

表示装置の用途や機能、表示装置に要求される仕様等に応じて、表示装置を構成する発光部（例えば、発光素子）の数、種類、実装（配置）、間隔等が決められる。赤色を発光する発光素子、緑色を発光する発光素子及び青色を発光する発光素子から表示装置を構成すれば、カラー表示の発光素子・表示装置を得ることができる。カラー表示の発光素子・表示装置から表示装置を構成する場合、発光素子・表示装置における１画素（１ピクセル）は、第１発光素子、第２発光素子及び第３発光素子の組（発光ユニット）から構成されている。また、各発光素子によって副画素が構成される。そして、複数の発光ユニットが、第１の方向、及び、第１の方向と直交する第２の方向に２次元マトリクス状に配列されている。発光ユニットを構成する第１発光素子の数をＮ₁、発光ユニットを構成する第２発光素子の数をＮ₂、発光ユニットを構成する第３発光素子の数をＮ₃としたとき、Ｎ₁として１又は２以上の整数を挙げることができるし、Ｎ₂として１又は２以上の整数を挙げることができるし、Ｎ₃として１又は２以上の整数を挙げることができる。Ｎ₁とＮ₂とＮ₃の値は、等しくともよいし、異なっていてもよい。Ｎ₁，Ｎ₂，Ｎ₃の値が２以上の整数である場合、１つの発光ユニット内において、発光素子は直列に接続されていてもよいし、並列に接続されていてもよい。（Ｎ₁，Ｎ₂，Ｎ₃）の値の組合せとして、限定するものではないが、（１，１，１）、（１，２，１）、（２，２，２）、（２，４，２）を例示することができる。尚、前述したとおり、１つの発光ユニットを、１つの発光部とみなすこともでき、この場合、前述したとおり、本開示の第１の態様あるいは第２の態様に係る表示装置にあっては、１つの発光ユニットから構成された１つの発光部に対応して、第２基板の第２面には、１つの発光ユニットから構成された１つの発光部からの光を透過させる１つの光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されている形態とすることができるし、本開示の第２の態様に係る表示装置にあっては、光不透過層に、１つの発光ユニットから構成された１つの発光部からの光を透過させる１つの第２の光透過部が設けられている形態とすることができる。

実施例１は、本開示の第１の態様に係る表示装置に関する。実施例１の表示装置の模式的な一部断面図を図１Ａに示し、模式的な一部平面図を図１Ｂに示す。尚、図１Ａは、図１Ｂの矢印Ａ−Ａに沿った模式的な一部断面図である。実施例１の表示装置１０Ａ、あるいは、後述する実施例２〜実施例４における表示装置１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄは、
第１面１１Ａ、及び、この第１面１１Ａと対向する第２面１１Ｂを有する第１基板１１、
第１基板１１と対向して配置され、第１基板１１の第２面１１Ｂと対向する第１面１２Ａ、及び、この第１面１２Ａと対向する第２面１２Ｂを有する第２基板１２、並びに、
第１基板１１の第２面１１Ｂに、第２基板１２と離間して設けられた複数の発光部２０（２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ）、
を備えている。

そして、実施例１の表示装置１０Ａにあっては、各発光部２０に対応して、第２基板１２の第２面１２Ｂには、発光部２０からの光を透過させる光透過部３２が設けられた光透過抑制層３１が形成されており、光透過部３２には、反射防止層３３が形成されている。発光部２０からの光は、光透過部３２を通過して、外部に出射される。

ここで、実施例１における表示装置１０Ａにおいて、光透過抑制層３１は反射防止機能を有する。そして、これによって、高い耐久性を有し、しかも、充分なる低反射率を達成し得る構成、構造を有する表示装置を提供することができる。光透過抑制層３１は、反射防止層３３の正反射率と同程度の正反射率を有する。具体的には、限定するものではないが、
０≦（光透過抑制層の正反射率／反射防止層の正反射率）≦２
を満足する。

更には、実施例１の表示装置１０Ａにあっては、図１Ａに示すように、反射防止層３３は、光透過抑制層３１と第２基板１２の第２面１２Ｂとの間に延在している。あるいは又、図２Ａに示すように、反射防止層３３は光透過抑制層３１を覆っている。

また、第１基板１１と第２基板１２との間には、シリコーン樹脂から成る保護膜１３、及び、アクリル樹脂若しくはシリコーン樹脂から成る粘着剤層１４が設けられている。

実施例１にあっては、発光部２０を、発光ダイオードから成る発光素子から構成した。具体的には、表示装置１０Ａは発光素子・表示装置から構成され、発光素子・表示装置における１画素（１ピクセル）は、赤色を発光する第１発光素子２０Ｒ、緑色を発光する第２発光素子２０Ｇ及び青色を発光する第３発光素子２０Ｂの組（発光ユニット）から構成されている。各発光素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂによって副画素が構成される。そして、複数の発光ユニットが、第１の方向、及び、第１の方向と直交する第２の方向に２次元マトリクス状に配列されている。発光ユニットを構成する第１発光素子の数をＮ₁、発光ユニットを構成する第２発光素子の数をＮ₂、発光ユニットを構成する第３発光素子の数をＮ₃としたとき、（Ｎ₁，Ｎ₂，Ｎ₃）＝（１，１，１）としたが、これに限定するものではない。ここで、各実施例にあっては、第１発光素子２０Ｒ、第２発光素子２０Ｇ及び第３発光素子２０Ｂの組（発光ユニット）を、１つの発光部２０とみなす。そして、１つの発光ユニットから構成された１つの発光部２０に対応して、第２基板１２の第２面１２Ｂには、１つの発光ユニットから構成された１つの発光部２０からの光を透過させる１つの光透過部３２が設けられた光透過抑制層３１が形成されている。尚、光透過部３２の外形形状は、直径Ｄ₁の円形である。各発光素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの中心は正三角形の頂点に位置し、且つ、各発光素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂは円周上に配置されている。ここで、各発光素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂを包含する円を想定したとき、この円の直径をＤ₀とする。また、図１Ａ、図２Ａ、図３Ａ、図４Ａ、図４Ｂ、図５Ａ、図５Ｂ、図５Ｃ、図１２Ａ、図１２Ｂ、図１３においては、発光ユニットを、発光部２０として、ハッチングを付した矩形で示した。また、図１Ｂ、図３Ｂ、図６、図７、図８、図９、図１０においては、第１発光素子２０Ｒを円印の中に「Ｒ」を付して表し、第２発光素子２０Ｇを円印の中に「Ｇ」を付して表し、第３発光素子２０Ｂを円印の中に「Ｂ」を付して表し、各発光素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの中心を結ぶ円を点線で示す。

実施例１にあっては、第１基板１１を、配線（図示せず）が形成されたガラスエポキシプリント配線板から構成し、第２基板１２をポリオレフィンフィルムから構成した。また、光透過抑制層３１をカーボンを分散させた塗料（インク）が固化したものから構成し、インクジェット印刷法に基づき形成した。反射防止層３３をフッ素樹脂層から構成し、印刷法に基づき形成した。

光透過部の部分を拡大した模式的な一部断面図を、図２Ｂ、図２Ｃ、図２Ｄに示す。光透過抑制層３１の厚さは、同じ厚さであってもよいし（図１Ａ、図２Ａ参照）、一層広い視野角を達成するために、光透過部３２に近づく程、薄くしてもよい。具体的には、光透過抑制層３１の厚さの変化は、直線状の変化であってもよいし（図２Ｂ参照）、滑らかな曲線状の変化であってもよいし（図２Ｃ参照）、階段状の変化であってもよい（図２Ｄ参照）。光透過抑制層３１の厚さの制御は、例えば、インクジェット印刷法に基づく光透過抑制層３１の形成時、インクの吐出量を制御することで行うことができる。

また、光透過部３２の外形形状を直径Ｄ₁の円形とみなし、発光部２０を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部２０の頂面から光透過部３２までの距離をＬ₁とし、発光部２０から、光透過部３２が設けられた光透過抑制層３１に至るまでの光路（具体的には、保護膜１３、粘着剤層１４、第２基板１２及び反射防止層３３を通過する光路）の平均屈折率をｎ₁としたとき、
ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₁））≦（Ｄ₁−Ｄ₀）／（２・Ｌ₁）≦２
を満足する。発光部２０の中心及び光透過部３２の中心は、同じ軸線ＡＸ₁上にある。

以上のとおり、実施例１の表示装置にあっては、各発光部に対応して、第２基板の第２面には、発光部からの光を透過させる光透過部が設けられ、反射防止機能を有する光透過抑制層が形成されており、光透過部には、反射防止層が形成されているので、高い耐久性を有し、しかも、充分なる低正反射率を達成し得る表示装置を提供することができる。

実施例２は、本開示の第２の態様に係る表示装置に関する。実施例２の表示装置の模式的な一部断面図を図３Ａに示し、模式的な一部平面図を図３Ｂに示す。尚、図３Ａは、図３Ｂの矢印Ａ−Ａに沿った模式的な一部断面図である。実施例２の表示装置１０Ｂにあっては、
各発光部２０に対応して、第２基板１２の第２面１２Ｂには、発光部２０からの光を透過させる第１の光透過部３２が設けられた光透過抑制層３１が形成されており、第２基板１２の第１面側には、発光部２０からの光を透過させる第２の光透過部３５が設けられた光不透過層３４が形成されており、
第２の光透過部３５の面積は、第１の光透過部３２の面積よりも小さい（狭い）。ここで、第２基板１２の第１面側に光不透過層３４が形成されているが、具体的には、光不透過層３４は、第２基板１２の第１面上に形成されていてもよいし、発光部２０と第２基板１２の第１面との間の領域に形成されていてもよい。即ち、光不透過層３４は、図示したように、第２基板１２の第１面１２Ａ上に形成されていてもよいし、代替的に、保護膜１３上に形成されていてもよい（図５Ａ参照）。以下の説明においても、同様である。また、光不透過層３４には、赤色を発光する第１発光素子２０Ｒ、緑色を発光する第２発光素子２０Ｇ及び青色を発光する第３発光素子２０Ｂの１組（１つの発光ユニット）から構成された１つの発光部２０からの光を透過させる１つの第２の光透過部３５が設けられている。第２の光透過部３５の外形形状は、直径Ｄ₂の円形である。

実施例２において、光不透過層３４は液晶表示装置用のブラックマトリクス材料から構成されており、フォトリソグラフィ技術に基づき形成されている。実施例２においても、実施例１と同様に、光透過抑制層３１は反射防止機能を有する。また、光透過抑制層３１の厚さは、実施例１と同様に、同じ厚さであってもよいし（図３Ａ参照）、一層広い視野角を達成するために、第１の光透過部３２に近づく程、薄くしてもよい（図２Ｂ、図２Ｃ、図２Ｄ参照）。発光部２０からの光は、第２の光透過部３５、第１の光透過部３２を通過して、外部に出射される。光不透過層３４の厚さは、同じ厚さであってもよいし、一層広い視野角を達成するために、第２の光透過部３５に近づく程、薄くしてもよい。具体的には、光不透過層３４の厚さの変化は、直線状の変化であってもよいし、滑らかな曲線状の変化であってもよいし、階段状の変化であってもよい。光不透過層３４の厚さの制御は、例えば、インクジェット印刷法に基づく光不透過層３４の形成時、インクの吐出量を制御することで行うことができる。

尚、実施例１と同様に、第１の光透過部３２の外形形状を直径Ｄ₁の円形とみなし、発光部２０を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部２０の頂面から第１の光透過部３２までの距離をＬ₁とし、発光部２０から、光透過部３２が設けられた光透過抑制層３１に至るまでの光路（具体的には、図３Ａ、図５Ａに示す例にあっては、保護膜１３、粘着剤層１４及び第２基板１２を通過する光路、図４Ａ、図４Ｂ、図５Ｂ、図５Ｃに示す例にあっては、保護膜１３、粘着剤層１４、第２基板１２及び反射防止層３３を通過する光路）の平均屈折率をｎ₁としたとき、
ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₁））≦（Ｄ₁−Ｄ₀）／（２・Ｌ₁）≦２
を満足する。更には、第２の光透過部３５の外形形状を、直径Ｄ₂の円形とみなし、発光部２０を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部２０の頂面から第２の光透過部３５までの距離をＬ₂とし、発光部２０から、第２の光透過部３５が設けられた光不透過層３４に至るまで光路（具体的には、図３Ａ、図４Ａ、図４Ｂに示す例にあっては、保護膜１３及び粘着剤層１４を通過する光路、図５Ａ、図５Ｂ、図５Ｃに示す例にあっては、保護膜１３を通過する光路）の平均屈折率をｎ₂としたとき、
ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₂））≦（Ｄ₂−Ｄ₀）／（２・Ｌ₂）≦２
を満足する。発光部２０の中心、第１の光透過部の中心３２、及び、第２の光透過部３５の中心は、同じ軸線ＡＸ₂上にあり、第１の光透過部３２と第２の光透過部３５とは相似形である。

以上のとおり、実施例２の表示装置にあっては、各発光部に対応して、第２基板の第２面には、発光部からの光を透過させる第１の光透過部が設けられ、反射防止機能を有する光透過抑制層が形成されており、第２基板の第１面側には、発光部からの光を透過させる第２の光透過部が設けられた光不透過層が形成されており、第２の光透過部の面積は、第１の光透過部の面積よりも小さい（狭い）ので、高い耐久性を有し、しかも、充分なる低正反射率を達成し得る表示装置を提供することができる。

実施例３は、実施例１の変形であり、実施例１の表示装置１０Ａと実施例２の表示装置１０Ｂの組合せに関する。即ち、実施例３の表示装置１０Ｃは、模式的な一部断面図を図４Ａ、図５Ｂ、図５Ｃに示すように、実施例１の表示装置１０Ａの構成に加えて、
各発光部２０に対応して、第２基板１２の第１面側には、発光部２０からの光を透過させる第２の光透過部３５が設けられた光不透過層３４が形成されており、
第２の光透過部３５の面積は、光透過部３２の面積よりも小さい（狭い）。尚、図４Ａにあっては、光不透過層３４は、第２基板１２の第１面１２Ａ上に形成されている。一方、図５Ｂ、図５Ｃにあっては、光不透過層３４は、保護膜１３上に形成されている。

光不透過層３４、第２の光透過部３５の構成、構造等に関しては、実施例２において説明したと同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。

実施例４は、実施例１の変形である。模式的な一部平面図を図６、図７、図８、図９あるいは図１０に示す実施例４の表示装置１０Ｄにあっては、光透過抑制層４１に模様（例えば、「模様Ａ」及び「模様Ｂ」）が付されている。ここで、図６、図７、図８、図９及び図１０にあっては、図面の簡素化のため、模様Ａを、右上から左下に向かうハッチングで示し、模様Ｂを、左上から右下に向かうハッチングで示した。光透過抑制層４１は、印刷法、具体的には、例えば、インクジェット印刷法に基づき形成されている。絵、文字、ロゴ、記号、符号、印、標章、図案等を含む模様として、より具体的には、例えば、建築材の壁紙と同様の細かな周期パターン、好みの色（ワインレッド、紺碧、新緑等）、画素単位で２種類以上の微妙に異なる色とし、画素単位での模様の描画（市松等の幾何学模様や会社名ロゴ等）を挙げることができる。ここで、模様の形成ピッチは、発光部２０の配置ピッチの整数倍であり（図６、図７参照）、あるいは又、等倍であり（図８、図９参照）、あるいは又、整数分の一である（図１０参照）。図６と図７、図８と図９では、模様は、発光部の配置ピッチの半分だけずれている。また、図６、図７、図８、図９、図１０において、副画素と副画素の境界を点線で示し、模様と模様の境界を点線及び／又は一点鎖線で示す。

このような光透過抑制層４１に模様が付されている形態を、実施例２の表示装置１０Ｂ、実施例３の表示装置１０Ｃに適用することができる。即ち、実施例２、実施例３の光透過抑制層３１を光透過抑制層４１に置き換えればよい。

このように光透過抑制層に模様を付すことで、表示装置が画像を表示していないとき、即ち、表示装置が動作していないとき、表示装置が配置された環境（例えば、家庭の居間等）に好ましい印象を与えることができる。従来の表示装置の最表面が黒色の表示装置では、このような顧客の要求に応えることができない。また、従来の液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置においては画素面積の殆どを発光部が占めているため、模様を施すことが極めて困難である。また、より自由度の高い印刷を行うためには表示装置の最表面への印刷が望ましいが、表示装置の最表面には印刷することができる領域が殆ど無い。一方、実施例４の発光素子・表示装置にあっては、発光部を第２基板の第２面に射影したときの面積は小さく（狭く）、第２基板の第２面を占める光透過抑制層４１の面積が大きい（広い）ので、模様を付与する余地が充分に有る。

実施例５は、実施例１〜実施例４の変形であり、概念図を図１１に示すように、実施例５の表示装置１０Ｅは、実施例１〜実施例４において説明した表示装置１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄが、表示装置ユニットとして、複数、配列されて成る（具体的には、２次元マトリクス状に、タイル状に配列されて成る）タイリング形式の表示装置である。尚、図１１においては、表示装置ユニットを構成する表示装置１０Ａが隙間を開けた状態で配置されているように図示しているが、実際には、隙間が無い状態で配置されている。この点を除き、実施例５の表示装置１０Ｅを構成する表示装置ユニットは、実施例１〜実施例４の表示装置１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄと同様の構成、構造を有するので、詳細な説明は省略する。このように、実施例１〜実施例４の表示装置を適用すれば、タイル状の斑、表示装置ユニットの目地、表示装置ユニット間の隙間、外光反射、表示装置ユニットのうねり等を目立たなくさせることができる。尚、タイル毎に（即ち、表示装置ユニット毎に、あるいは又、表示装置ユニットの集合体毎に）、異なる色又は模様を施してもよい。

実施例６は、本開示の第３の態様に係る表示装置に関する。概念図を図１２Ａあるいは図１２Ｂに示すように、実施例６の表示装置１０Ｆは、
第１面１１Ａ、及び、この第１面１１Ａと対向する第２面１１Ｂを有する第１基板１１、
第１基板１１と対向して配置され、第１基板１１の第２面１１Ｂと対向する第１面１２Ａ、及び、この第１面１２Ａと対向する第２面１２Ｂを有する第２基板１２、並びに、
第１基板１１の第２面１１Ｂに、第２基板１２と離間して設けられた複数の発光部２０、
を備えており、
第２基板１２の第２面側（図１２Ａ参照）又は第１面側(図１２Ｂ参照）には、マイクロカプセル方式、電子粉流体方式、液晶方式、エレクトロウェッティング方式、電気泳動方式、化学変化方式若しくは電気泳動方式の電子ペーパー、又は、透明な液晶表示装置から成る模様表示装置５１が配されており、模様表示装置５１に模様を表示する。模様表示装置５１に模様を表示するときには、発光部２０において画像を表示しない。一方、発光部２０において画像を表示するときには、模様表示装置５１に模様を表示しない。模様表示装置５１を構成する電子ペーパー又は液晶表示装置は、周知の構成、構造を有する電子ペーパー又は液晶表示装置から構成すればよいので、詳細な説明は省略する。模様表示装置５１における画素の形成ピッチは、発光部の配置ピッチの整数倍、等倍又は整数分の一とすればよい。尚、模様表示装置５１を概念的に図示している。

第１基板１１、第２基板１２、発光部２０の構成、構造は、実施例１において説明した表示装置の第１基板１１、第２基板１２、発光部２０の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。

実施例７は、本開示の第４の態様に係る表示装置に関する。概念図を図１３に示すように、実施例７の表示装置１０Ｇは、
第１面１１Ａ、及び、この第１面１１Ａと対向する第２面１１Ｂを有する第１基板１１、
第１基板１１と対向して配置され、第１基板１１の第２面１１Ｂと対向する第１面１２Ａ、及び、この第１面１２Ａと対向する第２面１２Ｂを有する第２基板１２、並びに、
第１基板１１の第２面に、第２基板１２と離間して設けられた複数の発光部２０、
を備えており、
第２基板１２の第１面側には模様が形成されている。具体的には、模様は、第２基板１２の第１面１２Ａの下に位置する層（具体的には、保護膜１３）の凹凸５２によって発現されている。発光部２０からの光は、光透過部５３を通過して、外部に出射される。

実施例８においては、赤色を発光する第１発光素子２０Ｒ、緑色を発光する第２発光素子２０Ｇ及び青色を発光する第３発光素子２０Ｂの組（発光ユニット）から構成された表示装置の組み立て方法の概要を、図１４Ａ、図１４Ｂ、図１４Ｃ、図１４Ｄ、図１５Ａ、図１５Ｂ、図１６Ａ、図１６Ｂ、図１６Ｃを参照して説明する。但し、表示装置の組み立て方法は、以下に説明する方法に限定するものではない。

［工程−８００］
先ず、周知の方法に基づき、発光素子製造用基板７０の第１面７０Ａの上に、第１化合物半導体層６１、化合物半導体から成る活性層６３、及び、第２化合物半導体層６２から成る積層構造体６０を、例えば、ＭＯＣＶＤ法に基づき形成し、更に、積層構造体６０上に第２電極６５を形成する。尚、積層構造体６０を構成する第１化合物半導体層６１、活性層６３、及び、第２化合物半導体層６２、並びに、第２電極６５の組成、構成、構造は、発光素子に要求される仕様に基づき決定すればよい。次いで、素子分離のために、第２電極６５、積層構造体６０を、例えば、エッチングし、あるいは、ミーリングする。こうして、図１４Ａに示すように、第２電極が形成され、素子分離された積層構造体６０を得ることができる。尚、以降の図面においては、第２電極６５の図示を省略する場合がある。

［工程−８１０］
未硬化の接着剤層７２が全面に形成された支持基板７１を準備する。そして、未硬化の接着剤層７２と、積層構造体６０の第２化合物半導体層６２とを接触させ、接着剤層７２を硬化させることで、積層構造体６０を支持基板７１に貼り合わせる（図１４Ｂ参照）。その後、発光素子製造用基板７０を裏面７０Ｂからラッピング法やＣＭＰ法によって薄くする。ラッピングの場合、更に、アンモニア水、過酸化水素水の混合溶液にてエッチングすることで、発光素子製造用基板７０を除去する。次いで、リフトオフ法と真空蒸着法にて第１電極６４を第１化合物半導体層６１上に形成する。こうして、図１４Ｃに示す構造を得ることができる。尚、［工程−８００］においては素子分離を行わず、［工程−８１０］において素子分離を行ってもよい。

［工程−８２０］
未硬化の接着剤６７が積層構造体６０を固定すべき部分に形成され、且つ、パッド部６６が形成されたパッド部形成基板７３を準備する（図１４Ｄ参照）。パッド部６６は、パッド部形成基板７３の表面に形成された剥離層７４の上に形成されている。そして、未硬化の接着剤６７と、積層構造体６０（具体的には、第１化合物半導体層６１）とを接触させ、例えば、エキシマレーザを接着剤層７２に照射することでレーザ・アブレージョンを生じさせ、積層構造体６０を支持基板７１から除去した後、接着剤６７を硬化させる。こうして、図１５Ａに示すように、パッド部形成基板７３上に、接着剤６７によって積層構造体６０が固定された構造（発光素子チップ２１）を得ることができる。その後、第１電極６４と第１パッド部４０Ａとをメッキ法によって電気的に接続する。

［工程−８３０］
次いで、積層構造体６０から第２パッド部６６Ｂの一部の上に亙り、犠牲層７５を形成する（図１５Ｂ参照）。積層構造体６０の第２化合物半導体層６２の一部分の上には、犠牲層７５は形成されていない。

［工程−８４０］
次に、第２電極６５から犠牲層７５、第２パッド部６６Ｂの上に亙り、配線層６８を形成する（図１６Ａ参照）。配線層６８は、下地層の形成、及び、下地層上での配線層６８のメッキ法（具体的には、電解メッキ法）に基づく形成によって得られる。尚、配線層６８の形成をセミアディティブ法に基づき行うこともできる。具体的には、全面にスパッタリング法に基づき、厚さ５０ｎｍのチタン（Ｔｉ）層及び厚さ２００ｎｍの銅（Ｃｕ）層を順次形成することで、下地層を得ることができる。次いで、配線層６８を形成しない領域を覆うレジストマスクを形成し、電解メッキ法に基づき、レジストマスクで覆われていない下地層の部分の上に、厚さ２μｍの銅層から成る配線層６８を形成する。その後、レジストマスクを除去し、更に、下地層をソフト・エッチングによって除去した後、犠牲層７５を除去することで、第２電極６５と第２パッド部６６Ｂとが配線層６８で接続された構造を有する発光素子２０’を得ることができる（図１６Ｂ参照）。

［工程−８５０］
その後、発光素子２０’をモールド材料を用いてモールドすることで、発光素子２０’をモールドしたモールド部２２を得ることができる（図１６Ｃ参照）。

［工程−８６０］
接着層が全面に形成された中継基板を準備する。そして、接着層とモールド部２２とを接触させ、接着層にモールド部２２を付着させる。その後、エキシマレーザを剥離層７４に照射することでレーザ・アブレージョンを生じさせ、発光素子２０’からパッド部形成基板７３を除去する。その後、中継基板上の発光素子２０’のパッド部６６を第１基板１１に設けられた配線に電気的に接続し、中継基板を周知の方法で除去する。こうして、第１基板１１に発光部２０（発光素子２０’）が取り付けられた構造を得ることができる。

より具体的には、赤色を発光する第１発光部が多数、配されたパッド部形成基板から、中継基板の所定の位置に第１発光部を転写する。また、緑色を発光する第２発光部が多数、配されたパッド部形成基板から、この中継基板の所定の位置に第２発光部を転写する。更には、青色を発光する第３発光部が多数、配されたパッド部形成基板から、この中継基板の所定の位置に第３発光部を転写する。こうして、中継基板の所望の位置に、第１発光部、第２発光部及び第３発光部の組（発光ユニット）を配置することができる。そして、中継基板上の発光ユニットを構成する各発光素子２０’のパッド部６６を第１基板１１に設けられた配線に電気的に接続し、中継基板を周知の方法で除去する。こうして、第１基板１１に発光部２０（発光素子２０’）が取り付けられた構造を得ることができる。尚、１画素（１ピクセル）は、第１発光部、第２発光部及び第３発光部の組（発光ユニット）から構成されている。また、各発光部によって副画素が構成されている。そして、複数の発光ユニットが、第１の方向、及び、第１の方向と直交する第２の方向に２次元マトリクス状に配列されている。

［工程−８７０］
その後、第１基板１１の第２面側に、周知の方法で保護膜１３を形成する。

［工程−８８０］
例えば、実施例１の表示装置の製造にあっては、光透過抑制層３１や反射防止層３３が形成された第２基板１２を準備し、粘着剤層１４を介して、第１基板１１と第２基板１２の第１面１２Ａとを貼り合わせる。また、実施例２や実施例３の表示装置を製造する場合には、保護膜１３の上に光不透過層３４を形成した後、光透過抑制層３１等が形成された第２基板１２の第１面１２Ａと、第１基板１１とを、粘着剤層１４を介して貼り合わせる。あるいは又、実施例２や実施例３の表示装置を製造する場合には、光透過抑制層３１等が第２面１２Ｂに形成され、光不透過層３４が第１面１２Ａに形成された第２基板１２の第１面１２Ａと、第１基板１１とを、粘着剤層１４を介して貼り合わせる。

以上、本開示を好ましい実施例に基づき説明したが、本開示はこれらの実施例に限定するものではない。実施例において説明した表示装置、発光部、並びに、係る発光部が組み込まれた発光素子・表示装置の構成、構造は例示であるし、これらを構成する部材、材料等も例示であり、適宜、変更することができる。

発光ユニットを構成する発光部として、第１発光部、第２発光部、第３発光部に、更に、第４発光部、第５発光部・・・を加えてもよい。これらの発光部によって副画素が構成され、発光ユニットによって１画素が構成される。このような例として、例えば、輝度向上のために白色光を発光する副画素を加えた発光ユニット、色再現範囲を拡大するために補色を発光する副画素を加えた発光ユニット、色再現範囲を拡大するためにイエローを発光する副画素を加えた発光ユニット、色再現範囲を拡大するためにイエロー及びシアンを発光する副画素を加えた発光ユニットを挙げることができる。発光部が４つ以上の発光素子から構成されている場合、全ての発光素子を包含する円を想定し、この円の直径をＤ₀とすればよい。あるいは又、発光部が４つ以上の発光素子から構成されており、しかも、一直線上に位置していない場合、発光部においてより外側に位置する３つの発光素子の中心を結ぶ円を想定し、この円の直径をＤ₀とすればよい。

図１Ａ、図１Ｂに示した実施例１の表示装置の変形例を、図１７Ａ、図１７Ｂに示し、図３Ａ、図３Ｂに示した実施例２の表示装置の変形例を、図１８Ａ、図１８Ｂに示す。これらの変形例にあっては、１つの発光部は１つの発光素子から構成されている。尚、このような構成を、実施例３〜実施例８にも適用することができる。

また、実施例においては、各発光素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの中心が円周上に配置されているとしたが、各発光素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの配置はこれに限定するものではない。例えば、実施例１の表示装置における各発光素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの配置の変形例を図１９に示し、実施例２の表示装置における各発光素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの配置の変形例を図２０及び図２１に示す。尚、図２１において、第２の光透過部３５の平面形状は矩形である。これらの変形例にあっては、各発光素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの中心が一直線上に配置されている。そして、これらの場合、全ての発光素子を包含する円を想定し、この円の直径をＤ₀とすればよい。あるいは又、最も外側に位置する２つ発光素子２０Ｇ，２０Ｂの中心を結ぶ線分を想定し、この線分を直径とする円の直径をＤ₀とすればよい。

表示装置の動作時、即ち、発光部の動作時（発光部の点灯時）、模様をキャンセルする画像を重畳してもよい。何らの処理を行わない場合、発光部における表示画像の輝度と模様に伴う輝度とが認識され、模様が重畳された画像が認識される。ここで、元の表示画像から、模様の輝度に相当する輝度（便宜上、『信号処理後の輝度』と呼ぶ）を減じた画像を表示することで、即ち、元の表示画像を表示する信号から模様の輝度に対応した信号を減じることで、
（元の画像表示における輝度）＋（模様に伴う輝度）−（信号処理後の輝度）
＝（元の画像表示における輝度）
となる。それ故、発光部の動作時（発光部の点灯時）、模様をキャンセルすることができる。このような信号処理は、周知の信号処理に基づき行うことができるし、信号処理回路は、周知の信号処理回路とすることができる。尚、実際には、模様に伴う輝度は、照明や外光によって異なる場合がある。それ故、元の表示画像から模様の輝度を減じるとき、表示装置の設置環境に依存した係数を「処理後の輝度」に対して乗ずる必要がある場合がある。

尚、本開示は、以下のような構成を取ることもできる。
［Ａ０１］《表示装置：第１の態様》
第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第１基板、
第１基板と対向して配置され、第１基板の第２面と対向する第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第２基板、並びに、
第１基板の第２面に、第２基板と離間して設けられた複数の発光部、
を備えており、
各発光部に対応して、第２基板の第２面には、発光部からの光を透過させる光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されており、
光透過部には、反射防止層が形成されている表示装置。
［Ａ０２］光透過抑制層は、反射防止機能を有する［Ａ０１］に記載の表示装置。
［Ａ０３］光透過抑制層は、反射防止層の正反射率と同程度の正反射率を有する［Ａ０１］又は［Ａ０２］に記載の表示装置。
［Ａ０４］反射防止層は、光透過抑制層と第２基板の第２面との間に延在している［Ａ０１］乃至［Ａ０３］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ａ０５］反射防止層は、光透過抑制層を覆っている［Ａ０１］乃至［Ａ０３］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ａ０６］光透過抑制層には模様が付されている［Ａ０１］に記載の表示装置。
［Ａ０７］模様の形成ピッチは、発光部の配置ピッチの整数倍、等倍又は整数分の一である［Ａ０６］に記載の表示装置。
［Ａ０８］光透過抑制層の厚さは、光透過部に近づく程、薄い［Ａ０１］乃至［Ａ０７］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ａ０９］光透過部の外形形状を、直径Ｄ₁の円形とみなし、
発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部の頂面から光透過部までの距離をＬ₁とし、
発光部から、光透過部が設けられた光透過抑制層に至るまでの光路の平均屈折率をｎ₁としたとき、
ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₁））≦（Ｄ₁−Ｄ₀）／（２・Ｌ₁）≦２
を満足する［Ａ０１］乃至［Ａ０８］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ａ１０］発光部の中心及び光透過部の中心は、同じ軸線上にある［Ａ０９］に記載の表示装置。
［Ａ１１］各発光部に対応して、第２基板の第１面側には、発光部からの光を透過させる第２の光透過部が設けられた光不透過層が形成されており、
第２の光透過部の面積は、光透過部の面積よりも小さい［Ａ０１］乃至［Ａ１０］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ａ１２］第２の光透過部の外形形状を、直径Ｄ₂の円形とみなし、
発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部の頂面から第２の光透過部までの距離をＬ₂とし、
発光部から、第２の光透過部が設けられた光不透過層に至るまで光路の平均屈折率をｎ₂としたとき、
ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₂））≦（Ｄ₂−Ｄ₀）／（２・Ｌ₂）≦２
を満足する［Ａ１１］に記載の表示装置。
［Ａ１３］発光部の中心、光透過部の中心、及び、第２の光透過部の中心は、同じ軸線上にあり、
光透過部と第２の光透過部とは相似形である［Ａ１２］に記載の表示装置。
［Ｂ０１］《表示装置：第２の態様》
第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第１基板、
第１基板と対向して配置され、第１基板の第２面と対向する第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第２基板、並びに、
第１基板の第２面に、第２基板と離間して設けられた複数の発光部、
を備えており、
各発光部に対応して、第２基板の第２面には、発光部からの光を透過させる第１の光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されており、第２基板の第１面側には、発光部からの光を透過させる第２の光透過部が設けられた光不透過層が形成されており、
第２の光透過部の面積は、第１の光透過部の面積よりも小さい表示装置。
［Ｂ０２］光透過抑制層は、反射防止機能を有する［Ｂ０１］に記載の表示装置。
［Ｂ０３］光透過抑制層には模様が付されている［Ｂ０１］に記載の表示装置。
［Ｂ０４］模様の形成ピッチは、発光部の配置ピッチの整数倍、等倍又は整数分の一である［Ｂ０３］に記載の表示装置。
［Ｂ０５］光透過抑制層の厚さは、第１の光透過部に近づく程、薄い［Ｂ０１］乃至［Ｂ０４］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｂ０６］第１の光透過部の外形形状を、直径Ｄ₁の円形とみなし、
発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部の頂面から第１の光透過部までの距離をＬ₁とし、
発光部から、光透過部が設けられた光透過抑制層に至るまでの光路の平均屈折率をｎ₁としたとき、
ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₁））≦（Ｄ₁−Ｄ₀）／（２・Ｌ₁）≦２
を満足する［Ｂ０１］乃至［Ｂ０５］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｂ０７］第２の光透過部の外形形状を、直径Ｄ₂の円形とみなし、
発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部の頂面から第２の光透過部までの距離をＬ₂とし、
発光部から、第２の光透過部が設けられた光不透過層に至るまで光路の平均屈折率をｎ₂としたとき、
ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₂））≦（Ｄ₂−Ｄ₀）／（２・Ｌ₂）≦２
を満足する［Ｂ０６］に記載の表示装置。
［Ｂ０８］発光部の中心、第１の光透過部の中心、及び、第２の光透過部の中心は、同じ軸線上にあり、
第１の光透過部と第２の光透過部とは相似形である［Ｂ０６］又は［Ｂ０７］に記載の表示装置。
［Ｂ０９］第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第１基板、
第１基板と対向して配置され、第１基板の第２面と対向する第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第２基板、並びに、
第１基板の第２面に、第２基板と離間して設けられた複数の発光部、
を備えており、
第２基板の第２面側又は第１面側には模様表示装置が配されており、模様表示装置に模様を表示する表示装置。
［Ｂ１０］模様表示装置は、電子ペーパー、又は、透明な液晶表示装置から成る［Ｂ０９］に記載の表示装置。
［Ｂ１１］模様表示装置に模様を表示するときには、発光部において画像を表示せず、発光部において画像を表示するときには、模様表示装置に模様を表示しない［Ｂ０９］又は［Ｂ１０］に記載の表示装置。
［Ｂ１２］第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第１基板、
第１基板と対向して配置され、第１基板の第２面と対向する第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第２基板、並びに、
第１基板の第２面に、第２基板と離間して設けられた複数の発光部、
を備えており、
第２基板の第１面側には模様が形成されている表示装置。
［Ｂ１３］模様は、第２基板の第１面の下に位置する層の凹凸によって発現される［Ｂ１２］に記載の表示装置。
［Ｃ０１］発光部は、発光ダイオードから成る［Ａ０１］乃至［Ｂ１３］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｃ０２］各発光部は、一直線上に配置された複数の発光ダイオードから成る［Ａ０１］乃至［Ｂ１３］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｃ０３］［Ａ０１］乃至［Ｃ０２］のいずれか１項に記載の表示装置が、複数、配列されて成るタイリング形式の表示装置。
［Ｃ０４］タイル毎に、異なる色又は模様を施した［Ｃ０３］に記載のタイリング形式の表示装置。

１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ，１０Ｆ，１０Ｇ・・・表示装置、１１・・・第１基板、１１Ａ・・・第１基板の第１面、１１Ｂ・・・第１基板の第２面、１２・・・第２基板、１２Ａ・・・第２基板の第１面、１２Ｂ・・・第２基板の第２面、１３・・・保護膜、１４・・・粘着剤層、２０・・・発光部、２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ，２０’・・・発光素子、２１・・・発光素子チップ、２２・・・モールド部、３１，４１・・・光透過抑制層、３２・・・光透過部（第１の光透過部）、３３・・・反射防止層、３４・・・光不透過層、３５・・・第２の光透過部、５１・・・模様表示装置、５２・・・保護膜の凹凸、５３・・・光透過部、充填層、６０・・・積層構造体、６１・・・第１化合物半導体層、６２・・・第２化合物半導体層、６３・・・活性層、６４・・・第１電極、６５・・・第２電極、６６・・・パッド部、６６Ａ・・・第１パッド部、６６Ｂ・・・第２パッド部、６７・・・接着剤、６８・・・配線層、７０・・・発光素子製造用基板、７０Ａ・・・発光素子製造用基板の第１面、７０Ｂ・・・発光素子製造用基板の裏面、７１・・・支持基板、７２・・・接着剤層、７３・・・パッド部形成基板、７４・・・剥離層

Claims (21)

1. 第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第１基板、
   第１基板と対向して配置され、第１基板の第２面と対向する第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第２基板、並びに、
   第１基板の第２面に、第２基板と離間して設けられた複数の発光部、
   を備えており、
   各発光部に対応して、第２基板の第２面には、発光部からの光を透過させる光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されており、
   光透過部には、反射防止層が形成されている表示装置。
2. 光透過抑制層は、反射防止機能を有する請求項１に記載の表示装置。
3. 反射防止層は、光透過抑制層と第２基板の第２面との間に延在している請求項１に記載の表示装置。
4. 反射防止層は、光透過抑制層を覆っている請求項１に記載の表示装置。
5. 光透過抑制層には模様が付されている請求項１に記載の表示装置。
6. 模様の形成ピッチは、発光部の配置ピッチの整数倍、等倍又は整数分の一である請求項５に記載の表示装置。
7. 光透過抑制層の厚さは、光透過部に近づく程、薄い請求項１に記載の表示装置。
8. 光透過部の外形形状を、直径Ｄ₁の円形とみなし、
   発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部の頂面から光透過部までの距離をＬ₁とし、
   発光部から、光透過部が設けられた光透過抑制層に至るまでの光路の平均屈折率をｎ₁としたとき、
   ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₁））≦（Ｄ₁−Ｄ₀）／（２・Ｌ₁）≦２
   を満足する請求項１に記載の表示装置。
9. 各発光部に対応して、第２基板の第１面側には、発光部からの光を透過させる第２の光透過部が設けられた光不透過層が形成されており、
   第２の光透過部の面積は、光透過部の面積よりも小さい請求項１に記載の表示装置。
10. 第２の光透過部の外形形状を、直径Ｄ₂の円形とみなし、
    発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部の頂面から第２の光透過部までの距離をＬ₂とし、
    発光部から、第２の光透過部が設けられた光不透過層に至るまで光路の平均屈折率をｎ₂としたとき、
    ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₂））≦（Ｄ₂−Ｄ₀）／（２・Ｌ₂）≦２
    を満足する請求項９に記載の表示装置。
11. 第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第１基板、
    第１基板と対向して配置され、第１基板の第２面と対向する第１面、及び、該第１面と対向する第２面を有する第２基板、並びに、
    第１基板の第２面に、第２基板と離間して設けられた複数の発光部、
    を備えており、
    各発光部に対応して、第２基板の第２面には、発光部からの光を透過させる第１の光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されており、第２基板の第１面側には、発光部からの光を透過させる第２の光透過部が設けられた光不透過層が形成されており、
    第２の光透過部の面積は、第１の光透過部の面積よりも小さい表示装置。
12. 光透過抑制層は、反射防止機能を有する請求項１１に記載の表示装置。
13. 光透過抑制層には模様が付されている請求項１１に記載の表示装置。
14. 模様の形成ピッチは、発光部の配置ピッチの整数倍、等倍又は整数分の一である請求項１３に記載の表示装置。
15. 光透過抑制層の厚さは、第１の光透過部に近づく程、薄い請求項１１に記載の表示装置。
16. 第１の光透過部の外形形状を、直径Ｄ₁の円形とみなし、
    発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部の頂面から第１の光透過部までの距離をＬ₁とし、
    発光部から、光透過部が設けられた光透過抑制層に至るまでの光路の平均屈折率をｎ₁としたとき、
    ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₁））≦（Ｄ₁−Ｄ₀）／（２・Ｌ₁）≦２
    を満足する請求項１１に記載の表示装置。
17. 第２の光透過部の外形形状を、直径Ｄ₂の円形とみなし、
    発光部を直径Ｄ₀の円形とみなし、発光部の頂面から第２の光透過部までの距離をＬ₂とし、
    発光部から、第２の光透過部が設けられた光不透過層に至るまで光路の平均屈折率をｎ₂としたとき、
    ｔａｎ（ｓｉｎ^-1（１／ｎ₂））≦（Ｄ₂−Ｄ₀）／（２・Ｌ₂）≦２
    を満足する請求項１６に記載の表示装置。
18. 発光部は、発光ダイオードから成る請求項１又は請求項１１に記載の表示装置。
19. 各発光部は、一直線上に配置された複数の発光ダイオードから成る請求項１８に記載の表示装置。
20. 請求項１乃至請求項１９のいずれか１項に記載の表示装置が、複数、配列されて成るタイリング形式の表示装置。
21. タイル毎に、異なる色又は模様を施した請求項２０に記載のタイリング形式の表示装置。

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