JP2014208628A - ニトリル化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]式(1)
(式中、R1はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。)
で示される化合物と式(2)
(式中、R2は炭素数1〜6のアルキル基を表す。)
で示される化合物と式(3)
(式中、R3、R4及びR5はそれぞれ独立して炭素数1〜20のアルキル基を表し、R6は炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよいベンジル基を表し、R7はそれぞれ独立して炭素数1〜20のアルキル基を表す。)
で示される化合物とを反応させる式(4)
(式中、R1及びR2は上記と同じ意味を表す。)
で示されるニトリル化合物の製造方法。
[2] R6が、炭素数1〜20のアルキル基又はベンジル基である[1]に記載の製造方法。
[3]式(5)
(式中、R3、R4、R5及びR6は上記と同じ意味を表す。X−は水酸化物イオン及びアルコキシドイオンを除く1価の陰イオンを表す。)
で示される化合物と式(6)
(式中、R7は上記と同じ意味を表す。M+はアルカリ金属イオンを表す。)
で示される化合物とを反応させて、式(3)で示される化合物を得、得られた式(3)で示される化合物と式(1)で示される化合物と式(2)で示される化合物とを反応させる[1]又は[2]記載の製造方法。
[4]式(5)
(式中、R3、R4、R5及びR6は上記と同じ意味を表す。X−は水酸化物イオン及びアルコキシドイオンを除く1価の陰イオンを表す。)
で示される化合物と式(7)
(式中、M+はアルカリ金属イオンを表す。)
で示される化合物と式(8)
(式中、R7は上記と同じ意味を表す。)
で示される化合物とを反応させて、式(3)で示される化合物を得、得られた式(3)で示される化合物と式(1)で示される化合物と式(2)で示される化合物とを反応させる[1]又は[2]に記載の製造方法。
[5]式(5)で示される化合物と式(7)で示される化合物と式(8)で示される化合物とを非水系で反応させる[4]に記載の製造方法。
[6]式(5)
(式中、R3、R4、R5及びR6は上記と同じ意味を表す。X−は水酸化物イオン及びアルコキシドイオンを除く1価の陰イオンを表す。)
で示される化合物と式(7)
(式中、M+はアルカリ金属イオンを表す。)
で示される化合物とを混合し、得られた混合物に、式(8)
(式中、R7は上記と同じ意味を表す。)
で示される化合物を混合して、式(3)で示される化合物を得、得られた式(3)で示される化合物と式(1)で示される化合物と式(2)で示される化合物とを反応させる[1]又は[2]に記載の製造方法。
[7]式(7)
(式中、M+はアルカリ金属イオンを表す。)
で示される化合物と式(8)
(式中、R7は上記と同じ意味を表す。)
で示される化合物とを反応させて、式(6)
(式中、R7は上記と同じ意味を表す。M+はアルカリ金属イオンを表す。)
で示される化合物を得、得られた(6)で示される化合物と式(5)
(式中、R3、R4、R5及びR6は上記と同じ意味を表す。X−は水酸化物イオン及びアルコキシドイオンを除く1価の陰イオンを表す。)
で示される化合物とを反応させて、式(3)で示される化合物を得、得られた式(3)で示される化合物と式(1)で示される化合物と式(2)で示される化合物とを反応させる[1]又は[2]に記載の製造方法。
R1で示される炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基であり、より好ましくは、メチル基である。該アルキル基は、ハロゲン原子を有していてもよい。
R1は、好ましくはハロゲン原子を有する炭素数1〜6のアルキル基である。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられ、好ましくは、フッ素原子である。
クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、1,1,2,2,2−ペンタクロロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、1,1−ジクロロエチル基、1,1,2,2,3,3,3−ヘプタクロロプロピル基、1,1−ジクロロプロピル基、2,2−ジクロロプロピル基、3,3,3−トリクロロプロピル基、1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナクロロブチル基、1,1−ジクロロブチル基、2,2―ジクロロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,5−ウンデカクロロペンチル基、3,3,4,4,4−ペンタクロロプロピル基、3−(トリクロロメチル)−3,4,4,4−ペンタクロロブチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナクロロヘキシル基、1,1−ジクロロペンチル基及び2,2−ジクロロペンチル基等の塩素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基:
ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、1,1,2,2,2−ペンタブロモエチル基、2,2,2−トリブロモエチル基、1,1−ジブロモエチル基、1,1,2,2,3,3,3−ヘプタブロモプロピル基、1,1−ジブロモプロピル基、2,2−ジブロモプロピル基、3,3,3−トリブロモプロピル基、1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナブロモブチル基、1,1−ジブロモブチル基、2,2―ジブロモブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,5−ウンデカブロモペンチル基、3,3,4,4,4−ペンタブロモプロピル基、3−(トリブロモメチル)−3,4,4,4−ペンタブロモブチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナブロモヘキシル基、1,1−ジブロモペンチル基及び2,2−ジブロモペンチル基等の臭素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基:
ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、1,1,2,2,2−ペンタヨードエチル基、2,2,2−トリヨードエチル基、1,1−ジヨードエチル基、1,1,2,2,3,3,3−ヘプタヨードプロピル基、1,1−ジヨードプロピル基、2,2−ジヨードプロピル基、3,3,3−トリヨードプロピル基、1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナヨードブチル基、1,1−ジヨードブチル基、2,2―ジヨードブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,5−ウンデカヨードペンチル基、3,3,4,4,4−ペンタヨードプロピル基、3−(トリヨードメチル)−3,4,4,4−ペンタヨードブチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナヨードヘキシル基、1,1−ジヨードペンチル基及び2,2−ジヨードペンチル基等のヨウ素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基:
2,2−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロプロピル基、2−ブロモ−3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,3−ジブロモ−3,3−ジフルオロプロピル基、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピル基、1−ブロモ−1,3,3,3−テトラフルオロプロピル基、1−ブロモ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1,3−ジブロモ−2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、3−ブロモ−2,3,3−トリフルオロプロピル基、3−ブロモ−2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,3−ジブロモ−2,3,3−トリフルオロプロピル基及び3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピル基等のフッ素原子及び臭素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基:
2,2−ジヨード−3,3,3−トリフルオロプロピル基、2−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,3−ジヨード−3,3−ジフルオロプロピル基、3−ヨード−3,3−ジフルオロプロピル基、1−ヨード−1,3,3,3−テトラフルオロプロピル基、1−ヨード−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1,3−ジヨード−2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、3−ヨード−2,3,3−トリフルオロプロピル基、3−ヨード−2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,3−ジヨード−2,3,3−トリフルオロプロピル基及び3−ヨード−3,3−ジフルオロプロピル基等のフッ素原子及びヨウ素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基:
2,2−ジブロモ−3,3,3−トリクロロプロピル基、2−ブロモ−3,3,3−トリクロロプロピル基、2,3−ジブロモ−3,3−ジクロロプロピル基、3−ブロモ−3,3−ジクロロプロピル基、1−ブロモ−1,3,3,3−テトラクロロプロピル基、1−ブロモ−2,2,3,3,3−ペンタクロロプロピル基、1,3−ジブロモ−2,2,3,3−テトラクロロプロピル基、3−ブロモ−2,3,3−トリクロロプロピル基、3−ブロモ−2,2,3,3−テトラクロロプロピル基、2,3−ジブロモ−2,3,3−トリクロロプロピル基及び3−ブロモ−3,3−ジクロロプロピル基等の塩素原子及び臭素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基:
等が挙げられる。ハロゲン原子を有する炭素数1〜6のアルキル基は、好ましくは、1種のハロゲン原子を有する炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは、フッ素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基である。
化合物(1)としては、メチルスルホニルアセトニトリル、エチルスルホニルアセトニトリル、プロピルスルホニルアセトニトリル:
フルオロメチルスルホニルアセトニトリル、ジフルオロメチルスルホニルアセトニトリル、トリフルオロメチルスルホニルアセトニトリル、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチルスルホニルアセトニトリル、2,2,2−トリフルオロエチルスルホニルアセトニトリル、1,1−ジフルオロエチルスルホニルアセトニトリル、1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル、1,1−ジフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル、2,2−ジフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル、3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル、1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブチルスルホニルアセトニトリル、1,1−ジフルオロブチルスルホニルアセトニトリル、2,2―ジフルオロブチルスルホニルアセトニトリル、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,5−ウンデカフルオロペンチルスルホニルアセトニトリル、3,3,4,4,4−ペンタフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル、3−(トリフルオロメチル)−3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニルアセトニトリル、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルスルホニルアセトニトリル、1,1−ジフルオロペンチルスルホニルアセトニトリル、2,2−ジフルオロペンチルスルホニルアセトニトリル:
クロロメチルスルホニルアセトニトリル、ジクロロメチルスルホニルアセトニトリル、トリクロロメチルスルホニルアセトニトリル、1,1,2,2,2−ペンタクロロエチルスルホニルアセトニトリル、2,2,2−トリクロロエチルスルホニルアセトニトリル、1,1−ジクロロエチルスルホニルアセトニトリル、1,1,2,2,3,3,3−ヘプタクロロプロピルスルホニルアセトニトリル、1,1−ジクロロプロピルスルホニルアセトニトリル、2,2−ジクロロプロピルスルホニルアセトニトリル、3,3,3−トリクロロプロピルスルホニルアセトニトリル:
クロロジフルオロメチルスルホニルアセトニトリル、1,2−ジクロロ−1,2,2−トリフルオロエチルスルホニルアセトニトリル、1,1−ジクロロ−2,2,2−トリフルオロエチルスルホニルアセトニトリル、1−クロロ−1,3,3,3−テトラフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル、2,3−ジクロロ−2,3,3−トリフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル及び2,2−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル等が挙げられる。
R2で示される炭素数1〜6のアルキル基としては、R1で示される炭素数1〜6のアルキル基と同じのものが挙げられ、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
化合物(2)としては、1,4−シクロヘキサンジオンモノメチルオキシムエーテル、1,4−シクロヘキサンジオンモノエチルオキシムエーテル、1,4−シクロヘキサンジオンモノプロピルオキシムエーテル、1,4−シクロヘキサンジオンモノイソプロピルオキシムエーテル、1,4−シクロヘキサンジオンモノブチルオキシムエーテル、1,4−シクロヘキサンジオンモノsec-ブチルオキシムエーテル、1,4−シクロヘキサンジオンモノtert−ブチルオキシムエーテル、1,4−シクロヘキサンジオンモノペンチルオキシムエーテル、1,4−シクロヘキサンジオンモノネオペンチルオキシムエーテル、1,4−シクロヘキサンジオンモノヘキシルオキシムエーテル等が挙げられる。
R3、R4及びR5で示される炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘブタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1〜12のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。
R3、R4及びR5は全て同一の基であることが好ましい。
ベンジル基の置換基としては、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、シアノ基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、R1において例示したハロゲン原子と同じものが挙げられる。
ハロゲンを有していてもよいアルキル基としては、R1で示される炭素数1〜6のアルキル基と同じものおよびハロゲン原子を有する炭素数1〜6のアルキル基と同じものが挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基が挙げられる。
アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基等の炭素数1〜4のアルキルアミノ基が挙げられる。
アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基等の炭素数1〜4のアルキルチオ基が挙げられる。
アルキルスルホニル基としては、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基等の炭素数1〜4のアルキルスルホニル基が挙げられる。
R6は、炭素数1〜12のアルキル基又はベンジル基であることが好ましく、炭素数1〜6のアルキル基又はベンジル基であることがより好ましく、メチル基又はベンジル基であることがさらに好ましく、ベンジル基であることが特に好ましい。
化合物(1)、化合物(2)及び化合物(3)の反応は、化合物(1)、化合物(2)及び化合物(3)を混合することにより実施される。
化合物(1)、化合物(2)及び化合物(3)の反応は、溶媒の存在下で反応が行われることが好ましい。
溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、2−プロパノール等のアルコール溶媒が挙げられ、好ましくは、エステル溶媒であり、より好ましくは酢酸エチルである。
溶媒の使用量は、化合物(1)1重量部に対して、通常1〜10重量部であり、好ましくは2〜5重量部である。
化合物(3)の使用量は、化合物(1)1モルに対して、通常1〜5モルであり、好ましくは1〜2モルである。
<式(5)で示される化合物(以下、化合物(5)という場合がある。)と式(6)で示される化合物(以下、化合物(6)という場合がある。)とを反応させる化合物(3)の取得方法>
化合物(3)は、市販のものを使用してもよいし、化合物(5)と化合物(6)とを反応させることにより得ることもできる。
水酸化物イオン及びアルコキシドイオンを除く1価の陰イオン(以下、1価の陰イオンという場合がある)としては、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン及びヨウ化物イオン等のハロゲン化物イオン;シアン化物イオン、チオシアン酸イオン、セノシアン酸イオン、テルロシアン酸イオン、アジドジチオ炭酸イオン、シアン酸イオン、雷酸イオン及びアジ化物イオン等のハロゲノイドイオン;メタンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート等のフッ素原子を有していてもよいアルカンスルホナートイオン;トリフルオロアセテート及びトリクロロアセテートイオン等のハロゲン原子を有していてもよいアセテートイオン;硝酸イオン;過塩素酸イオン;テトラフルオロボレート及びテトラクロロボレート等のテトラハロボレートイオン;ヘキサフルオロホスファート等のヘキサハロホスファートイオン;ヘキサフルオロアンチモナート及びヘキサクロロアンチモナート等のヘキサハロアンチモナートイオン;ペンタフルオロスタンナート及びペンタクロロスタンナート等のペンタハロスタンナートイオン;テトラフェニルボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート及びテトラキス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート等の置換基を有していてもよいテトラアリールボレート;及び炭酸イオン等が挙げられる。
1価の陰イオンは、ハロゲン化物イオンであることが好ましい。
化合物(5)は、市販のものを使用してもよい。
アルカリ金属イオンとしては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、ルビジウムイオン等が挙げられ、好ましくは、ナトリウムイオンである。
化合物(6)としては、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド、ナトリウムトリプロピオニルオキシボロヒドリド、ナトリウムトリブタノイルオキシボロヒドリド、ナトリウムトリペンタノイルオキシボロヒドリド、ナトリウムトリヘキサノイルオキシボロヒドリド、ナトリウムトリヘプタノイルオキシボロヒドリド:
リチウムトリアセトキシボロヒドリド、リチウムトリプロピオニルオキシボロヒドリド、リチウムトリブタノイルオキシボロヒドリド、リチウムトリペンタノイルオキシボロヒドリド、リチウムトリヘキサノイルオキシボロヒドリド、リチウムトリヘプタノイルオキシボロヒドリド:
カリウムトリアセトキシボロヒドリド、カリウムトリプロピオニルオキシボロヒドリド、カリウムトリブタノイルオキシボロヒドリド、カリウムトリペンタノイルオキシボロヒドリド、カリウムトリヘキサノイルオキシボロヒドリド、カリウムトリヘプタノイルオキシボロヒドリド:
ルビジウムトリアセトキシボロヒドリド、ルビジウムトリプロピオニルオキシボロヒドリド、ルビジウムトリブタノイルオキシボロヒドリド、ルビジウムトリペンタノイルオキシボロヒドリド、ルビジウムトリヘキサノイルオキシボロヒドリド、ルビジウムトリヘプタノイルオキシボロヒドリド等が挙げられる。
化合物(6)は、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリドであることが好ましい。
化合物(8)としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸等が挙げられ、好ましくは、酢酸である。
化合物(7)と化合物(8)の反応は、化合物(7)と化合物(8)とを混合することにより実施される。
反応時間は通常1〜48時間、好ましくは3〜24時間である。また、反応温度は通常0〜50℃であり、好ましくは0〜20℃である。
化合物(8)の使用量は、化合物(7)1モルに対して、通常3〜5モルであり、好ましくは3〜4モルである。
溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル溶媒;アセトニトリル等のニトリル溶媒;2−プロパノール等のアルコール溶媒が挙げられる。好ましくは、エステル溶媒であり、より好ましくは、酢酸エチルである。
溶媒の使用量は、化合物(7)1重量部に対して、通常1〜10重量部であり、好ましくは1〜3重量部である。
得られた化合物(6)を含む反応混合物と化合物(5)とを反応させてもよいし、化合物(6)を取り出してから化合物(5)と反応させてもよい。例えば、得られた反応混合物を濃縮することにより、化合物(6)を取り出すことができる。
化合物(5)の使用量は、化合物(6)1モルに対して、通常1〜5モルであり、好ましくは1〜2モルである。
溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、2−プロパノール等のアルコール溶媒が挙げられ、好ましくは、エステル溶媒であり、より好ましくは、酢酸エチルである。
溶媒の使用量は、化合物(5)1重量部に対して、通常1〜10重量部であり、好ましくは1〜3重量部である。
例えば、反応混合物を濃縮することにより、化合物(3)を取り出すことができる。取り出した化合物(3)は、洗浄、再結晶等の通常の精製手段により精製することができる。
化合物(3)は、化合物(5)と化合物(7)と化合物(8)とを反応させることによっても得ることができる。
反応は、非水系で行うことが好ましい。非水系とは、溶媒として水を用いないことを意味する。
溶媒は、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、2−プロパノール等のアルコール溶媒が挙げられる。好ましくは、エステル溶媒であり、より好ましくは、酢酸エチルである。
溶媒の使用量は、化合物(5)1重量部に対して、通常1〜10重量部であり、好ましくは1〜3重量部である。
化合物(8)の使用量は、化合物(7)1モルに対して、通常2〜5モルであり、好ましくは3〜4モルである。
例えば、反応混合物を濃縮することにより、化合物(3)を取り出すことができる。取り出した化合物(3)は、洗浄、再結晶等の通常の精製手段により精製することができる。
化合物(3)は、化合物(5)と化合物(7)とを混合し、得られた混合物に、化合物(8)を混合することにより得ることができる。
混合は、非水系で行うことが好ましい。
化合物(5)と化合物(7)との混合は、溶媒の存在下で行われることが好ましい。
溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル溶媒;アセトニトリル等のニトリル溶媒;2−プロパノール等のアルコール溶媒が挙げられ、好ましくは、エステル溶媒であり、より好ましくは、酢酸エチルである。
溶媒の使用量は、化合物(5)1重量部に対して、通常1〜10重量部であり、好ましくは1〜3重量部である。
化合物(5)の使用量は、化合物(7)1モルに対して、通常1〜5モルであり、好ましくは1〜2モルである。
化合物(8)の使用量は、化合物(7)1モルに対して、通常2〜5モルであり、好ましくは3〜4モルである。
例えば、反応混合物を濃縮することにより、化合物(3)を取り出すことができる。取り出した化合物(3)は、洗浄、再結晶等の通常の精製手段により精製することができる。
化合物(3)は、化合物(7)と化合物(8)とを反応させて化合物(6)を得、得られた化合物(6)と化合物(5)とを反応させることにより得ることができる。
反応は、非水系で行うことが好ましい。
反応は、溶媒の存在下で行われることが好ましい。
溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル溶媒;アセトニトリル等のニトリル溶媒;2−プロパノール等のアルコール溶媒が挙げられ、好ましくは、エステル溶媒であり、より好ましくは、酢酸エチルである。
溶媒の使用量は、化合物(5)1重量部に対して、通常1〜10重量部であり、好ましくは1〜3重量部である。
化合物(5)の使用量は、化合物(7)1モルに対して、通常1〜5モルであり、好ましくは1〜2モルである。
化合物(8)の使用量は、化合物(7)1モルに対して、通常2〜5モルであり、好ましくは3〜4モルである。
化合物(5)の使用量は、化合物(6)1モルに対して、通常1〜5モルであり、好ましくは1〜2モルである。
例えば、反応混合物を濃縮することにより、化合物(3)を取り出すことができる。取り出した化合物(3)は、洗浄、再結晶等の通常の精製手段により精製することができる。
テトラメチルアンモニウムトリアセトキシボロヒドリド201.8gを酢酸エチル300gに懸濁させ、混合物を得た。酢酸エチル200gに3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル100g(含量97.7%)と1,4−シクロヘキサンジオンモノオキシムエーテル123.1g(含量78.0%)とを溶解させ、溶液を得た。30℃にて、得られた溶液を得られた混合物に6時間かけて滴下した。得られた混合物を15.5時間攪拌した。得られた反応混合物を酢酸エチルで希釈した。30℃にて、得られた混合物を5%塩酸水、1%酢酸水、23%水酸化ナトリウム水溶液、水で順次洗浄した。得られた混合物を濃縮し、2−[4−(メトキシイミノ)シクロヘキシル]−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリルの酢酸エチル溶液245.1g得た(含量61.2%、収率94.7%)。
テトラメチルアンモニウムクロリド14.5gと水素化ホウ素ナトリウム5.0gとを酢酸エチル32.5gに懸濁させ、混合物を得た。10℃にて、酢酸23.3gを得られた混合物に滴下した。得られた混合物を40℃に昇温し、16時間攪拌した。得られた反応混合物を28℃まで冷却し、3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル45g(含量36.1%)及び1,4−シクロヘキサンジオンモノオキシムエーテル26.6g(含量64.2%)を含む酢酸エチル溶液を6時間かけて滴下した。得られた混合物を20時間攪拌した。得られた反応混合物を酢酸エチルで希釈し、5%塩酸水、15%水酸化ナトリウム水溶液、水で順次洗浄した。得られた混合物を濃縮し、2−[4−(メトキシイミノ)シクロヘキシル]−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリルの酢酸エチル溶液56.9gを得た(含量44.2%、収率95.6%)。得られた酢酸エチル溶液に2-ブタノールを加えて濃縮し、2−[4−(メトキシイミノ)シクロヘキシル]−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリルの2-ブタノール溶液51.1gを得た(含量46.5%)。
得られた2-ブタノール溶液に、ヘプタン48.8gと2-ブタノール34.2gとを加え、60℃まで昇温し、溶液を得た。得られた溶液を10℃/hrにて5℃まで冷却し、懸濁液を得た。得られた懸濁液にヘプタン48.8gを2時間かけて滴下した。得られた混合物をろ過し、結晶を得た。得られた結晶を10%2-ブタノール/ヘプタン溶液で洗浄した後、減圧乾燥し、2−〔4−(メトキシイミノ)シクロヘキシル〕−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル21.9g得た(含量99.7%)。
水素化ホウ素ナトリウム7.0gを酢酸エチル46.2gに混合させ、混合物を得た。10℃にて、酢酸33.1gを得られた混合物に滴下した。得られた混合物を40℃に昇温し、12時間攪拌した。ナトリウムトリアセトキシボロヒドリドを含む反応混合物を得た。同温度にて、得られた反応混合物に、テトラメチルアンモニウムクロリド20.2gを加え、18時間攪拌した。テトラメチルアンモニウムトリアセトキシボロヒドリドを含む反応混合物を得た。得られた反応混合物に、3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル65.0g(含量35.5%)及び1,4−シクロヘキサンジオンモノオキシムエーテル37.4g(含量65.0%)を含む酢酸エチル溶液を6時間かけて滴下した。得られた混合物を22時間攪拌した。得られた反応混合物を酢酸エチルで希釈し、5%塩酸水、24%水酸化ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、2−[4−(メトキシイミノ)シクロヘキシル]−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリルを含む酢酸エチル溶液226.4g得た。(含量15.8%、収率95.2%)
水素化ホウ素ナトリウム11.9gを酢酸エチル78.9gに混合させ、混合物を得た。10℃にて、酢酸56.6gを得られた混合物に滴下した。ナトリウムトリアセトキシボロヒドリドを含む反応混合物を得た。テトラメチルアンモニウムクロリド34.5gを酢酸エチル47.6gに混合させ、得られた混合物を40℃に昇温し、同温にて、先に調製したナトリウムアルコキシボロヒドリドを含む反応混合物を滴下した。さらに3時間攪拌しテトラメチルアンモニウムトリアセトキシボロヒドリドを含む反応混合物を得た。得られた反応混合物を27.5℃に冷却し、3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル83.3g(含量39.9%)及び1,4−シクロヘキサンジオンモノオキシムエーテル53.7g(含量65.2%)を含む酢酸エチル溶液を6時間かけて滴下した。得られた混合物を36時間攪拌した。得られた反応混合物を酢酸エチルで希釈し、5%塩酸水、24%水酸化ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、2−[4−(メトキシイミノ)シクロヘキシル]−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリルを含む酢酸エチル溶液343.2g得た。(含量12.8%、収率90.1%)
水素化ホウ素ナトリウム5.5g及びベンジルトリエチルアンモニウムクロリド33.4gを酢酸エチル72.5gに混合させ、混合物を得た。10℃にて酢酸26.3gを得られた混合物に滴下した。得られた混合物を40℃に昇温し、13時間攪拌した。ベンジルトリエチルアンモニウムトリアセトキシボロヒドリドを含む反応混合物を得た。得られた反応混合物に、27.5℃にて、3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル49.4g(含量39.5%)及び1,4−シクロヘキサンジオンモノオキシムエーテル32.6g(含量58.9%)を含む酢酸エチル溶液を6時間かけて滴下した。得られた混合物を15時間攪拌した。得られた反応混合物を酢酸エチルで希釈し、5%塩酸水、24%水酸化ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、2−[4−(メトキシイミノ)シクロヘキシル]−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリルを含む酢酸エチル溶液179.7g得た。(含量17.1%、収率96.9%)
水素化ホウ素ナトリウム9.8gを酢酸エチル54.6gに混合させ、混合物を得た。10℃にて、酢酸46.5gを得られた混合物に滴下した。ナトリウムトリアセトキシボロヒドリドを含む反応混合物を得た。ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド59.9gを酢酸エチル53.2gに混合させ、得られた混合物を40℃に昇温した。40℃にて、得られた混合物に、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリドを含む反応混合物を滴下した。得られた混合物を3時間攪拌し、ベンジルトリエチルアンモニウムトリアセトキシボロヒドリドを含む反応混合物を得た。得られた反応混合物を27.5℃に冷却した。得られた混合物に、3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル70.0g(含量39.0%)及び1,4−シクロヘキサンジオンモノオキシムエーテル44.1g(含量65.2%)を含む酢酸エチル溶液を6時間かけて滴下した。得られた混合物を36時間攪拌した。得られた反応混合物を酢酸エチルで希釈し、5%塩酸水、24%水酸化ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、2−[4−(メトキシイミノ)シクロヘキシル]−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリルを含む酢酸エチル溶液245.2g得た。(含量17.4%、収率96.4%)
水素化ホウ素ナトリウム4.8g及びベンジルトリエチルアンモニウムクロリド29.0gを酢酸エチル68.1gに混合させ、混合物を得た。10℃にて、酢酸22.8gを得られた混合物に滴下した。得られた混合物を40℃に昇温し、18時間攪拌した。ベンジルトリエチルアンモニウムトリアセトキシボロヒドリドを含む反応混合物を得た。10℃にて、得られた反応混合物に、3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニルアセトニトリル49.0g(含量39.8%)及び1,4−シクロヘキサンジオンモノオキシムエーテル28.1g(含量58.9%)を含む酢酸エチル溶液を6時間かけて滴下した。得られた混合物を15時間攪拌した。得られた反応混合物を酢酸エチルで希釈し、5%塩酸水、24%水酸化ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、2−[4−(メトキシイミノ)シクロヘキシル]−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリルを含む酢酸エチル溶液176.7g得た。(含量16.9%、収率94.6%)
Claims (7)
- R6が、炭素数1〜20のアルキル基又はベンジル基である請求項1に記載の製造方法。
- 式(5)で示される化合物と式(7)で示される化合物と式(8)で示される化合物とを非水系で反応させる請求項4に記載の製造方法。
- 式(7)
(式中、M+はアルカリ金属イオンを表す。)
で示される化合物と式(8)
(式中、R7は上記と同じ意味を表す。)
で示される化合物とを反応させて、式(6)
(式中、R7は上記と同じ意味を表す。M+はアルカリ金属イオンを表す。)
で示される化合物を得、得られた(6)で示される化合物と式(5)
(式中、R3、R4、R5及びR6は上記と同じ意味を表す。X−は水酸化物イオン及びアルコキシドイオンを除く1価の陰イオンを表す。)
で示される化合物とを反応させて、式(3)で示される化合物を得、得られた式(3)で示される化合物と式(1)で示される化合物と式(2)で示される化合物とを反応させる請求項1又は2に記載の製造方法。
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