JP2014175166A - 電極製造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】コーティングロールに付着するスラリーを好適に掻き取ることが可能な電極製造装置を提供すること。
【解決手段】電極製造装置１０は、活物質を含むスラリーＳが付着するコーティングロール２２と、金属箔Ｍを搬送するバッキングロール２５とを有し、金属箔ＭとスラリーＳとを接触させることにより、金属箔ＭにスラリーＳを塗布する塗布部２１を備えている。また、電極製造装置１０は、金属箔ＭとスラリーＳとの接触箇所Ａに対してコーティングロール２２の回転方向の下流側に配置され、コーティングロール２２に付着するスラリーＳを掻き取るスクレーパ３１を備えている。ここで、スクレーパ３１はゴムであり、そのデュロメータ硬さは４０〜９０である。
【選択図】図１

Description

本発明は電極製造装置に関する。

蓄電装置に用いられる電極を製造する電極製造装置として、例えば活物質が含まれたスラリーをコーティングロールに付着させるとともに、当該コーティングロールに付着したスラリーを、バッキングロールにて搬送される金属箔に塗布するものが知られている（例えば特許文献１参照）。また、特許文献１の電極製造装置は、コーティングロールに付着している余剰スラリーを掻き取るスクレーパを備えている。

特許３４８３０７２号公報

ここで、スクレーパの硬さ等によっては、スラリーの一部が掻き取られることなく、コーティングロールに残存する場合がある。この場合、残存したスラリーが乾燥して異物となり、当該異物により金属箔に塗布されたスラリーの塗膜にスジやツブが発生してしまう場合がある。また、スクレーパの掻き取り性が悪いと、スラリーに含まれる固体の活物質等がスクレーパとコーティングロールとの間に挟まれて、スクレーパやコーティングロールにキズが生じる場合がある。

本発明は、上述した事情を鑑みてなされたものであり、コーティングロールに付着するスラリーを好適に掻き取ることが可能な電極製造装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成する電極製造装置は、活物質を含むスラリーが付着するコーティングロールと、金属箔を搬送するバッキングロールとを有し、前記コーティングロール及び前記バッキングロールを回転させつつ前記金属箔と前記スラリーとを接触させることにより、前記金属箔に前記スラリーを塗布するものであって、前記金属箔と前記スラリーとの接触箇所に対して前記コーティングロールの回転方向の下流側に配置され、前記コーティングロールに付着する前記スラリーを掻き取るスクレーパを備え、前記スクレーパにおける前記コーティングロールとの接触部分はゴムであり、前記ゴムのデュロメータ硬さは４０〜９０であることを特徴とする。

かかる構成によれば、スクレーパの接触部分を構成するゴムのデュロメータ硬さが４０〜９０であることにより、接触部分が過度に柔らかいことに起因して活物質が含まれたスラリーが掻き取れない事態や、接触部分が過度に硬いことに起因してスティックスリップ現象が生じてしまう事態を回避することができる。これにより、スラリーを好適に掻き取ることができる。

上記電極製造装置は、前記金属箔と前記スラリーとを断続的に接触させることにより、前記金属箔に前記スラリーを間欠的に塗布するものであるとよい。かかる構成によれば、コーティングロールに掻き取る対象のスラリーが間欠的に付着している。このような掻き取る対象の性状が不均一となる状況においては、特に高い掻き取り性が求められる。これに対して、上記のように硬さを設定することにより、掻き取る対象の性状が不均一である場合であっても、好適にスラリーを掻き取ることができる。

上記電極製造装置について、前記スクレーパは、前記コーティングロールの外周面のうち前記スラリーが付着するスラリー領域における前記コーティングロールの軸線方向の一端から他端にまで亘ってあるとよい。かかる構成によれば、スラリー領域に付着するスラリーを掻き取ることができる。

上記電極製造装置について、前記スクレーパは、前記コーティングロールの外周面に沿うとともに、前記スラリー領域における前記コーティングロールの軸線方向の一端から他端に向かうに従って前記コーティングロールとの接触位置が前記コーティングロールの回転方向にずれる弧部を備えているとよい。かかる構成によれば、スラリー領域に付着しているスラリーは、弧部に沿って移動して集められる。これにより、スラリーに対してコーティングロールの軸線方向の力が働くとともに、スラリーが集まることによってスラリーが落下し易くなる。よって、好適にスラリーを掻き取ることができる。

上記電極製造装置について、前記弧部は、前記スラリー領域における前記コーティングロールの軸線方向の一端から他端にまで亘ってあるとよい。かかる構成によれば、スラリー領域の一端から他端までのうち一部のみに弧部が設けられている構成と比較して、より好適にスラリーを掻き取ることができる。

この発明によれば、コーティングロールに付着するスラリーを好適に掻き取ることができる。

電極製造装置を模式的に示す正面図。 （ａ）はスクレーパの正面図であり、（ｂ）は（ａ）の２ｂ−２ｂ線断面図。 コーティングロール及びスクレーパの斜視図。 コーティングロール及びスクレーパの底面図。 スクレーパのデュロメータ硬さとスジ及びツブとの関係を示す図。 （ａ）は別例のスクレーパの斜視図であり、（ｂ）は別例のスクレーパ及びコーティングロールの底面図。 （ａ）は別例のスクレーパの斜視図であり、（ｂ）は別例のスクレーパ及びコーティングロールの底面図。 （ａ）は別例のスクレーパの斜視図であり、（ｂ）は別例のスクレーパ及びコーティングロールの底面図。

以下、電極製造装置の一実施形態について以下に説明する。なお、電極製造装置により製造された電極はセパレータを介して積層されて電極組立体となる。当該電極組立体は蓄電装置としての二次電池に用いられる。

図１に示すように、電極製造装置１０は、捲回された帯状の金属箔Ｍを取り付け可能な供給ローラ１１と、その金属箔Ｍを巻取可能な巻取ローラ１２とを備えている。各ローラ１１，１２は回転可能に構成されている。電極製造装置１０は、捲回された金属箔Ｍを供給ローラ１１に取り付け、その金属箔Ｍの長尺方向の一端部を巻取ローラ１２に取り付けた状態で、各ローラ１１，１２を回転させることにより、金属箔Ｍを搬送する。

電極製造装置１０は、搬送される金属箔Ｍに対して、活物質、導電助剤、及び溶媒等を含むスラリーＳを塗布する塗布部２１を備えている。塗布部２１は、外周面２２ａにスラリーＳが付着する円柱状のコーティングロール２２と、スラリーＳを貯蔵するとともに、コーティングロール２２の外周面２２ａにスラリーＳを供給する供給部２３と、コンマロール２４とを備えている。また、塗布部２１は、コーティングロール２２の近傍位置に設けられ、金属箔Ｍを搬送する円柱状のバッキングロール２５を備えている。塗布部２１は、コーティングロール２２及びバッキングロール２５を同一方向に回転させつつスラリーＳと金属箔Ｍとを接触させることにより、コーティングロール２２に付着したスラリーＳを金属箔Ｍに転写する。なお、スラリーＳと金属箔Ｍとが接触する箇所を接触箇所Ａとする。

ここで、バッキングロール２５は、コーティングロール２２との距離を調整可能に構成されており、コーティングロール２２によるスラリーＳの転写が可能な位置であるスラリーＳと金属箔Ｍとが接触する位置と、当該転写が不可能な位置であるスラリーＳと金属箔Ｍとが離間する位置との間を移動可能に構成されている。塗布部２１は、バッキングロール２５の位置の制御を行うことにより、コーティングロール２２及びバッキングロール２５を同一方向に回転させつつスラリーＳと金属箔Ｍとを断続的に接触させて、スラリーＳを間欠的に塗布する。

図１に示すように、電極製造装置１０は、塗布部２１によって塗布されたスラリーＳの塗膜を乾燥させる乾燥炉２６を備えている。乾燥炉２６は、塗布部２１と巻取ローラ１２との間に配置されている。スラリーＳが塗布された金属箔Ｍは、乾燥炉２６内を通って、巻取ローラ１２にて巻き取られる。

なお、電極製造装置１０は、乾燥された塗膜をプレスするプレス装置、及び、金属箔Ｍを予め定められた電極の形状に切り取る切り取り装置等を備えている。電極製造装置１０は、乾燥された塗膜をプレスし、金属箔Ｍを切り取ることにより、活物質層を有する電極を製造する。

ここで、コーティングロール２２の外周面２２ａには、一部のスラリーＳが金属箔Ｍに転写されることなく付着している。特に、塗布部２１がスラリーＳを間欠的に塗布する構成においては、コーティングロール２２の外周面２２ａに、スラリーＳが間欠的に付着している。

これに対して、図１に示すように、電極製造装置１０は、接触箇所Ａに対してコーティングロール２２の回転方向の下流側に配置され、コーティングロール２２の外周面２２ａに付着するスラリーＳを掻き取るスクレーパ３１を備えている。また、電極製造装置１０は、スクレーパ３１にて掻き取られたスラリーＳが回収される回収タンク３２を備えている。

図２及び図３に示すように、スクレーパ３１は略平板状である。スクレーパ３１は、当該スクレーパ３１の短手方向の一端側に、湾曲した弧部４１を備えている。弧部４１は、スクレーパ３１の長手方向の一端から他端にまで亘ってある。弧部４１は、スクレーパ３１の長手方向の中央から両端に向かうに従って徐々にスクレーパ３１の短手方向の長さが長くなるよう凹形状に湾曲している。図２（ｂ）に示すように、弧部４１は、スクレーパ３１の厚さ方向に対して傾斜した傾斜面４１ａを有する先細り形状となっている。なお、傾斜面４１ａの傾斜角度θは例えば１３°となっている。

ここで、図３に示すように、コーティングロール２２の外周面２２ａのうちスラリーＳが付着するスラリー領域Ｚのコーティングロール２２の軸線方向の一端Ｚａにおける所定の点を第１点Ｐ１と、スラリー領域Ｚの一端Ｚａとは反対側の他端Ｚｂにおいて上記第１点Ｐ１とはコーティングロール２２の回転方向に１８０°ずれた点を第２点Ｐ２とする。弧部４１の曲率は、第１点Ｐ１と第２点Ｐ２とを結ぶコーティングロール２２の外周面２２ａに沿う楕円の半狐の曲率と同一である。

図３及び図４に示すように、スクレーパ３１は、コーティングロール２２の軸線方向に対して当該スクレーパ３１の長手方向が傾斜した状態で配置されている。スクレーパ３１及びその弧部４１は、スラリー領域Ｚにおけるコーティングロール２２の軸線方向の一端Ｚａから他端Ｚｂまでに亘ってある。弧部４１は、底面視でコーティングロール２２の回転方向に対して傾斜しており、コーティングロール２２の外周面２２ａに沿って接触している。この場合、弧部４１とコーティングロール２２との接触位置Ｂは、弧部４１の形状に対応させて、第１点Ｐ１及び第２点Ｐ２を結ぶ弧状となっており、スラリー領域Ｚにおけるコーティングロール２２の軸線方向の一端Ｚａから他端Ｚｂに向かうに従ってコーティングロール２２の回転方向にずれている。

スクレーパ３１はゴム製であり、そのデュロメータ硬さは４０〜９０、好ましくは５０〜９０、より好ましくは６０〜９０である。デュロメータ硬さとは、「ＪＩＳ Ｋ６２５３−３：２０１２ 加硫ゴム及び熱可塑性ゴム−硬さの求め方−第３部：デュロメータ硬さ」に基づく「デュロメータ」を計測器に用いた方法で計測される硬さである。なお、本実施形態において測定に用いたデュロメータはタイプＡである。

次に、本実施形態の作用について説明する。
金属箔Ｍに転写されることなくコーティングロール２２に付着しているスラリーＳは、コーティングロール２２の回転に伴いスクレーパ３１が配置されている箇所に到達し、スクレーパ３１の弧部４１によって掻き取られる。この場合、図４に示すように、コーティングロール２２と弧部４１との接触位置Ｂは、スラリー領域Ｚの一端Ｚａから他端Ｚｂに向かうに従ってコーティングロール２２の回転方向にずれているため、掻き取られたスラリーＳは、弧部４１に沿って、スラリー領域Ｚの他端Ｚｂに向けて移動する。そして、スラリーＳは、スラリー領域Ｚの他端Ｚｂ側に集められ、当該他端Ｚｂ側から滴るように回収タンク３２に向けて落下する。

図５を用いてスクレーパ３１のデュロメータ硬さと、スジ及びツブとの関係について説明する。図５は、金属箔Ｍとしての幅１８５ｍｍ×長さ４００ｍのアルミニウム箔の表面に対して、５０ｍｍ間隔で幅１６５ｍｍ×長さ１３０ｍｍの領域に正極のスラリーを塗布した場合に、上記領域にスジ及びツブが存在するか否かを観察した結果である。図５中、「○」はスジ及びツブがないことを示し、「△」は幅が１ｍｍ未満のスジ及びツブがあったことを示し、「×」は、電極の性能に特に悪影響を及ぼし易い幅が１ｍｍ以上のスジ及びツブがあったことを示す。また、製造ばらつきを考慮して、同一仕様で製造した５つのスクレーパを用意し、各スクレーパを用いた場合の結果を実施例１〜５として示す。なお、上記条件は一例であり、金属箔Ｍ等の各種寸法を何ら限定するものではない。

図５に示すように、スクレーパ３１のデュロメータ硬さが４０よりも小さい又は９０よりも大きい場合には、幅が１ｍｍ以上のスジ及びツブが発生し易い一方、スクレーパ３１のデュロメータ硬さが４０〜９０である場合には、幅が１ｍｍ以上のスジ及びツブが発生しにくくなることが確認された。特に、スクレーパ３１のデュロメータ硬さが５０〜９０である場合には、スジ及びツブが発生しないことが確認された。

なお、スクレーパ３１のデュロメータ硬さが４０よりも小さい場合、スクレーパ３１が柔らかいことに起因して一部の硬い活物質等がスクレーパ３１を押しのけて通過してしまい、スジやツブが生じてしまったと考えられる。

また、スクレーパ３１のデュロメータ硬さが９０よりも大きい場合、スクレーパ３１とコーティングロール２２との間でスティックスリップ現象が生じてしまい、幅が広いスジやツブが生じてしまった。

ちなみに、スクレーパ３１のデュロメータ硬さが９０よりも大きくなると、幅が１ｍｍ以上のスジ及びツブが突然発生し易くなった。これに対して、スクレーパ３１のデュロメータ硬さが５０よりも小さい条件下では、デュロメータ硬さが小さくなるに従って、徐々にスジ及びツブが発生し易くなる傾向となった。この際、スクレーパ３１のデュロメータ硬さが４０である場合に、各実施例１〜５のうち半数以上のものにおいて、掻き取り性がある程度確保されていることが確認された。

以上詳述した本実施形態によれば以下の優れた効果を奏する。
（１）スクレーパ３１はゴムであり、そのデュロメータ硬さは４０〜９０、より好ましくは５０〜９０である。これにより、コーティングロール２２の外周面２２ａに付着するスラリーＳを好適に掻き取ることができる。

特に、本実施形態において、掻き取る対象は、固体の活物質や導電助剤が含まれたスラリーＳである。この場合、スクレーパ３１によってスラリーＳを掻き取る場合に、活物質や導電助剤がスクレーパ３１とコーティングロール２２との間に挟まれ、その結果、スクレーパ３１やコーティングロール２２にキズが発生し得る。これに対して、上記のようにスクレーパ３１のデュロメータ硬さを４０〜９０にすることにより、活物質等が含まれたスラリーＳを好適に掻き取ることができ、上記キズの発生を抑制することができる。

（２）塗布部２１は、金属箔ＭとスラリーＳとを断続的に接触させることにより、金属箔ＭにスラリーＳを間欠的に塗布するものである。この場合、コーティングロール２２の外周面２２ａに間欠的にスラリーＳが付着している。このような掻き取る対象の性状が不均一である場合、スラリーＳを掻き取りにくかったり、摩耗し易かったりする。これに対して、上記のようにスクレーパ３１のデュロメータ硬さを４０〜９０にすることにより、掻き取る対象の性状が不均一である場合であっても、好適にスラリーＳを掻き取ることができる。

（３）スクレーパ３１は、スラリー領域Ｚにおけるコーティングロール２２の軸線方向の一端Ｚａから他端Ｚｂまでに亘ってある。これにより、スラリー領域Ｚに付着するスラリーＳを全て掻き取ることができる。

（４）スクレーパ３１は、コーティングロール２２の外周面２２ａに沿うとともに、スラリー領域Ｚにおけるコーティングロール２２の軸線方向の一端Ｚａから他端Ｚｂに向かうに従って、コーティングロール２２との接触位置Ｂがコーティングロール２２の回転方向にずれる弧部４１を備えている。これにより、スラリー領域Ｚに付着しているスラリーＳは、弧部４１に沿って移動して集められる。これにより、スラリーＳに対してコーティングロール２２の軸線方向の力が働くとともに、スラリーＳが集まることによってスラリーＳが落下し易くなる。よって、好適にスラリーＳを好適に掻き取ることができる。また、スラリーＳが集められるため、スラリーＳが落下する範囲が狭くなる。これにより、スラリーＳの回収を容易に行うことができる。

（５）特に、弧部４１は、スラリー領域Ｚにおけるコーティングロール２２の軸線方向の一端Ｚａから他端Ｚｂまでに亘ってある。これにより、上記一端Ｚａから上記他端Ｚｂまでのうち一部に弧部がある構成と比較して、より好適にスラリーＳを掻き取ることができる。

なお、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
○ 実施形態では、スクレーパ３１は弧部４１を備え、スクレーパ３１は、当該スクレーパ３１の長手方向がコーティングロール２２の軸線方向に対して傾斜した状態で配置されていたが、これに限られない。スクレーパ３１が矩形板状であって、スクレーパ３１の長手方向と、コーティングロール２２の軸線方向とが平行となるようにスクレーパ３１が配置されていてもよい。この構成であっても、スクレーパ３１のデュロメータ硬さを４０〜９０にすることにより、上述した（１）及び（２）の効果を奏する。つまり、スクレーパ３１のデュロメータ硬さが４０〜９０であれば、スクレーパ３１の具体的な形状は任意である。また、スクレーパ３１のデュロメータ硬さが４０〜９０の範囲内であれば、どのように範囲を設定してもよい。

○ 図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、平面視でＶ字状となっているスクレーパ５１であってもよい。この場合、スクレーパ５１は、スラリー領域Ｚにおけるコーティングロール２２の軸線方向の一端Ｚａから中央に向かうに従って接触位置Ｂがコーティングロール２２の回転方向にずれる第１弧部５１ａを備えている。更にスクレーパ５１は、スラリー領域Ｚにおけるコーティングロール２２の軸線方向の他端Ｚｂから中央に向かうに従って接触位置Ｂがコーティングロール２２の回転方向にずれる第２弧部５１ｂを備えている。第１弧部５１ａと第２弧部５１ｂとは連続している。かかる構成によれば、第１弧部５１ａ及び第２弧部５１ｂの交点に向けてスラリーＳが移動する。これにより、スラリーＳを好適に集めることができる。また、実施形態の弧部４１と比較して、底面視におけるコーティングロール２２の回転方向に対する弧部の傾斜角度が同一条件下において、コーティングロール２２の回転方向に占めるスクレーパ５１のスペースが小さくなる。よって、スラリーＳを好適に掻き取りつつ、スクレーパ５１のスペースの低減を図ることができる。なお、Ｖ字状のスクレーパ５１を、中央が回転方向の上流で両端が回転方向の下流にある態様で配置してもよい。また、第１弧部５１ａ及び第２弧部５１ｂは連続している必要はなく、例えば第１弧部５１ａと第２弧部５１ｂとの間に直線部があってもよい。

○ また、図７（ａ）及び図７（ｂ）に示すように、平面視で円弧状に湾曲しているスクレーパ６１であってもよい。当該スクレーパ６１も、第１弧部６１ａ及び第２弧部６１ｂを備えている。この場合、鋭角部分がない分だけ、スクレーパ６１に付着したスラリーＳを拭き取るメンテナンスの容易化を図ることができる。

○ さらに、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示すように、弧部７１ａと直線部７１ｂとを有するスクレーパ７１であってもよい。要は、スクレーパにおいてコーティングロール２２と接触する部位の少なくとも一部が弧部となっていればよい。

○ 実施形態では、スクレーパ３１は、スラリー領域Ｚの一端Ｚａから他端Ｚｂまでに亘って存在したが、これに限られず、例えばコーティングロール２２における軸線方向の一端から他端までに亘って存在してもよい。

○ 実施形態では、コーティングロール２２の回転方向において弧部４１の長手方向の一端と他端とのずれ角度は１８０°であったが、これに限られず、当該ずれ角度は任意である。この場合、上記ずれ角度が大きくなるほど、コーティングロール２２の回転方向に対する弧部の傾斜角度が大きくなるため、より好適にスラリーＳを掻き取ることができる。一方、上記ずれ角度が小さくなるほど、コーティングロール２２の回転方向に占めるスクレーパのスペースを低減できる。

○ 実施形態では、弧部４１は、徐々に厚さが薄くなる先細り形状となっていたが、これに限られず、一定の厚さの形状であってもよい。
○ 実施形態では、スクレーパ３１全体がゴムであったが、これに限られず、コーティングロール２２との接触部分である弧部４１のみがゴムであってもよい。要は、少なくともスクレーパにおけるコーティングロール２２との接触部分がゴムであればよい。

○ 実施形態では、塗布部２１は間欠的にスラリーＳを塗布する構成であったが、これに限られず、連続的にスラリーＳを塗布する構成であってもよい。この場合であっても、金属箔Ｍに転写されることなくコーティングロール２２にあるスラリーＳをスクレーパ３１で掻き取ることができる。

次に、上記実施形態及び別例から把握できる技術的思想について以下に記載する。
（イ）ゴムのデュロメータ硬さは５０〜９０であるとよい。
（ロ）弧部としてスラリー領域におけるコーティングロールの軸線方向の一端から中央に向かうに従って接触位置がコーティングロールの回転方向にずれる第１弧部を有し、更にスラリー領域におけるコーティングロールの軸線方向の他端から中央に向かうに従って接触位置がコーティングロールの回転方向にずれる第２弧部を有するとよい。

（ハ）活物質を含むスラリーが付着するコーティングロールと、金属箔を搬送するバッキングロールとを有し、コーティングロール及びバッキングロールを回転させつつ金属箔とスラリーとを接触させることにより、金属箔にスラリーを塗布する電極製造装置において、金属箔とスラリーとの接触箇所に対してコーティングロールの回転方向の下流側に配置され、コーティングロールに付着するスラリーを掻き取るスクレーパを備え、スクレーパは、コーティングロールの外周面のうちスラリーが付着するスラリー領域におけるコーティングロールの軸線方向の一端から他端にまで亘ってあり、スクレーパは、コーティングロールの外周面に沿うとともに、スラリー領域におけるコーティングロールの軸線方向の一端から他端に向かうに従ってコーティングロールとの接触位置がコーティングロールの回転方向にずれる弧部を備えているとよい。当該技術的思想に着目した場合、スクレーパのデュロメータ硬さが必ずしも４０〜９０でなくてもよい。

１０…電極製造装置、２１…塗布部、２２…コーティングロール、２２ａ…コーティングロールの外周面、２５…バッキングロール、３１…スクレーパ、４１…弧部、５１，６１，７１…別例のスクレーパ、５１ａ，６１ａ…第１弧部、５１ｂ，６１ｂ…第２弧部、Ｍ…金属箔、Ｓ…スラリー、Ｚ…スラリー領域。

Claims (5)

1. 活物質を含むスラリーが付着するコーティングロールと、
   金属箔を搬送するバッキングロールとを有し、
   前記コーティングロール及び前記バッキングロールを回転させつつ前記金属箔と前記スラリーとを接触させることにより、前記金属箔に前記スラリーを塗布する電極製造装置において、
   前記金属箔と前記スラリーとの接触箇所に対して前記コーティングロールの回転方向の下流側に配置され、前記コーティングロールに付着する前記スラリーを掻き取るスクレーパを備え、
   前記スクレーパにおける前記コーティングロールとの接触部分はゴムであり、
   前記ゴムのデュロメータ硬さは４０〜９０であることを特徴とする電極製造装置。
2. 前記電極製造装置は、前記金属箔と前記スラリーとを断続的に接触させることにより、前記金属箔に前記スラリーを間欠的に塗布するものである請求項１に記載の電極製造装置。
3. 前記スクレーパは、前記コーティングロールの外周面のうち前記スラリーが付着するスラリー領域における前記コーティングロールの軸線方向の一端から他端にまで亘ってある請求項１又は請求項２に記載の電極製造装置。
4. 前記スクレーパは、前記コーティングロールの外周面に沿うとともに、前記スラリー領域における前記コーティングロールの軸線方向の一端から他端に向かうに従って前記コーティングロールとの接触位置が前記コーティングロールの回転方向にずれる弧部を備えている請求項３に記載の電極製造装置。
5. 前記弧部は、前記スラリー領域における前記コーティングロールの軸線方向の一端から他端にまで亘ってある請求項４に記載の電極製造装置。