JP3070565B2 - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JP3070565B2 JP3070565B2 JP10009385A JP938598A JP3070565B2 JP 3070565 B2 JP3070565 B2 JP 3070565B2 JP 10009385 A JP10009385 A JP 10009385A JP 938598 A JP938598 A JP 938598A JP 3070565 B2 JP3070565 B2 JP 3070565B2
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- gravure roll
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- gravure
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続した被塗布物
の長手方向にストライプ状の塗布膜を形成する塗布方法
に関する。
の長手方向にストライプ状の塗布膜を形成する塗布方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、連続した被塗布物に長手方向に連
続したストライプ状の塗布膜を形成する塗布方法とし
て、図６に示すように連続して搬送される被塗布物１１
に、円周上にストライプ状の溝１２を形成し、この溝に
合わせた櫛歯状のドクターブレード１３を用いて溝の中
とグラビアロール１４表面の余剰塗布液を掻き取った被
塗布物の搬送方向に対し順方向あるいは逆方向に回転す
るグラビアロールを接触させて塗布する方法があった
が、グラビアロールの溝の寸法と、このグラビアロール
にあたる櫛歯状のドクターブレードの寸法を完全に一致
させることが難しく、グラビアロールにドクターブレー
ドが確実にあたらないところでは余剰塗布液の掻き取り
残しが発生し、特に掻き取り残しが溝の側壁に発生した
場合には、塗布されたストライプ状の塗布膜厚は図７に
示すように、エッジ部分１８の厚みが中央部１９に比べ
厚くなっていた。このような従来の方法で、塗布した被
塗布物を円筒状の芯に巻き取った場合、図８に示すよう
にストライプ状のエッジの塗布厚みの厚い部分１８が中
央の部分１９に比べて極端に大きく盛り上がり、この部
分の被塗布物が伸びて寸法不良になったり、さらに極端
な場合には被塗布物が破損したりするなどの不具合が生
じていた。
続したストライプ状の塗布膜を形成する塗布方法とし
て、図６に示すように連続して搬送される被塗布物１１
に、円周上にストライプ状の溝１２を形成し、この溝に
合わせた櫛歯状のドクターブレード１３を用いて溝の中
とグラビアロール１４表面の余剰塗布液を掻き取った被
塗布物の搬送方向に対し順方向あるいは逆方向に回転す
るグラビアロールを接触させて塗布する方法があった
が、グラビアロールの溝の寸法と、このグラビアロール
にあたる櫛歯状のドクターブレードの寸法を完全に一致
させることが難しく、グラビアロールにドクターブレー
ドが確実にあたらないところでは余剰塗布液の掻き取り
残しが発生し、特に掻き取り残しが溝の側壁に発生した
場合には、塗布されたストライプ状の塗布膜厚は図７に
示すように、エッジ部分１８の厚みが中央部１９に比べ
厚くなっていた。このような従来の方法で、塗布した被
塗布物を円筒状の芯に巻き取った場合、図８に示すよう
にストライプ状のエッジの塗布厚みの厚い部分１８が中
央の部分１９に比べて極端に大きく盛り上がり、この部
分の被塗布物が伸びて寸法不良になったり、さらに極端
な場合には被塗布物が破損したりするなどの不具合が生
じていた。
【０００３】また他の方法として、図９に示すように連
続して搬送される被塗布物１５に、表面の円周方向にス
トライプ状にグラビア彫刻のない平坦な部分１６を設
け、表面の余剰塗布液を掻き取り、被塗布物の搬送方向
に対し順方向あるいは逆方向に回転するグラビアロール
１７を接触させて塗布する方法もあるが、この方法で
は、ストライプのエッジ部分の塗布厚は厚くならない
が、ドクターブレードで余剰塗布液を掻き取ったグラビ
アロール表面の、グラビア彫刻のない平坦な部分に残っ
た微量の塗布液が被塗布物に転写するため、このような
従来の方法で、金属箔表面や、または図１０に示すよう
に紙やプラスチックフィルム等の支持体２０の表面に金
属薄膜２１を形成し、その金属薄膜表面に絶縁体や誘電
体を目的としてストライプ状に塗布膜２２を塗布形成
し、ストライプ状の金属表面が露出している部分２３と
電気的なコンタクトを取ろうとした場合、本来、塗布膜
が無いはずの金属表面に、微量の絶縁体や誘電体となる
塗布液２４が存在するため、コンタクト部分の抵抗が高
くなったり、全くコンタクトが取れない等の問題点があ
った。
続して搬送される被塗布物１５に、表面の円周方向にス
トライプ状にグラビア彫刻のない平坦な部分１６を設
け、表面の余剰塗布液を掻き取り、被塗布物の搬送方向
に対し順方向あるいは逆方向に回転するグラビアロール
１７を接触させて塗布する方法もあるが、この方法で
は、ストライプのエッジ部分の塗布厚は厚くならない
が、ドクターブレードで余剰塗布液を掻き取ったグラビ
アロール表面の、グラビア彫刻のない平坦な部分に残っ
た微量の塗布液が被塗布物に転写するため、このような
従来の方法で、金属箔表面や、または図１０に示すよう
に紙やプラスチックフィルム等の支持体２０の表面に金
属薄膜２１を形成し、その金属薄膜表面に絶縁体や誘電
体を目的としてストライプ状に塗布膜２２を塗布形成
し、ストライプ状の金属表面が露出している部分２３と
電気的なコンタクトを取ろうとした場合、本来、塗布膜
が無いはずの金属表面に、微量の絶縁体や誘電体となる
塗布液２４が存在するため、コンタクト部分の抵抗が高
くなったり、全くコンタクトが取れない等の問題点があ
った。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本塗布方法において
は、エッジ部分の塗布厚みが厚くならず、被塗布部分に
微量の塗布液も転写しない、長手方向に連続したストラ
イプ状の塗布膜を形成することを目的とする。
は、エッジ部分の塗布厚みが厚くならず、被塗布部分に
微量の塗布液も転写しない、長手方向に連続したストラ
イプ状の塗布膜を形成することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は、被塗布物とグラビアロールの間に必要な数
および寸法のマスクを介して被塗布物とグラビアロール
を接触させることとし、さらにグラビアロール表面のマ
スクと接触する部分の円周方向にグラビア彫刻が無い平
坦な部分を設けたグラビアロールを用いている。この本
発明によれば、エッジ部分の塗布厚みが厚くならず、被
塗布部分に微量の塗布液も存在しない長手方向に連続し
たストライプ状の塗布膜を形成することができる。
に本発明は、被塗布物とグラビアロールの間に必要な数
および寸法のマスクを介して被塗布物とグラビアロール
を接触させることとし、さらにグラビアロール表面のマ
スクと接触する部分の円周方向にグラビア彫刻が無い平
坦な部分を設けたグラビアロールを用いている。この本
発明によれば、エッジ部分の塗布厚みが厚くならず、被
塗布部分に微量の塗布液も存在しない長手方向に連続し
たストライプ状の塗布膜を形成することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、連続して搬送される被塗布物の表面に、被塗布物の
搬送方向に対し順方向あるいは逆方向に回転し、表面に
塗布液を付着させたグラビアロールを接触させて塗布す
る方法の、接触部の被塗布物とグラビアロールの間のグ
ラビアロールの軸方向の一部あるいは複数部分にマスク
を設けて接触させることとし、さらにグラビアロール表
面のマスクと接触する部分の円周方向にグラビア彫刻が
無い平坦な部分を設けたグラビアロールを用いたもので
ある。これにより、ドクターブレードによって余剰塗布
液が除去された後グラビアロール表面に残った塗布液が
マスクによって被塗布物に接触することが無くなり、マ
スクと接触する部分の被塗布物表面には塗布液が塗布さ
れず、一方マスクの無い部分の被塗布物にはグラビアロ
ール表面の塗布液が接触し塗布される。このとき、スト
ライプ状の塗布膜のエッジ部分はマスクのエッジ部分に
できる微量の塗布液溜りによって塗布厚みが厚くなる
が、その厚みは従来法による塗布方法に比べ軽減でき
る。また、グラビアロールの表面の円周方向に、グラビ
ア彫刻がない平坦な部分を設け、表面を平坦化すること
により、マスクと接触している部分のグラビアロール表
面に付着している塗布液の量が少なく、マスクのエッジ
部分に出来る塗布液溜りが少なくなり、エッジ部分の塗
布厚を平坦化することができる。
は、連続して搬送される被塗布物の表面に、被塗布物の
搬送方向に対し順方向あるいは逆方向に回転し、表面に
塗布液を付着させたグラビアロールを接触させて塗布す
る方法の、接触部の被塗布物とグラビアロールの間のグ
ラビアロールの軸方向の一部あるいは複数部分にマスク
を設けて接触させることとし、さらにグラビアロール表
面のマスクと接触する部分の円周方向にグラビア彫刻が
無い平坦な部分を設けたグラビアロールを用いたもので
ある。これにより、ドクターブレードによって余剰塗布
液が除去された後グラビアロール表面に残った塗布液が
マスクによって被塗布物に接触することが無くなり、マ
スクと接触する部分の被塗布物表面には塗布液が塗布さ
れず、一方マスクの無い部分の被塗布物にはグラビアロ
ール表面の塗布液が接触し塗布される。このとき、スト
ライプ状の塗布膜のエッジ部分はマスクのエッジ部分に
できる微量の塗布液溜りによって塗布厚みが厚くなる
が、その厚みは従来法による塗布方法に比べ軽減でき
る。また、グラビアロールの表面の円周方向に、グラビ
ア彫刻がない平坦な部分を設け、表面を平坦化すること
により、マスクと接触している部分のグラビアロール表
面に付着している塗布液の量が少なく、マスクのエッジ
部分に出来る塗布液溜りが少なくなり、エッジ部分の塗
布厚を平坦化することができる。
【０００７】
【０００８】請求項２の発明はマスクのグラビアロール
との接触部分の寸法に対し、同じかそれ以上の幅でグラ
ビア彫刻が無い平坦な部分を設けたグラビアロールを用
いたものであり、マスクのグラビアロールとの接触部分
のグラビアロール表面にグラビア彫刻がないためにドク
ターブレードで余剰塗布液を掻き取った後の平坦部表面
にはほとんど塗布液がなく、マスクのエッジ部分に塗布
液溜りが発生しないことから、ストライプ状の塗布膜の
エッジ部分の塗布厚みが厚くなることは無い。
との接触部分の寸法に対し、同じかそれ以上の幅でグラ
ビア彫刻が無い平坦な部分を設けたグラビアロールを用
いたものであり、マスクのグラビアロールとの接触部分
のグラビアロール表面にグラビア彫刻がないためにドク
ターブレードで余剰塗布液を掻き取った後の平坦部表面
にはほとんど塗布液がなく、マスクのエッジ部分に塗布
液溜りが発生しないことから、ストライプ状の塗布膜の
エッジ部分の塗布厚みが厚くなることは無い。
【０００９】以下本発明の実施の形態について、図１か
ら図５を用いて説明する。 （実施の形態１） 図１，図２は本発明に係る塗布方法を示し、図１は斜視
図，図２は側面図で、図１，図２において１は、被塗布
物でロール２，３で支持し、図１においては左後方から
右前方に、図２においては左から右に搬送している。ほ
ぼ全面にグラビア彫刻が施されたグラビアロール６は、
塗布液溜め４に溜めた塗布液５に浸漬し矢印方向に回転
し、余剰の塗布液はドクターブレード７で掻き取り、マ
スク８を介して被塗布物１と接している。マスク８は、
ストライプ状の非塗布部分を形成する作用を有するもの
で、材質としては、グラビアロール６や被塗布物との摩
擦に対し、摩擦係数が低く耐磨耗性のよいものが好まし
く、金属の類いは耐磨耗性や寸法精度の点で好ましい。
またマスク８の厚みはなるべく薄いほうが寸法精度の点
で好ましいが、磨耗による寿命や取扱い易さの点から１
０〜１００μｍが好ましい。
ら図５を用いて説明する。 （実施の形態１） 図１，図２は本発明に係る塗布方法を示し、図１は斜視
図，図２は側面図で、図１，図２において１は、被塗布
物でロール２，３で支持し、図１においては左後方から
右前方に、図２においては左から右に搬送している。ほ
ぼ全面にグラビア彫刻が施されたグラビアロール６は、
塗布液溜め４に溜めた塗布液５に浸漬し矢印方向に回転
し、余剰の塗布液はドクターブレード７で掻き取り、マ
スク８を介して被塗布物１と接している。マスク８は、
ストライプ状の非塗布部分を形成する作用を有するもの
で、材質としては、グラビアロール６や被塗布物との摩
擦に対し、摩擦係数が低く耐磨耗性のよいものが好まし
く、金属の類いは耐磨耗性や寸法精度の点で好ましい。
またマスク８の厚みはなるべく薄いほうが寸法精度の点
で好ましいが、磨耗による寿命や取扱い易さの点から１
０〜１００μｍが好ましい。
【００１０】図３は、本発明に係る塗布方法の正面図を
示し、図３において、グラビアロール６の表面のマスク
８と接触する部分の一部にグラビア彫刻の無い平坦な部
分９が設けてあり、このグラビア彫刻の無い平坦な部分
９は、グラビア彫刻部分１０に比べて、表面に付着して
いる塗布液の量が極端に少ないことからマスクとの接触
によって生じる液溜り１１が少なくなり、ストライプ状
の塗布膜のエッジ部分の塗布厚みを低くする作用をもつ
ものであり、必要寸法のストライプ状の非塗布部分が得
られるのであれば、グラビア彫刻の無い平坦な部分９と
マスク８のグラビアロールの軸方向の寸法関係は自由に
設定できる。
示し、図３において、グラビアロール６の表面のマスク
８と接触する部分の一部にグラビア彫刻の無い平坦な部
分９が設けてあり、このグラビア彫刻の無い平坦な部分
９は、グラビア彫刻部分１０に比べて、表面に付着して
いる塗布液の量が極端に少ないことからマスクとの接触
によって生じる液溜り１１が少なくなり、ストライプ状
の塗布膜のエッジ部分の塗布厚みを低くする作用をもつ
ものであり、必要寸法のストライプ状の非塗布部分が得
られるのであれば、グラビア彫刻の無い平坦な部分９と
マスク８のグラビアロールの軸方向の寸法関係は自由に
設定できる。
【００１１】（実施の形態２） 図４，図５は、本発明の請求項２に記載の塗布方法のグ
ラビアロール６とマスク８の接触部分の拡大図を示し、
図４においては、グラビアロール６に設けられたグラビ
ア彫刻の無い平坦な部分９のグラビアロールの軸方向の
寸法が、マスク８のグラビアロール６と接触する部分の
寸法と同じであり、図５（ａ）および（ｂ）においては
グラビアロール６に設けられたグラビア彫刻の無い平坦
な部分９のグラビアロールの軸方向の寸法が、マスク８
のグラビアロール６と接触する部分の寸法よりも大きく
したもので、いずれも、マスク８と接触する部分のグラ
ビアロール６表面はすべてグラビア彫刻の無い平坦な部
分９となり、接触するマスク８のエッジ部分に生じる液
溜りがほとんどなくなり、ストライプ状の塗布膜のエッ
ジ部分の塗布厚みを低くする作用をもつ。
ラビアロール６とマスク８の接触部分の拡大図を示し、
図４においては、グラビアロール６に設けられたグラビ
ア彫刻の無い平坦な部分９のグラビアロールの軸方向の
寸法が、マスク８のグラビアロール６と接触する部分の
寸法と同じであり、図５（ａ）および（ｂ）においては
グラビアロール６に設けられたグラビア彫刻の無い平坦
な部分９のグラビアロールの軸方向の寸法が、マスク８
のグラビアロール６と接触する部分の寸法よりも大きく
したもので、いずれも、マスク８と接触する部分のグラ
ビアロール６表面はすべてグラビア彫刻の無い平坦な部
分９となり、接触するマスク８のエッジ部分に生じる液
溜りがほとんどなくなり、ストライプ状の塗布膜のエッ
ジ部分の塗布厚みを低くする作用をもつ。
【００１２】
【実施例】次に、本発明の具体例を説明する。
【００１３】（実施例１）表面全面にメッシュ数が２０
０メッシュ，深度が２５μｍ，形状がピラミッド形状か
らなるグラビア彫刻を施した、直径６０ｍｍ面長６００
ｍｍのグラビアロールを用い、グラビアロール軸方向の
寸法が１ｍｍ，厚さが２０μｍのステンレス製のマスク
を、グラビアロール軸方向に１０ｍｍの間隔で４８本，
グラビアロールに対する抱き角度３０度で設け、グラビ
アロールの回転数は２００ｒ／ｍとし、余剰液の掻き取
りには厚さ０．１５ｍｍのスエーデン鋼製のドクターブ
レードを用いた構成とし、塗布液には紫外線硬化型のア
クリレート樹脂を溶剤に希釈せずに、被塗布物には厚さ
５μｍ，幅５００ｍｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを用い塗布速度５０ｍ／分で長さ２０００ｍを塗
布し外径１７０ｍｍの円筒形の芯に巻き取った。このと
きの塗布厚みは、１本のストライプの幅方向中央部分は
２．０μｍで、エッジ部分は２．５μｍであった。ま
た、マスクによって形成される非塗布部分で有るべきフ
ィルムの表面への塗布液の付着は全く無かった。
０メッシュ，深度が２５μｍ，形状がピラミッド形状か
らなるグラビア彫刻を施した、直径６０ｍｍ面長６００
ｍｍのグラビアロールを用い、グラビアロール軸方向の
寸法が１ｍｍ，厚さが２０μｍのステンレス製のマスク
を、グラビアロール軸方向に１０ｍｍの間隔で４８本，
グラビアロールに対する抱き角度３０度で設け、グラビ
アロールの回転数は２００ｒ／ｍとし、余剰液の掻き取
りには厚さ０．１５ｍｍのスエーデン鋼製のドクターブ
レードを用いた構成とし、塗布液には紫外線硬化型のア
クリレート樹脂を溶剤に希釈せずに、被塗布物には厚さ
５μｍ，幅５００ｍｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを用い塗布速度５０ｍ／分で長さ２０００ｍを塗
布し外径１７０ｍｍの円筒形の芯に巻き取った。このと
きの塗布厚みは、１本のストライプの幅方向中央部分は
２．０μｍで、エッジ部分は２．５μｍであった。ま
た、マスクによって形成される非塗布部分で有るべきフ
ィルムの表面への塗布液の付着は全く無かった。
【００１４】比較として、マスクを設けずにグラビアロ
ールにグラビアロール軸方向の寸法が１ｍｍ，深さが１
ｍｍの溝を設け、その形状寸法に合わせたドクターブレ
ードを用いた以外は、実施例１と同じ構成，条件で塗布
した塗布膜の塗布厚みは、１本のストライプの幅方向の
中央部分は２．０μｍで、エッジ部分は３．０μｍであ
った。
ールにグラビアロール軸方向の寸法が１ｍｍ，深さが１
ｍｍの溝を設け、その形状寸法に合わせたドクターブレ
ードを用いた以外は、実施例１と同じ構成，条件で塗布
した塗布膜の塗布厚みは、１本のストライプの幅方向の
中央部分は２．０μｍで、エッジ部分は３．０μｍであ
った。
【００１５】（実施例２）マスクと接するグラビアロー
ルの表面部分を、グラビアロール軸方向の寸法が０．８
ｍｍとなるようにグラビア彫刻の無い平坦な状態にした
以外は実施例１と同じ構成，条件で塗布した。このとき
の塗布厚みは、１本のストライプの幅方向の中央部分は
２．０μｍで、エッジ部分は２．３μｍであった。ま
た、マスクによって形成される、非塗布部分で有るべき
ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面への塗布液
の付着は全く無かった。
ルの表面部分を、グラビアロール軸方向の寸法が０．８
ｍｍとなるようにグラビア彫刻の無い平坦な状態にした
以外は実施例１と同じ構成，条件で塗布した。このとき
の塗布厚みは、１本のストライプの幅方向の中央部分は
２．０μｍで、エッジ部分は２．３μｍであった。ま
た、マスクによって形成される、非塗布部分で有るべき
ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面への塗布液
の付着は全く無かった。
【００１６】（実施例３）マスクと接するグラビアロー
ルの表面部分を、グラビアロール軸方向の寸法が１．１
ｍｍとなるようにグラビア彫刻の無い平坦な状態にした
以外は実施例１と同じ構成，条件で塗布した。このとき
の塗布厚みは、１本のストライプの幅方向の中央部分は
２．０μｍで、エッジ部分は２．１μｍであった。ま
た、マスクによって形成される、非塗布部分で有るべき
ポリエチレンテレフタレートフィィルムの表面への塗布
液の付着は全く無かった。
ルの表面部分を、グラビアロール軸方向の寸法が１．１
ｍｍとなるようにグラビア彫刻の無い平坦な状態にした
以外は実施例１と同じ構成，条件で塗布した。このとき
の塗布厚みは、１本のストライプの幅方向の中央部分は
２．０μｍで、エッジ部分は２．１μｍであった。ま
た、マスクによって形成される、非塗布部分で有るべき
ポリエチレンテレフタレートフィィルムの表面への塗布
液の付着は全く無かった。
【００１７】
【発明の効果】以上のように、被塗布物とグラビアロー
ルの間にマスクを設けることによって、ストライプ１本
の幅方向の中央部分の塗布厚みに対しエッジ部分の塗布
厚みが極端に厚くならず、円筒状の芯に巻き取った状態
で、塗布厚みが局部的に極端に厚くなる事によって起こ
る被塗布物の伸びによる寸法精度の悪化や、被塗布物の
破損が解消され、また、非塗布部分であるべき被塗布物
の表面への塗布液の付着の無いストライプ状の塗布膜が
得られることにより、金属箔表面や、または紙やプラス
チックフィルム等の支持体の表面に金属薄膜を形成し、
その金属薄膜表面に絶縁体や誘電体を目的としてストラ
イプ状に塗布液を塗布し、ストライプ状の金属表面が露
出している部分と電気的なコンタクトを取ろうとした場
合、コンタクト部分の抵抗が高くなったり、全くコンタ
クトが取れない等の問題点が解消される。
ルの間にマスクを設けることによって、ストライプ１本
の幅方向の中央部分の塗布厚みに対しエッジ部分の塗布
厚みが極端に厚くならず、円筒状の芯に巻き取った状態
で、塗布厚みが局部的に極端に厚くなる事によって起こ
る被塗布物の伸びによる寸法精度の悪化や、被塗布物の
破損が解消され、また、非塗布部分であるべき被塗布物
の表面への塗布液の付着の無いストライプ状の塗布膜が
得られることにより、金属箔表面や、または紙やプラス
チックフィルム等の支持体の表面に金属薄膜を形成し、
その金属薄膜表面に絶縁体や誘電体を目的としてストラ
イプ状に塗布液を塗布し、ストライプ状の金属表面が露
出している部分と電気的なコンタクトを取ろうとした場
合、コンタクト部分の抵抗が高くなったり、全くコンタ
クトが取れない等の問題点が解消される。
【００１８】本発明においては、マスクと接触する部分
のグラビアロールの円周方向に、グラビア彫刻の無い平
坦な部分を設けることにより、ストライプ１本の幅方向
の中央部分の塗布厚みに対しエッジ部分の塗布厚みの厚
くなる程度がより軽減される効果が得られる。
のグラビアロールの円周方向に、グラビア彫刻の無い平
坦な部分を設けることにより、ストライプ１本の幅方向
の中央部分の塗布厚みに対しエッジ部分の塗布厚みの厚
くなる程度がより軽減される効果が得られる。
【００１９】さらに、グラビア彫刻がない平坦な部分
を、マスクとグラビアロールとの接触部分のグラビアロ
ール軸方向の寸法に対し同じかそれ以上の寸法にし、マ
スクがグラビアロールのグラビア彫刻がない平坦な部分
の中にあるようにすることで、ストライプ１本の幅方向
の中央部分の塗布厚みとエッジ部分の塗布厚みをほとん
ど同じにする効果が得られる。
を、マスクとグラビアロールとの接触部分のグラビアロ
ール軸方向の寸法に対し同じかそれ以上の寸法にし、マ
スクがグラビアロールのグラビア彫刻がない平坦な部分
の中にあるようにすることで、ストライプ１本の幅方向
の中央部分の塗布厚みとエッジ部分の塗布厚みをほとん
ど同じにする効果が得られる。
【００２０】なお、実施例に記載のグラビアロールや、
ドクターブレードなどの仕様、被塗布物や塗布液などの
材料、および塗布条件は実施の一例であり、これに限ら
れるものではない。
ドクターブレードなどの仕様、被塗布物や塗布液などの
材料、および塗布条件は実施の一例であり、これに限ら
れるものではない。
【図１】本発明の実施の形態１による塗布方法の斜視図
【図２】本発明の実施の形態１による塗布方法の側面図
【図３】本発明の実施の形態１による塗布方法の正面図
【図４】本発明の実施の形態２によるグラビアロールと
マスクの説明図
マスクの説明図
【図５】（ａ）（ｂ）本発明の実施の形態２によるグラ
ビアロールとマスクの説明図
ビアロールとマスクの説明図
【図６】従来の塗布方法の斜視図
【図７】従来の塗布方法による塗布状態を示した断面図
【図８】従来の塗布方法による非塗布物を巻き取った状
態の図
態の図
【図９】図７とは異なる従来の塗布方法の斜視図
【図１０】図９の従来の塗布方法による塗布状態を示し
た断面図
た断面図
１ 被塗布物 ６ グラビアロール ８ マスク ９ グラビア彫刻の無い平坦な部分
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤原 尚 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 一家 敏文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平５−220847（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−48356（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B05D 1/32 B05C 1/08 B05D 1/28
Claims (2)
- 【請求項１】 連続して搬送される一方の面が自由状態
にある被塗布物と、表面に塗布液を付着させた被塗布物
の搬送方向に対し順方向あるいは逆方向に回転するグラ
ビアロールの間のグラビアロールの軸方向の一部、ある
いは複数部分にマスクを設けて被塗布物とグラビアロー
ルを接触させることを特徴とする、被塗布物の一部ある
いは複数部分に長手方向に連続した非塗布部分を形成す
るための塗布方法であって、グラビアロール表面のマス
クと接触する部分の円周方向にグラビア彫刻が無い平坦
な部分を設けたグラビアロールを用いたことを特徴とす
る塗布方法。 - 【請求項２】 グラビア彫刻がない平坦な部分が、マス
クとグラビアロールとの接触部分のグラビアロール軸方
向の寸法に対し同じかそれ以上の寸法であり、マスクが
グラビアロールのグラビア彫刻がない平坦な部分の中に
あることを特徴とする請求項１記載の塗布方法。
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