JP2014170792A - 加熱装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の加熱装置は、気密チャンバ8と、この気密チャンバ8に設けた、レーザ光を透過せしめるレーザ光透過窓10と、上記気密チャンバ8内に設けた被加熱物支持部18と、上記気密チャンバ8の外部から上記レーザ光透過窓10を通して、上記被加熱物支持部18により支持した被加熱物17上にレーザ光を照射するレーザ照射手段とよりなり、上記被加熱物支持部18は、上記気密チャンバ8内に設けた、少なくとも3つの突起部とよりなり、上記少なくとも3つの突起部により上記被加熱物17を支持することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
2 基板
3 基板載置部
4 レーザ光透過窓
5 マスフロー
6 排気ポンプ
7 バルブ
8 気密チャンバ
9 開口部
10 レーザ光透過窓
11 蓋
12 ホルダ
12a 光学レンズ系ホルダ部
12b 光ファイバホルダ部
13 光学レンズ系
14 半導体レーザ発振器
15 レーザ光集光手段
16 光ファイバ
17 被加熱物
18 被加熱物支持部
18´ 被加熱物支持部
19 放射温度計
20 搬送口
21 ガス導入口
22 ガス排気口
23 支柱
24 水平アーム
24a 先端面
24b 頂部
25 柱体
25a 頂部
26 段部
27 柱体
27a 平面部
27b 傾斜部
27c 平面部
27d 頂部
28 段部
29 突起部
30 突起部
31 突起部
32 突起部
Claims (9)
- 気密チャンバと、この気密チャンバに設けた、レーザ光を透過せしめるレーザ光透過窓と、上記気密チャンバ内に設けた被加熱物支持部と、上記気密チャンバの外部から上記レーザ光透過窓を通して、上記被加熱物支持部により支持した被加熱物上にレーザ光を照射するレーザ照射手段とよりなり、
上記被加熱物支持部は、上記気密チャンバ内に設けた、少なくとも3つの突起部とよりなり、上記少なくとも3つの突起部により上記被加熱物を支持することを特徴とする加熱装置。 - 上記各突起部は、支持される被加熱物に向かって水平方向にそれぞれ延びる柱体であり、この各柱体の周側部上に、上記被加熱物の縁部下面を載置することにより、上記被加熱物を上記被加熱物支持部に支持させることを特徴とする請求項1記載の加熱装置。
- 上記柱体は、円柱又は三角柱であることを特徴とする請求項2記載の加熱装置。
- 上記各突起部は、上方に突出した柱体であり、上記各柱体の上端面に、上記被加熱物を載置することにより、上記被加熱物を上記被加熱物支持部に支持させることを特徴とする請求項1記載の加熱装置。
- 上記柱体は、半球または錐体であることを特徴とする請求項4記載の加熱装置。
- 上記各突起部に、支持される被加熱物側に向かって傾斜した傾斜面を有するセンタリング部材を設け、このセンタリング部材により、上記支持される被加熱物がセンタリングされることを特徴とする請求項1、2、3、4又は5記載の加熱装置。
- 上記傾斜面は凸状にV字状に形成されていることを特徴とする請求項6記載の加熱装置。
- 上記レーザ照射手段は、レーザ発振器と、このレーザ発振器と被加熱物との間に介挿した光学レンズ系とよりなり、
上記光学レンズ系は、上記レーザ発振器からのレーザ光を上記被加熱物の形状に合致した形状で上記被加熱物に照射するように形成されていることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6又は7記載の加熱装置。 - 上記光学レンズ系は、非球面レンズよりなることを特徴とする請求項8記載の加熱装置。
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